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Fターム[4M119FF02]の内容

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【課題】スピン注入型の磁気ランダムアクセスメモリに関し、より小さいサイズのメモリセル選択トランジスタで効率的な書き込みが可能な磁気ランダムアクセスメモリを提供する。
【解決手段】ビット線24、接続導体層25及びMTJ素子30が形成された層間絶縁膜22上には、層間絶縁膜26が形成されている。層間絶縁膜26には、接続導体層25に接続されたプラグ27と、MTJ素子30に接続されたプラグ28とが埋め込まれている。層間絶縁膜26上には、プラグ27とプラグ28とを電気的に接続する局所内部配線29が形成されている。これにより、MTJ素子30のフリー層側は、プラグ28、局所内部配線29、プラグ27、接続導体層25、プラグ23、接続導体層21、及びプラグ19を介して、n型ドレイン領域16に電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】磁気デバイスを形成する技術を提供する。
【解決手段】一態様では、磁気デバイスに対して自己整合されるビア・ホールを形成する方法が、以下のステップを含む。磁気デバイスの少なくとも一部分の上に誘電体層が形成される。誘電体層は、磁気デバイスに最も近接して、第1材料を含む下層を有し、下層に対して、磁気デバイスとは反対側の面に、第2材料を含む上層を有するように構成されている。第1材料と第2材料とは異なるものである。第1エッチング段階では、第1エッチャントを使用して、上層から開始し上層を貫通して誘電体層をエッチングする。第2エッチング段階では、下層のエッチングに対して選択的な第2エッチャントを使用して、下層を貫通して誘電体層をエッチングする。 (もっと読む)


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