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Fターム[4G077HA07]の内容

結晶、結晶のための後処理 (61,211) | 用途 (7,550) | 電気材料 (1,647) | イオン導電材 (1)

Fターム[4G077HA07]に分類される特許

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【課題】シリコンの針状構造物を得る。
【解決手段】金属基板上にLPCVD法により結晶性シリコン領域を形成すると、{111}面を双晶面とし、<110>方向、もしくは<211>方向に成長する多結晶体よりなるウィスカ状結晶性シリコンが得られる。ウィスカ状結晶性シリコンは、双晶を形成しながら(積層欠陥を導入しながら)成長し、ウィスカ状結晶性シリコン成長方向と垂直な面内(輪切り面内)に双晶面の法線方向<111>が必ず含まれるように初期核が配置される。このような材料をリチウムイオン二次電池の負極活物質や太陽電池等の光電変換装置として用いる。 (もっと読む)


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