説明

Fターム[4M118FA34]の内容

固体撮像素子 (108,909) | CCD、MOS型固体撮像素子の細部 (13,257) | 受光部から転送部への電荷移送 (3,593) | 素子形態 (3,076) | MOSゲート (3,041) | 蓄積部を介する (247)

Fターム[4M118FA34]に分類される特許

1 - 20 / 247



【課題】高画質な画像を取得することができる固体撮像装置を提供する。
【解決手段】光電変換部21と電荷保持部23との間の、第1転送ゲート22により制御可能な第1転送経路150と、光電変換部21と電荷保持部23との間の、第1転送ゲート22により制御されない第2転送経路140とを備える。空乏状態において、第1転送経路150の電位は、第2転送経路140より低い電位で、かつ、光電変換部21及び電荷保持部23からみた第1転送経路150及び第2転送経路140以外の障壁より高い電位である。 (もっと読む)


【課題】蓄積期間の同時性を持った良好な画像を得るため、有効な画素数を損なうことなく偽信号を低減でき、かつ、画素面積の縮小化が図られたグローバルシャッタ機能を有する固体撮像装置を提供する。また、その固体撮像装置を用いた電子機器を提供する。
【解決手段】グローバルシャッタ機能を有する固体撮像装置において、全画素同時の露光期間が終了した後、低照度信号を第2電荷蓄積部28に転送し、高照度信号を第1電荷蓄積部に転送する。そして、低照度信号、及び高照度信号の読み出しの前に、第3電荷蓄積部18の偽信号を読み出す。この偽信号を用いて低照度信号及び高照度信号の信号量を補正することにより、偽信号が低減された精度のよい画像を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】電荷の転送効率を向上させることができる固体撮像装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】実施形態に係る固体撮像装置の製造方法は、ゲート電極20を形成する工程、第2の不純物層17を形成する工程、および第3の不純物層18を形成する工程、を具備する。ゲート電極20は、P型のウェル16を表面に有する半導体基板15上に形成される。第2の不純物層17はN+型であって、ゲート電極20の位置を基準にして、ゲート電極20の端部20aを貫通する条件で半導体基板15の表面に対して斜め方向からウェル16に不純物を注入することにより形成されるものである。第2の不純物層17は、ウェル16と接合することによってフォトダイオードを構成し、第2の不純物層17の端部17aは、ゲート電極20の端部20aの下に配置される。第3の不純物層18は、P+型であって、ゲート電極20から露出した第2の不純物層17の表面に形成される。 (もっと読む)


【課題】グローバルシャッタ機能を有する固体撮像装置を備える電子機器において、画素の回路を複数画素で共有し、画素の小型化が図られた電子機器を提供することを目的とする。
【解決手段】グローバルシャッタ機能を有する固体撮像装置1を備える電子機器50において、固体撮像装置1は、複数の画素で複数の画素トランジスタを共有する画素アレイ部を備える。そして、電子機器50は、静止画の撮影において露光期間の終了時を決定するメカニカルシャッタ61を備える。これにより、蓄積部が複数画素で共有されているにも関わらずグローバルシャッタ可能な、小型高解像度の電子機器が提供できる。 (もっと読む)


【課題】 遮光膜を有する固体撮像装置の光学特性を維持しつつ、歩留まりを向上させる製造方法を提供すること。
【解決手段】 画素部と周辺回路部とを有する固体撮像装置の製造方法であって、画素部と周辺回路部に第1の絶縁膜を形成する工程と、第1の絶縁膜の上に第2の絶縁膜を形成する工程と、光電変換部の第2の絶縁膜をエッチングする工程とを有する。そして、固体撮像装置の製造方法は、光電変換部のエッチングされた第2の絶縁膜と周辺回路部の第2の絶縁膜の上に金属膜を形成する工程と、周辺回路部の金属膜を除去し光電変換部に金属膜から遮光膜を形成する工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】 遮光性能を向上させた電荷保持部を有する固体撮像装置、及びそれを用いた撮像システムを提供する。
【解決手段】 半導体基板に配された光電変換部と、電荷保持部と、フローティングディフュージョン部と、半導体基板上に配され、光電変換部と電荷保持部との間に配された第1のゲート電極と、半導体基板上に配され、電荷保持部とフローティングディフュージョン部との間に配された第2のゲート電極と、を有する固体撮像装置において、電荷保持部の上と、少なくとも第1のゲート電極と第2のゲート電極のいずれかの上に配された第1の部分と、第1のゲート電極と第2のゲート電極との間に配され、前記半導体基板の表面側に前記第1部分から延在した第2の部分とによって構成される遮光部を有する。 (もっと読む)


【課題】半導体基板の深部に存在する光電子が、熱拡散により半導体基板の表面側に浸入することを防ぐことが可能な受光装置を提供する。
【解決手段】光電変換素子が第1導電型半導体基板上に形成された受光装置は、前記第1導電型半導体基板上に形成された複数の光電子振分部を有し、前記光電子振分部は、前記光電変換素子に発生した前記光電子を転送するための第1転送部と、前記光電変換素子により発生した前記光電子を一時的に保持する光電子保持部と、前記光電子保持部が保持した前記光電子を転送するための第2転送部と、転送された前記光電子を保持して該転送された前記光電子を電圧に変換させるための浮遊拡散層とを備え、前記光電子保持部には、前記第1導電型半導体基板の第1導電型不純物濃度よりも高い第1濃度の前記第1導電型の第1導電型不純物領域が、前記第1導電型半導体基板の表面側に形成されている。 (もっと読む)


【課題】光源の強度や環境光に依存しない信頼性の高い距離情報を取得することができる測距システムを提供する。
【解決手段】照射装置と固体撮像装置と演算部とを備える測距システムであって、前記固体撮像装置は、第1照射タイミングで照射された照射光の反射光を第1受光期間及び第2受光期間で受光するとともに、第2照射タイミングで照射された前記照射光の前記反射光を、第3受光期間及び第4受光期間でそれぞれ受光し、前記演算部は、前記第1受光期間〜前記第4受光期間で得られた光電子数を用いて、測距対象までの距離を算出し、前記第1受光期間及び前記第3受光期間は、前記反射光が前記固体撮像装置に到達してから該反射光の強度が最大になるまでの時間を含み、前記第2受光期間及び前記第4受光期間は、前記固体撮像装置に到達する前記反射光の強度が減少してから該反射光の前記固体撮像装置への到達が終了するまでの時間を含む。 (もっと読む)


【課題】光電変換素子で発生した光電子の転送の際に、光電変換素子に残留する光電子数を軽減させるとともに、光電子の転送の高速化を図る固体撮像装置を提供する。
【解決手段】光を検知して光電子を発生する光電変換素子を有する単位画素と、前記単位画素を駆動する画素駆動部と、を備え、前記光電変換素子は、フォトゲート構造により形成され、前記画素駆動部は、3値の電圧のうち、いずれかの電圧を前記光電変換素子のフォトゲートに印加させることで、前記光電子の発生、転送を行い、前記3値の電圧は、少なくとも、第1電圧と、前記第1電圧より高い第2電圧と、前記第1電圧より大きく且つ前記第2電圧より小さい第3電圧とを有する。 (もっと読む)


【課題】過大光が入射しても故障しない積層型の固体撮像素子を提供する。
【解決手段】固体撮像素子100は、基板10上方の光電変換部Pと、光電変換部Pで発生した電荷に応じた信号を読みだす回路Sとを含む画素101を複数有する。回路Sは、基板10内に形成され画素電極21に移動した正孔が蓄積される電荷蓄積部10と、電荷蓄積部10の電位に応じた信号を出力する出力トランジスタ32とを含む。電荷蓄積部10は、画素電極21と電気的に接続される電荷蓄積領域11と、領域11の隣に離間して形成される電荷蓄積領域13と、領域11と領域13とを、断面ポテンシャルにおいて、所定の電位よりも高い電位においては電気的に分離し、前記所定の電位以下の電位においては電気的に接続する領域12とにより構成され、出力トランジスタ32は領域13の電位に応じた信号を出力する。 (もっと読む)


【課題】光電変換素子が発生した光電子を4方向に振り分けて読み出すことができるとともに、リセットノイズを正確に除去することができる単位画素及び固体撮像装置並びに単位画素の信号加算方法を提供する。
【解決手段】光を検知して光電子に変換する光電変換素子を有する受光装置を備える単位画素であって、前記受光装置は、前記光電変換素子に発生した前記光電子を転送するための第1転送部と、前記光電変換素子により発生した前記光電子を一時的に保持する光電子保持部と、前記光電子保持部が保持した前記光電子を転送するための第2転送部と、転送された前記光電子を保持して該転送された前記光電子を電圧に変換させるための浮遊拡散層とを含む複数の光電子振分部を有し、前記単位画素は、前記浮遊拡散層の電位を基準電位にリセットするためのリセット用トランジスタと、前記光電変換素子に発生した前記光電子を排出する光電子排出部とを備える。 (もっと読む)


【課題】画素の駆動精度を低下させることなく、高速に連続してグローバルシャッタ動作を行う固体撮像装置を提供する。
【解決手段】光電変換素子を有する単位画素が1次元又は2次元に配列された画素アレイと、前記単位画素に与えられる信号電圧を選択的に切り換える切換スイッチと、第1信号電圧、第1信号電圧より高い第2信号電圧、及びその第3信号電圧を、前記切換スイッチを切り換えて選択的に前記単位画素に印加して前記単位画素を駆動する画素駆動部とを備え、前記画素駆動部は、前記第1信号電圧と前記第2信号電圧とを交互に前記複数の単位画素に印加するとともに、前記第1信号電圧から前記第2信号電圧に切り換える際、及び、前記第2信号電圧から前記第1信号電圧に切り換える際に、前記単位画素に前記第3信号電圧を経由して印加することで、複数の前記単位画素の前記光電変換素子に発生する前記光電子の蓄積、保持、転送、リセット、排出のいずれかを一斉に行う。 (もっと読む)


【課題】異なる波長帯の各波長帯を検出する感度を向上することができるイメージセンサを提供する。
【解決手段】イメージセンサ100は、半導体基板20と、異なる波長帯を検出可能な2以上の画素1と、2以上の画素1の各々に設けられた3以上の転送電極7とを備えている。2以上の画素1は、第1の画素1aと第2の画素1bとを含んでいる。3以上の転送電極7は、第1の厚みt1を有する第1のゲート電極7a、第1の厚みt1とは異なる第2の厚みt2を有する第2のゲート電極7b、および仮想電極7cを少なくとも含んでいる。第1の画素1a内と第2の画素1b内とにおいて、第1のゲート電極7aのゲート長L1と第2のゲート電極7bのゲート長L2と仮想電極7cのゲート長L3との比率が異なっている。 (もっと読む)


【課題】ラインレートを犠牲にすることなく、飽和電荷量を高めることが可能な固体撮像装置を提供すること。
【解決手段】固体撮像装置1は、光感応領域15と、電位勾配形成領域17と、をそれぞれ有すると共に、所定の方向に交差する方向に沿うように併置された複数の光電変換部3と、光電変換部3にそれぞれ対応し且つ光感応領域15の平面形状を成す他方の短辺側に配置され、対応する光電変換部3の光感応領域15で発生した電荷を蓄積する複数のバッファゲート部5と、複数のバッファゲート部5からそれぞれ転送された電荷を取得し、所定の方向に交差する方向に転送して出力するシフトレジスタ9と、を備え、バッファゲート部5は、所定の方向に沿って配置されると共に所定の方向に向かってポテンシャルを高くするように所定の電位がそれぞれ与えられる少なくとも二つのゲート電極を有する。 (もっと読む)


【課題】動画像に対応したグローバルシャッタ動作を行う。
【解決手段】CMOSイメージセンサの画素アレイ部には、フォトダイオード(PD)61と、PD61に蓄積された電荷を保持するメモリ部(MEM)65と、MEM65の電荷を電圧に変換する浮遊拡散領域(FD)67と、PD61からMEM65に電荷を転送する第1転送ゲート64と、MEM65からFD67に電荷を転送する第2転送ゲート66と、FD67の電荷をリセットするリセットトランジスタ68とを少なくとも備える複数の単位画素50が配列されている。単位画素50は、第1転送ゲート64のオン時に、MEM65とFD67との境界のポテンシャルバリアのポテンシャルを、MEM65から溢れた電荷がFD67に転送されるようなポテンシャルとなるように駆動する。本発明は、例えば、動画像に対応したグローバルシャッタ動作を行うCMOSイメージセンサに適用することができる。 (もっと読む)


【課題】固体撮像装置において隣り合うフォトダイオードを分離する分離領域の幅を小さくする。
【解決手段】第1導電型の半導体基板と、半導体基板の第1の面側に位置する、第2導電型の第2半導体領域と、第2半導体領域内で半導体基板の第1の面側に位置し、第2半導体領域とともに第1のフォトダイオードを構成する第1導電型の第3半導体領域と、半導体基板の第1の面側に位置し、第2半導体領域の隣に位置する第2導電型の第4半導体領域と、第4半導体領域内で半導体基板の第1の面側に位置し、第4半導体領域とともに第2のフォトダイオードを構成する第1導電型の第5半導体領域と、を具備し、第2半導体領域内の第1分離領域及び第4半導体領域内の第2分離領域は、半導体基板の第1の面に垂直な方向に対して傾斜している。 (もっと読む)


【課題】固体撮像装置においてフォトダイオードの面積のばらつきに伴う不都合を抑制しつつ、2つの画素間でリセットトランジスターを共有化する。
【解決手段】第1の色の光を受光する第1のフォトダイオードと、第1のフォトダイオードの第1の方向の隣に配置された第2の色の光を受光する第2のフォトダイオードと、第2のフォトダイオードの第2の方向の隣に配置された第1の色の光を受光する第3のフォトダイオードと、第3のフォトダイオードの第1の方向の隣に配置された第3の色の光を受光する第4のフォトダイオードと、第1及び第2のフォトダイオードにおいて発生した電荷を排出させる第1のリセットトランジスターと、第3及び第4のフォトダイオードにおいて発生した電荷を排出させる第2のリセットトランジスターと、を具備し、第1のフォトダイオードの面積と第3のフォトダイオードの面積との差が小さい。 (もっと読む)


【課題】残像が抑制され、画素の微細化が可能なグローバル電子シャッタを有するMOS型の固体撮像素子を提供する。
【解決手段】2次元状に配列された複数の画素部100を備える固体撮像素子であって、画素部100は、半導体基板1と、入射光を光電変換して信号電荷に変換するPD3と、PD3の隣に形成されるSD4と、SD4の隣に形成されるFD5と、FD5の隣に形成されるリセットドレイン9と、PD3とSD4との間に形成され、信号電荷をPD3からSD4に転送する第1の転送ゲート6と、SD4とFD5との間に形成され、信号電荷をSD4からFD5に転送する第2の転送ゲート7と、FD5とリセットドレイン9との間に形成され、FD5の電荷を排出する第1のリセットゲート8とを備え、SD4は、第2のリセットゲート13を備えたリセットトランジスタのソースに接続されている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、残像を抑制することができるグローバル電子シャッタを有するMOS型の固体撮像素子を提供することを目的とする。
【解決手段】2次元状に配列された複数の画素部100を備える固体撮像素子であって、画素部100は、半導体基板1と、半導体基板1に形成され、入射光を光電変換して信号電荷に変換するPD3と、半導体基板1にかつPD3の隣に形成され、信号電荷を一時蓄積するSD4と、半導体基板1にかつSD4の隣に形成されるFD5と、半導体基板1上に、PD3から信号電荷をSD4に転送する第1の転送ゲート6と、SD4とFD5との間にかつ半導体基板1上に形成され、SD4が一時蓄積している信号電荷をFD5に転送する第2の転送ゲート7とを備え、第1の転送ゲート6は、PD3とSD4との間、及び、SD4の上方に形成されている。 (もっと読む)


1 - 20 / 247