【課題】データの記録及び消去に必要な電流値がより低く、より多くの回数データを繰り返し書き換えることができる固体メモリの製造方法を実現する。
【解決手段】本発明の固体メモリの製造方法は、相変態により電気特性が変化する記録層を備える固体メモリの製造方法であり、固体状態間で相変態を生じる母相を有する膜を２以上積層させて超格子構造を構成させることにより、上記記録層を形成する記録層形成工程を含含み、上記記録層形成工程を、上記各母相の結晶化層転移温度の中で最も高い温度以上で行う。 （もっと読む）

【課題】微細な凹凸形状を有する光情報媒体用スタンパを歩留まりよく製造すること。
【解決手段】Ｓｉを含有してなり、光情報記録媒体用の凹凸形状が形成された光情報記録媒体用スタンパ原版５０を用いて光情報記録媒体用スタンパ６０を製造する方法である。スタンパ原版５０の凹凸形状が形成された表面に導電層として金属薄膜６１を形成する薄膜形成工程と、金属薄膜６１上に電気メッキをすることで、金属薄膜６１を含む金属板６３を形成するメッキ工程と、金属板６３をスタンパ原版５０から剥離する剥離工程とを有し、薄膜形成工程とメッキ工程の間に少なくとも２．０時間の待機工程を有し、当該待機工程における酸素を有する雰囲気中での待機時間が０時間から１６８時間の範囲にする。 （もっと読む）

【課題】 短波長領域の光による記録再生が可能であり、しかも十分な再生品質を得ることが可能な光記録媒体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 好適な実施形態に係る光記録媒体は、基板２上に、セラミック層３、記録層４、光入射層６及び保護層８がこの順に設けられた構成を有している。そして、反射層であるセラミック層３は、セラミックス材料から構成されている。 （もっと読む）

【課題】ディスク基板の表面に凹凸があっても、均一に製膜することのできるディスク基板の反射膜製造方法を提供する。
【解決手段】スパッタ室内にスパッタリングの対象となるディスク基板を基板ホルダー取り付け、前記ディスク基板に対向して所定の距離をおいて反射膜形成用のＡｇのターゲット材を設け、スパッタ室を所定の負圧になるまで排気してからスパッタリングに必要なガスを前記スパッタ室の中に供給して、所定のガス圧下で、前記ターゲット材に高電圧を印加して、Ａｇ分子を前記ディスク基板にスパッタリングするディスク基板への反射膜製膜方法において、Ａｇの平均自由行程が、前記ターゲット材と前記ディスク基板との間の距離よりも大きくなる条件下で製膜する。 （もっと読む）

【課題】従来の光記録媒体に比べて記録線速対応性がより高く、再生光安定性及び保存安定性にもすぐれ、しかも高感度でＤＶＤメディアへの適用にも十分耐えうる光記録媒体、この光記録媒体に使用される記録材料、この光記録媒体を用いた光記録再生方法を提供すること。
【解決手段】光の照射による結晶相と非晶質相との可逆的な相変化を利用して情報の記録、再生を行う書換えが可能な記録層を有する光記録媒体であって、該記録層がＳｂ、Ｔｅ、Ｇｅ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｎ及びＢｉの中から選ばれた少なくとも２種以上の元素を含み、かつ、下記式（１）で表される元素の組合せを含むことを特徴とする光記録媒体。
Ｓｂ＋ＴｅＭ （１）
（但し、ＭはＳｂとＧｅを必須とする２種以上の元素の混合である） （もっと読む）

【課題】 ＤＶＤ−ＲＯＭ並の高密度、大容量の記録媒体であり、３．５ｍ／ｓ〜５６ｍ／ｓという広範囲かつ高線速でのオーバーライトが可能であり、再生信号において十分な変調度を確保でき、繰り返しオーバーライト特性、及び保存信頼性に優れた相変化型光記録媒体の提供。
【解決手段】 （１）基板上に、少なくとも相変化記録層とその上下に接して設けられた層と反射層とを有する光記録媒体において、相変化記録層とその上下に接して設けられた層から選ばれる少なくとも１層が還元雰囲気下で成膜されている光記録媒体。
（２）基板上に、少なくとも第１保護層、相変化記録層、第２保護層、反射層をこの順に或いは逆順に有する光記録媒体において、相変化記録層と第１保護層と第２保護層から選ばれる少なくとも１層が還元雰囲気下で成膜されている光記録媒体。 （もっと読む）

【目的】 コスト及び取り扱いの観点において優れたアルミニウムからなる反射膜を含みながら、短波長レーザを用いた光記録再生装置に使用され得る良好な記録再生特性を与える記録媒体及びその製造法の提供を目的とする。
【構成】 本発明による光記録媒体は、アルミニウムとアルミニウム以外の金属の酸化物とからなる反射膜を含む。また、本発明による光記録媒体の製造方法は、基板上に反射膜をスパッタリング法によって形成するステップを含む光記録媒体の製造方法である。当該方法は、アルミニウムとともにアルミニウム以外の金属の酸化物をスパッタ雰囲気中に導入する雰囲気形成ステップと、 アルミニウムとともに酸化物を基板上に堆積させるステップと、を含む。 （もっと読む）