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Fターム[4M113AC36]の内容

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Fターム[4M113AC36]に分類される特許

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【課題】良好な超電導特性の酸化物超電導導体を提供可能な酸化物超電導導体用基材、及び該酸化物超電導導体用基材を工程時間を短縮して効率的に製造することができる酸化物超電導導体用基材の製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、良好な超電導特性の酸化物超電導導体及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の酸化物超電導導体用基材10は、金属基材1上に、第1拡散防止層11と、第2拡散防止層12と、第3拡散防止層13と、イオンビームアシスト蒸着法により成膜された中間層4とがこの順に設けられてなり、第2拡散防止層12の表面粗さRaが、金属基材1の表面粗さRaよりも低く設定されてなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】超伝導電極層としてMgB2、接合部にInGaAsチャネル層を用い、第三電極を用いて超伝導電流を制御する半導体結合超伝導三端子素子において、超伝導電極層の成長時のMgのInGaAsチャネル層への拡散を抑制し、接合特性を改善した半導体結合超伝導三端子素子を提供することにある。
【解決手段】超伝導電流のチャネル層となるInGaAs層とソース電極となる第1のMgB2超伝導電極層及びドレイン電極となる第2のMgB2超伝導電極層とその二つの超伝導電極間のInGaAs層中に流れる超伝導電流を制御する第三電極とを有する半導体結合超伝導三端子素子において、MgB2超伝導電極層1,2とInGaAsチャネル層6との層間にAu層6が挿入された。 (もっと読む)


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