【課題】コンパクトで使い勝手が良く、イニシャルコストもランニングコストも安い真空成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜チャンバ（２）内に、ワークホルダ（１０）と、マグネトロン電極（１５）とを設ける。マグネトロン電極（１５）には、第１のターゲット材料（１６）を設け、これに重ね合わせるように第２のターゲット材料（１７）を設ける。第２のターゲット材料（１７、１７）は第１のターゲット材料（１６）をカバーする位置と、開放する位置の２位置を採ることができるようにする。ワークホルダ（１０）と、第１、２のターゲット材料（１６、１７）との間には、直流電圧と高周波電圧とが選択可能に印加されるようにする。 （もっと読む）

【課題】簡単な構造で処理空間内のガス圧力（濃度）分布を制御できる真空処理装置及び真空処理方法を提供する。
【解決手段】減圧雰囲気を維持可能であり、減圧雰囲気中で被処理体３に対しての処理が行われる処理空間１０を内部に有する真空槽１と、真空槽１の壁部１ａを貫通して処理空間１０に通じるガス導入路４と、を備えた真空処理装置であって、ガス導入路４から処理空間１０内へのガス吹き出し方向が、ガス導入路４が設けられた部分近傍の真空槽１内壁面に対して平行もしくは傾いている。 （もっと読む）

【課題】容易に記録層における光学的バンドギャップを調整する方法、光記録媒体、及び光記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】必須成分としてＣ_xＨ_y及びＨ₂を、任意成分としてＮ₂及び／又はＮＨ₃を含む混合ガスを用いてプラズマ反応成膜することで形成される光記録媒体１の記録層７、９における光学的バンドギャップの調整方法であって、前記混合ガスにおけるＨ₂、及び／又は前記任意成分の混合比率を調整することを特徴とする記録層における光学的バンドギャップの調整方法。 （もっと読む）

【課題】読取面がフッ素コーティングされた光ディスクを効率的に生産する。
【解決手段】読取面１０４を上にして光ディスクＤを給材位置１２から除材位置１３に搬送するローラコンベア１４と、ローラコンベア１４に臨み、読取面１０４にフッ素コーティングを行う大気圧プラズマ処理手段１５とを備え、プラズマ処理手段１５の下部電極３３は、ローラコンベア１４の搬送ローラ２６間に配設されている。 （もっと読む）