【課題】ｎＡレベルのきわめて小さい電流値の電子線を利用して反射電子像回析パターンを生成することができる反射高速電子回析装置を提供する。
【解決手段】反射高速電子回析装置１０は、真空チャンバーの内部に着脱可能に設置された蒸着源１４ａ〜１４ｃと、試料１１に形成された薄膜に向かって電子線２８を発射する電子銃１５と、薄膜の表面において反射した反射電子から生成される反射電子像回析パターンを映し出す蛍光スクリーン１８と、反射電子を電流増幅するマイクロチャンネルプレート１７ａ，１７ｂとを有する。反射高速電子回析装置１０では、ｎＡのレベルのエミッション電流値の電子線２８を電子銃１５から薄膜に向かって発射する。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバー内にガスを導入し、試料表面でのガス反応を観察する光電子顕微鏡装置において、ガス導入に伴う鏡筒内の真空度の低下を抑制し、高分解能の観測を行えるようにする。
【解決手段】紫外光またはＸ線を試料（４）表面に照射することにより発生する光電子を鏡筒（７）内に配置した電子レンズ系（８、９）により結像して試料（４）の表面を観察する光電子顕微鏡装置において、鏡筒（７）の光電子の取り込み部（７ａ）外側に筒状のオープンチャンバー（１３）を取り付け、このオープンチャンバー（１３）の側面に真空引き用の細孔（１４）を設ける。 （もっと読む）