【課題】
グラニュラ膜を利用し、積層磁性薄膜の高抵抗率化と、高周波帯域における優れた軟磁気特性の両立を図る。
【解決手段】
積層磁性薄膜１０は、基板１２上に、絶縁層１４とグラニュラ層１６を交互に複数成膜した積層構造となっている。絶縁層１４は、ＳｉＯ_２膜によって形成される。グラニュラ層１６は、ＦｅＮｉＳｉＯ膜によって形成されており、磁性粒子２０を包み込むように、粒界に絶縁体１８が存在する構造となっている。成膜時に基板１２の加熱を行うことで、絶縁層１４及び絶縁体１８の絶縁性を向上させて抵抗率を高めることができる。また、所定の範囲内の組成の磁性粒子２０の粒径を、絶縁層１４及びグラニュラ磁性層１６の厚みや、絶縁体１８に対する磁性粒子２０の比率を変えて適正化することにより、高抵抗率化に起因する磁気特性の劣化を抑制し、高い磁気特性と高抵抗率の両立が可能となる。 （もっと読む）

【課題】高い飽和磁束密度を有し、かつ優れた軟磁気特性、広い膜厚範囲を有する交換結合により磁気異方性が制御された軟磁性材料を提供する。
【解決手段】Ｍｎ_aＭ_1-a／Ｍ’（ここで、０．４≦ａ≦０．９５、ＭはＦｅ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｒ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ａｕ、ＣｕおよびＡｇからなる群より選択される少なくとも１種、Ｍ’はＡｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｉｒ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｚｒからなる群より選択される少なくとも１種）で表されるＭｎ系合金下地膜と金属下地膜からなる複合下地膜と、（Ｆｅ_xＣｏ_1-x）_y(Ａ）_1-y（ここで、０．６≦ｘ≦０．８、０＜１−ｙ≦０．０５、ＡはＭｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、ＣｒおよびＭｎの酸化物および窒化物からなる群より選択される少なくとも１種）で表される膜とを含む、軟磁性材料。 （もっと読む）