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Fターム[4G077TE00]の内容

結晶、結晶のための後処理 (61,211) | 反応室又は基板の加熱 (117)

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【課題】ヒータ寿命が長く、且つ、到達温度が高い結晶成長装置を実現する。
【解決手段】結晶基板支持部10は、蓋部12と、アルミナスリーブ14と、石英管16と、を備えている。蓋部12の上には結晶基板100が載置され、上方から原料ガスが導入される。アルミナスリーブ14は、円筒状をなしており、その円筒の一方端には蓋部12が配置される。さらにこの一方端の内部には第1の平面ヒータ18aと、第2の平面ヒータ18bとが重畳して取り付けられている。第1の平面ヒータ18aと第2の平面ヒータ18bとは電気的に直列に接続されており、同じ電力の場合、電流値を小さく電圧値を大きくすることができる。電流値が小さくなるので、電源コード等を細くすることができ、さらに水銀接点等の発熱を抑制できる。さらに、平面ヒータ18を2枚で構成したので、発生する熱量をより多くすることができ、高温をより容易に実現可能である。 (もっと読む)


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