【課題】高純度のＮ−アルキルボラジンを製造しうる手段を提供する。
【解決手段】ボラン（ＢＨ_３）錯体またはジボラン（Ｂ_２Ｈ_６）と、ＲＣＮ（Ｒは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、またはアラルキル基である）で表されるニトリルとを反応させてＮ−アルキルボラジンを合成する段階を有し、水分含量が１質量％以下の前記ニトリルが反応に用いられることを特徴とする、Ｎ−アルキルボラジンの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】ボラジン化合物の製造を、高い収率でかつ、安定的に再現性よく実施する。
【解決手段】ホウ素化合物ＡＢＨ_４（Ａは、リチウム原子、ナトリウム原子またはカリウム原子である）で表される水素化ホウ素アルカリと、（ＲＮＨ_３）_nＸ（Ｒは水素原子またはアルキル基であり、Ｘはハロゲン原子または硫酸基であり、ｎは１または２である）で表されるアミン塩とを溶媒中で反応させてボラジン化合物を製造する方法において使用できる、水酸基価が１０以下であるボラジン化合物製造用溶媒。 （もっと読む）

【課題】Ｎ−アルキルボラジンの製造の際に、合成の終了後の蒸留精製時に蒸留装置の冷却部に析出物が付着する問題を解決し、生産性を向上させる手段を提供する。
【解決手段】ＡＢＨ_４（Ａは、リチウム原子、ナトリウム原子またはカリウム原子である）で表される水素化ホウ素アルカリと、（ＲＮＨ_３）_ｎＸ（Ｒはアルキル基であり、Ｘは硫酸基またはハロゲン原子であり、ｎは１または２である）で表されるアミン塩とを、溶媒中で反応させてＮ−アルキルボラジンを合成する工程を含むＮ−アルキルボラジンの製造方法であって、前記Ｎ−アルキルボラジンを含む液であり、かつＲＮＨ_２−ＢＨ_３（Ｒはアルキル基である）で表されるアミンボランの含有量が前記Ｎ−アルキルボラジンに対して３ｍｏｌ％以下である液を蒸留することによってＮ−アルキルボラジンを精製する工程を含む、Ｎ−アルキルボラジンの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】不斉銅錯体結晶の工業的に有利な製造方法を提供すること。
【解決手段】式（１）


（式中、Ｒ^１はアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、Ｒ^２は置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよいフェニル基を表し、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ同一または相異なって、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、アルキル基、フルオロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、トリアルキルシリル基またはシアノ基を表す。また、＊は該炭素原子が光学活性点であることを表す。）
で示される光学活性なサリチリデンアミノアルコール化合物と銅化合物を反応させた後、アルコール溶媒の存在下で晶析処理を行うことを特徴とする不斉銅錯体結晶の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 水素化ホウ素アルカリとアルキルアミン塩との反応によりＮ−アルキルボラジンを製造する際に、水素ガスの発生量を制御する手段を提供する。
【解決手段】 反応容器中にＡＢＨ_４（Ａは、リチウム原子、ナトリウム原子またはカリウム原子である）で表される水素化ホウ素アルカリを仕込む段階と、前記反応容器に、ＲＮＨ_３Ｘ（Ｒはアルキル基であり、Ｘはハロゲン原子である）で表されるアルキルアミン塩を徐々に供給して、溶媒中で水素化ホウ素アルカリとアルキルアミン塩とを反応させる段階とを含む、Ｎ−アルキルボラジンの製造方法である。アルキルアミン塩が仕込まれた反応容器に、水素化ホウ素アルカリが供給されてもよい。また、水素化ホウ素アルカリおよびアルキルアミン塩を、それぞれ反応容器に供給してもよい。 （もっと読む）

【課題】 Ｎ−アルキルボラジンに含まれるＮ−アルキルシクロボラザンやボロンエーテル化合物を除去する手段を提供する。
【解決手段】 Ｎ−アルキルボラジンを蒸留精製する段階と、Ｎ−アルキルボラジン中に析出した化合物を濾過により除去する段階とを含む、純度９９．９質量％以上のＮ−アルキルボラジンの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】従来法より安全で収率良く４−ピリジルボロン酸類を製造する方法を提供すること。
【解決手段】 アルキルリチウムの存在下で、式（１）：
【化１】


（式中、Ｘはハロゲン原子を表す。）で示される４−ハロゲノピリジンと式（２）：
【化２】


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３はアルキル基等を表す。）で示されるトリアルコキシボラン類とを反応させ、次いで得られた反応混合物を酸加水分解処理して４−ピリジルボロン酸類を製造する方法において、式（１）で示される４−ハロゲノピリジンとして、当該４−ハロゲノピリジンの酸塩を塩基で中和後、有機溶媒で抽出して得られる４−ハロゲノピリジン含有の有機溶媒を用いる際に、有機溶媒が芳香族炭化水素類であることを特徴とする４−ピリジルボロン酸類の製造法。
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