Fターム[4K029JA01]の内容
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回転機構 (957)
Fターム[4K029JA01]に分類される特許
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厚さを非常に均一にできる蒸発源
真空チェンバーの中でOLEDデバイスの基板に有機層をコーティングするのに用いる蒸着源であって、有機材料を収容するチェンバーを画定する側壁及び底部壁並びに該側壁間に配置された開口プレート(40)を含み、該開口プレートが、気化した有機材料を放出させるための互いに離れた複数の開口部(90)を有するマニホールド(60)を含み;上記開口プレートは、電流に応答して熱を発生させる導電性材料を含み;上記有機材料をその気化温度に加熱するとともに、上記マニホールドの側壁を加熱する手段を含み;上記開口プレートを上記側壁にカップリングさせて、上記開口プレートの該開口部に隣接する支持されていない領域に熱を集める電気的絶縁体(120)を含むことにより、上記開口プレートと上記基板との間の距離を小さくして基板上のコーティングの厚さの均一性を高くすることができる蒸着源。
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流動化した有機材料の気化
有機材料を気化させて表面に膜を形成する方法であって、所定量の流動化した粉末形態の有機材料を供給し;その粉末化した有機材料を計量し、流動化した粉末流として第1の部材の上に誘導し;その第1の部材を加熱して流動化した上記粉末流を気化させ;気化した有機材料をマニホールド内に回収し;そのマニホールドに通じている少なくとも1つの開口部が形成された第2の部材を用意し、気化した有機材料をその第2の部材によって上記表面に誘導して膜を形成する操作を含む方法。
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アルミニウム合金製の部品をイオン注入によって窒化処理する装置および、そのような装置を利用する方法
本発明は、アルミニウム合金製の部品(5)へのイオン注入装置に関するものであって、該装置は、抽出圧力によって加速されたイオンを放出するイオン源(6)と、前記源(6)によって発信された初期イオンビーム(f1’)の、注入ビーム(f1)への第一の調整手段(7−11)とを有する。前記源(6)は、部品(5)内に120℃を下回る温度で注入されるマルチエネルギーイオンの初期ビーム(f1’)を生産する、電子サイクロトロン共鳴源である。前記調整手段(7−11)を介して調整された注入ビーム(f1)の、これらのマルチエネルギーイオンの注入は、源の抽出圧力によってコントロールされた深さに同時に実施される。
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