【課題】優れた透過特性を有する光情報記録媒体用記録層およびそれを備える光情報記録媒体を提供する。
【解決手段】光情報記録媒体は、基板と、基板上に設けられた２以上の記録層と、記録層上に設けられた保護層とを備える。基板および保護層の側のいずれか一方の表面が、２以上の記録層に情報信号を記録するための光が照射される光照射面である。光照射面から最も奥側となる記録層以外の記録層のうちの少なくとも１層が、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、およびＣｕ酸化物を主成分として含み、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、およびＣｕ酸化物にそれぞれ含まれるＷ、Ｐｄ、およびＣｕの割合が、０．１７≦ｘ₁（但し、ｘ₁＝ａ／（ｂ＋０．８ｃ）、ａ：Ｗ、Ｐｄ、およびＣｕの合計に対するＷの原子比率［原子％］、ｂ：Ｗ、Ｐｄ、およびＣｕの合計に対するＰｄの原子比率［原子％］、ｃ：Ｗ、Ｐｄ、およびＣｕの合計に対するＣｕの原子比率［原子％］）の関係を満たすである。 （もっと読む）

【課題】相変化記録媒体の界面層膜の結晶化促進機能と光学的特性とを両立させた金属化合物膜の成膜等を可能にするスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】スパッタリングターゲットは、Ｍ（Ｏ_1-xＮ_x）_z（ＭはＴｉ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも1種の元素、0.1≦ｘ≦0.5、0.5≦ｚ≦2.0（原子比））で表される組成を有する。このようなスパッタリングターゲットを用いて成膜した金属酸窒化膜は、相変化記録媒体１の界面層４、６等に使用される。 （もっと読む）

【課題】ＢＤ−Ｒディスク等の製造の大幅な効率化及びコスト低減
【解決手段】情報記録層のスパッタリングの際には、同一材料（例えばＩｎ−Ｓｎ−Ｐｄ−Ｏ膜）の単膜形成を行うが、成膜条件を変化させた層を形成し、擬似的な複膜構造とする。例えばＯ₂流量やガス圧の値を変化させて、Ｐｄの酸化を抑えた層を形成する。これにより、耐久性を向上させた膜部分を形成し、情報記録層の全体の耐久性を向上させる。スパッタ装置は、１チャンバーで成膜条件を変えるのみで実現できるため、製造効率の向上やコストダウンを実現できる。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤにより平滑性の高いＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ膜を得ることができるＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ膜の成膜方法を提供すること。
【解決手段】処理容器内に基板を配置し、気体状のＧｅ原料と、気体状のＳｂ原料と、気体状のＴｅ原料とを前記処理容器内に導入してＣＶＤにより基板上にＧｅ_２Ｓｂ_２Ｔｅ_５となるＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ膜を成膜するＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ膜の成膜方法であって、気体状のＧｅ原料および気体状のＳｂ原料を処理容器内に導入して基板上に第１段階の成膜を行う工程（工程２）と、気体状のＳｂ原料および気体状のＴｅ原料を処理容器内に導入して第１段階の成膜で得られた膜の上に第２段階の成膜を行う工程（工程３）とを有し、工程２により得られた膜と、工程３により得られた膜により、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ膜を得る。 （もっと読む）

【課題】本発明は、音楽、映像等の著作物やコンテンツ等のデータが格納された状態から、一定期間経過するとデータが破壊乃至消失して当該著作物に係る権利を保護することのできる光ディスク及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、アルミニウム、及びアルミニウムと反応性を有する金属を少なくとも含む合金からなる反射膜を備える光ディスク、及びその製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】光記録媒体の製造コストを低減することを可能にする光記録媒体を提供する。
【解決手段】基板１と、この基板１上に形成され、ＩｎとＳｎとＰｄと酸素とを含み、酸素原子がＩｎ及びＳｎが完全酸化された場合の化学量論組成よりも多く含有されている記録層２と、この記録層２上に形成された光透過層３とを含む光記録媒体１０を構成する。 （もっと読む）

【課題】光記録媒体の製造コストを低減することを可能にする、光記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１上に形成された記録層２と、記録層２上に形成された光透過層３とを含む光記録媒体１０を製造する際に、Ｉｎ_２Ｏ_３ターゲット及び／又はＳｎＯ_２ターゲットと、Ｐｄターゲットとを使用して、酸素ガスと窒素ガスとを流しながら、スパッタ法により、Ｉｎ及び／又はＳｎとＰｄと酸素とを含む記録層２を形成する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤにより目標の組成のＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系膜を得ることができるＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系膜の成膜方法を提供すること。
【解決手段】処理容器内に基板を配置し、気体状のＧｅ原料と、気体状のＳｂ原料と、気体状のＴｅ原料とを前記処理容器内に導入してＣＶＤにより基板上にＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系膜を成膜するに際し、成膜に先立ってガスの通流経路および／または反応空間にＴｅ含有材料を形成し、その後前記処理容器内に所定流量の気体状のＧｅ原料、気体状のＳｂ原料および気体状のＴｅ原料、または気体状のＧｅ原料および気体状のＳｂ原料を導入して所定の組成のＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系膜を成膜する。 （もっと読む）

金属材料層および炭素材料層を含む光学情報媒体を開示する。金属材料層および炭素材料層の層構造は、媒体へのデータの書き込み中の酸化およびバーム形成に関連する問題を低減または解消するように設計される。
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【課題】メモリー点と非メモリー部との界面付近に偏析濃縮し、書き換え回数及び消去率の低下の原因となる不純物、特に結晶化速度に影響を与える不純物元素を極力減少させると共に、目標組成に対するターゲットの組成のずれ及び成分偏析を減少させて、相変化型メモリーの書き換え特性、結晶化速度を向上させることができる相変化型メモリー用スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】３元系以上の元素からなり、アンチモン、テルル又はセレンから選んだ１成分以上を主成分とし、目標組成に対する組成のずれが±１．０ａｔ％以下であることを特徴とする相変化型メモリー用スパッタリングターゲット及び該ターゲットを用いて形成された相変化メモリー用膜。 （もっと読む）

【課題】相変化光ディスクの記録層と保護層との間中間層として、リアクティブスパッタリングによって成膜されるＧｅＣｒＮ系層の成膜速度及び膜組成のばらつきを抑制し、製品歩留まりを上げることができるＧｅ−Ｃｒ合金スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｃｒ５〜５０ａｔ％を含有するＧｅ−Ｃｒ合金スパッタリングターゲットにおいて、相対密度が９５％以上であることを特徴とするＧｅ−Ｃｒ合金スパッタリングターゲット及び平ふるい下７５μｍ以下のＣｒ粉と、ふるい下２５０μｍ以下でありかつＢＥＴ比表面積０．４ｍ^２／ｇ以下であるＧｅ粉を均一に分散混合させた後、焼結することを特徴とするＧｅ−Ｃｒ合金スパッタリングターゲットの製造方法。 （もっと読む）

【課題】高転送レートおよび１００ＧＢ以上の大容量な記録条件でも、記録特性、消去特性、記録マーク保存性、密着性を同時に満足する情報記録媒体を提供する。
【解決手段】光の照射または電気的エネルギーの印加によって情報を記録し得る情報記録媒体１００が、相変化を生じ得る記録層１１５を少なくとも備え、記録層１１５が、アンチモン（Ｓｂ）と、ケイ素（Ｓｉ）とを含み、好ましくは、Ｓｂ_{１００−ｘ}Ｓｉ_ｘ（式中、ｘは、原子％で表される組成比を示し、ｘ≦５０を満たす）材料を含み、記録層１１５と接する界面層１１４および１１６の少なくとも一つが、Ｉｎ−Ｏ、Ｚｎ−Ｏ、Ｓｎ−Ｏ、Ｚｎ−Ｓ−Ｓｉ−Ｏ、Ｇａ−Ｏ、Ｓｉ−Ｃ、Ｚｎ−Ｓ、Ｓｉ−Ｎ、Ｎｂ−Ｏ、Ｔｉ−Ｏ、Ｃｅ−Ｆ、Ｂ−Ｎ、Ｍｇ−Ｏ、Ｃｒ−ＯおよびＡｌ−Ｎより選ばれる少なくとも一つの組み合わせを含む界面層Ａである。 （もっと読む）

【課題】記録レーザパワーが約６〜７ｍＷと低くても、高い信号変調度と高いＣ／Ｎ比を有しており、耐久性にも優れた光情報記録媒体用記録層、および当該記録層を備えた光情報記録媒体を提供する。
【解決手段】本発明の光情報記録媒体用記録層は、レーザ光の照射によって記録マークが形成される記録層であって、前記記録層は、Ｎｉ及び／又はＣｏを１〜５０原子％含むＩｎ−Ｎｉ合金及び／又はＩｎ−Ｃｏ合金に窒素を含有するＩｎ基合金からなるものである。上記Ｉｎ−Ｎｉ合金は窒素原子を５〜１４原子％の範囲で含有することが好ましく、上記Ｉｎ−Ｃｏ合金は窒素原子を５〜２０原子％の範囲で含有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】容易に記録層における光学的バンドギャップを調整する方法、光記録媒体、及び光記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】必須成分としてＣ_xＨ_y及びＨ₂を、任意成分としてＮ₂及び／又はＮＨ₃を含む混合ガスを用いてプラズマ反応成膜することで形成される光記録媒体１の記録層７、９における光学的バンドギャップの調整方法であって、前記混合ガスにおけるＨ₂、及び／又は前記任意成分の混合比率を調整することを特徴とする記録層における光学的バンドギャップの調整方法。 （もっと読む）

【課題】第１及び第２の情報記録層のいずれからも良好な記録信号特性が得られる、片面記録再生タイプの２層型光記録媒体を提供する。
【解決手段】第１基板上に少なくとも第１色素記録層、第１光反射層を積層した第１の記録構成体と、第２基板上に少なくとも第２光反射層、第２色素記録層、無機保護層を積層した第２の記録構成体とが、前記第１光反射層側と前記無機保護層側とが対向し接着剤層を介して貼り合わされてなり、かつ、前記無機保護層は、ケイ素、酸素および炭素を含み、その組成比ＳｉｘＯｙＣｚが、２０≦ｘ≦４５、４０≦ｙ≦６５、１≦ｚ≦３０（ｘ、ｙ、ｚの単位は原子％）である光記録媒体。 （もっと読む）

【課題】量産性を十分に向上させ得る機能層の形成方法を提供する。
【解決手段】スパッタリング装置における一対の電極間に所定のパルス状電圧Ｖを印加することで機能層形成用材料をスパッタリングして情報媒体用基材に機能層を形成する際に、パルス状電圧Ｖの１周期（時間Ｔ１）に占めるスパッタリングに有効となる電圧を付与する時間（時間Ｔ３）の時間割合が６５％未満となるようにパルス状電圧Ｖを一対の電極間に印加する。また、上記の機能層形成用材料としてのＡｌのターゲットを使用すると共に、ＡｒおよびＮ_２の混合ガスを反応性ガスとして使用して、上記の機能層としてのＡｌＮ薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】相変化記録媒体において、記録層と誘電体保護層との間に互いの層の間の化学反応や原子拡散を防止すること。
【解決手段】Ｇｅ−Ｎ，Ｇｅ−Ｎ−Ｏに代表されるバリアー層８を設けた光学的情報記録媒体の製造方法であり、バリアー材料は保護層２，４そのものとしても適用することができる。これによって、従来の相変化形の光学的情報記録媒体で観察される、記録消去を繰り返すことによる反射率低下や、信号振幅の低下を著しく抑制することができ、書換え回数を増大することができる。 （もっと読む）

【課題】出力変動の少ない、耐久性に優れたテープ状光記録媒体を生産効率よく提供する。
【解決手段】可撓性支持体の一方の主面に少なくとも反射層、第１保護層、記録層、第２保護層をこの順に有するテープ状光記録媒体であって、前記第１保護層及び前記第２保護層はそれぞれ、Ｓｎ，Ｔｉ，Ｓｉ，Ｚｒ，及びＡｌからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物よりなり、前記第１保護層及び第２保護層の金属の酸化物の組成はそれぞれ、厚さ方向において、記録層側で酸素の含有量が少なく、記録層と反対側で酸素の含有量が多く、且つ前記記録層側の酸素の含有量が１０ａｔ％以上、５５ａｔ％以下であり、前記記録層と反対側の酸素の含有量が６６ａｔ％以下であるテープ状光記録媒体。 （もっと読む）

【課題】 記録感度を保持したまま、キズ、及び紫外線による記録データの損失を低減することを可能にした光記録媒体及び光記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 光記録媒体の光入射側の基板上に、Ｓｉ，Ｏ，Ｃを構成元素として含むハードコート層を設ける。ハードコート層の光学定数は、波長４０５ｎｍにおける屈折率をｎ_１、消衰係数をｋ_１、波長３５０ｎｍにおける消衰係数をｋ_２、基板材料の波長４０５ｎｍにおける屈折率をｎ_０としたときに、｜ｎ_１−ｎ_０｜≦０．１５、ｋ_１≦１×１０^−２、１×１０^−３≦ｋ_２とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】記録層材料の主成分が酸化物である光記録媒体の製造過程において、記録層やその他の層の膜厚を変更することなく、記録媒体の記録感度（最適記録パワー）を所望の範囲に制御する方法の提供。
【解決手段】（１）基板上に、少なくとも下部保護層、記録層、上部保護層、反射層が、この順又は逆順に積層され、記録層材料の主成分が酸化物である光記録媒体の記録層を、スパッタリング法により形成する際に、アルゴンガスの導入量を調整することにより、光記録媒体の記録感度を制御する光記録媒体の製造方法。
（２）記録層がＢｉ酸化物、又は、Ｂｉ酸化物とＢ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｚｎから選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物からなる（１）記載の光記録媒体の製造方法。 （もっと読む）