【課題】 磁気ディスク基板表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を有すると共に基板表面から脱離したパーティクルの分散性も良好であり、優れたパーティクルの除去性を実現し、製造時における歩留まり率の向上や短時間での洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする磁気ディスク用基板洗浄剤を提供する。
【解決手段】 分子内に少なくとも４個のホスホン酸基を有するキレート剤（Ａ）を含有してなる磁気ディスク基板用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】
コンタクトレンズの眼球接触側に付着したタンパク質や脂質などの汚れを洗浄し、かつこの汚れの再付着を防止する洗浄剤を提供する。
【解決手段】
下記一般式（１）で表されるメルカプトアルキルスルホン酸塩（Ａ）を必須成分とすることを特徴とするコンタクトレンズ用洗浄剤。
ＨＳ−（ＣＨ₂）n−ＳＯ₃^-・Ｂ⁺ （１）
（式中、ｎは１〜２４の整数を表し、Ｂは塩基を表す。） （もっと読む）

【課題】 各種飲食料品の製造設備に付着したフレーバー、特にパッキン等に付着したフレーバーを効率よく除去し、且つ溶液安定性が良好な洗浄剤組成物、特にＣＩＰ洗浄に用いられるＣＩＰ洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】 （１）Ｒ−ＣＯ−ＯＨで表される脂肪酸、(２)Ｒ−Ｏ（ＥＯ）_n（ＣＨ₂）_m−ＣＯ−ＯＨで表されるエーテルカルボン酸、（３）ＣＨ₂（ＯＲ¹）−ＣＨ（ＯＲ²）−ＣＨ₂（ＯＲ³）で表されるトリグリセライドまたはジグリセライドおよび(４)Ｒ⁴−ＣＯ−Ｏ−Ｒ⁵で表される脂肪酸エステルの群から選択される一種または複数種と、非イオン界面活性剤の少なくとも一種と、水とを含有するＣＩＰ洗浄剤組成物を用いる。 （もっと読む）