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Fターム[5C037CD05]の内容

Fターム[5C037CD05]に分類される特許

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【課題】
本発明は、暗電流を抑制し、高感度・高解像度で高S/Nの高品位画像が得られる正孔注入阻止層を含む光導電素子及び撮像デバイスを提供することを課題とする。
【解決手段】
光導電素子は、透光性基板と、前記透光性基板の上に形成される導電膜と、前記導電膜上に形成される正孔注入阻止層と、前記正孔注入阻止層の上に形成される光導電層とを具え、前記正孔注入阻止層は、酸化ガリウムで構成される。 (もっと読む)


【課題】本発明は、光電変換膜のハイライトキズの発生を効果的に抑制し、安定して撮像を行うことができる撮像装置及び撮像方法を提供することを目的とする。
【解決手段】撮像面に入射した光Lを電荷に変換するとともに、該電荷をアバランシェ増倍作用により増加させる光電変換膜23を有し、該光電変換膜に蓄積された電荷を読み取ることにより撮像を行う撮像装置100、100a〜100cであって、
前記撮像を行う前に、前記光電変換膜の前記撮像面に紫外線を照射する紫外線照射手段50を有することを特徴とする。 (もっと読む)


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