【課題】 広視野センサと狭視野センサを切り替えてマークを検出する位置計測装置において、広視野センサと狭視野センサの切り替え頻度を抑えることができる位置計測装置等を提供する。
【解決手段】 第１計測系５１を用いて、マスクＲ上に形成されたパターンＲＡＭを観察し、パターンＲＡＭの位置情報をマスクＲを識別するための識別情報と共に対応付けて記憶する。また、第１計測系５１よりも狭い計測視野を備えた第２計測系５２（５２Ｘ、５２Ｙ）を用いて、パターンＲＡＭを第１計測系５１よりも高倍な計測倍率で観察する。そして、所定マスクＲ上のパターンＲＡＭを第１計測系５１で計測する前に、記憶された情報の中に所定マスクＲに関する識別情報の存在が認識されるとその情報に対応する位置情報に基づいて、第２計測系５２の計測視野とパターンＲＡＭとの位置関係を決定する。
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【課題】基板をステージ装置に吊り下げ保持する場合において、静電チャックから確実に基板を搬出できる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】基板搬送装置は、ステージ１２に配置され基板５を保持する吸着面を下向きに有するチャック２と、前記チャック２の下側で前記基板５の搬入または搬出を行う搬送アーム１と、前記基板５を支持する支持片１４Ｃを前記吸着面の下側に備える基板支持部３と、前記基板支持部３を昇降させる駆動機構４と、を有し、前記基板支持部３は、前記搬入時において前記搬送アーム１から前記基板５を前記支持片１４Ｃですくい上げて前記吸着面に当接させ、前記搬出時において前記チャック２から離脱した前記基板５を前記支持片１４Ｃで支持して前記搬送アーム１に受け渡す。 （もっと読む）

【課題】Ｘ方向又はＹ方向の移動に際する基板の位置ずれを抑制することができ、かつ小型化を可能とする基板ステージ装置を提供する。
【解決手段】昇降駆動されるプッシャ部材２ａ，２ｂが基板ステージ１２５の少なくとも５箇所に設けられ、基板１２６の四隅部及び中央部を支持してロボットとの間で基板１２６の授受を行う基板ステージ装置において、基板１２６の中央部を支持するプッシャ部材２ｂが、基板１２６を支持するプッシャ部２２と、先端部にプッシャ部２２を有し、可撓性を有して押力及び引力を伝達する伝達具２０と、伝達具２０に押引力を付与する押引力付与装置１７とを有し、プッシャ部２２を、伝達具２０に押力を与えて上昇させ、伝達具２０に引力を与えて下降させる。 （もっと読む）

本発明は、本体表面を含むチャック本体を備え、該チャック本体が平面内にある接触面を含み且つ本体表面から延びるピンを有する基板システムであって、ピンは平面と相対的に移動するようにチャック本体に可動的に結合されていることを特徴とする基板支持システムを含む。基板支持システムは、微粒子汚染物質の存在によって生じる基板内の非平面性の発生を回避できずとも軽減する。これは、ピンがコンプライアンスを有するように製作することにより達成され、基板内の十分な平面性を維持しながら粒子の存在に対処するようにピンが移動できるようになる。 （もっと読む）

【課題】集積回路（ＩＣ）実装パターンをＩＣチップに分割する前のウエハに焼き付けることなどに利用できる、シリコンウエハや同様の基板に高速で回路パターンを生成するための装置および方法を提供する。
【解決手段】投影カメラが、Ｘ，Ｙ，Θステージ上に保持された基板に画像を同時に投影する。投影カメラは、別個独立の位置合わせシステム、光源、ならびに、焦点、画像位置、画像サイズおよび線量の制御部を有してもよい。一実施形態においては、各カメラが、画像対基板の重ね合わせ誤差を補正すべく、レチクルを移動させる６軸レチクルチャックを有している。ステージ内の測定センサーおよび装置のソフトウェアが、装置の座標系間の正しい関係を確立して維持する。このようにして、たとえ基板がＸ，Ｙ，Θステージ上でわずかに位置ずれしていても、２以上の投影カメラが同時に焼き付けを実行できる。 （もっと読む）

流体クッション上の静止又は移動する実質的に平坦な対象物を物理的接触なしに支えるための装置。対象物は流体クッションギャップ上で浮動し、装置はこのギャップを全域か局所で調整することを目的とする。装置は非接触で対象物を支える第一土台を含み、この土台が一個以上の区域からなる実質的に平坦な活性表面を有し、各区域が複数基本セルの内の少なくとも一つを含み、各基本セルが圧力調整流量絞り弁により基本セルの位置する区域に関する高圧マニフォールドと流体的に連結した複数圧力出口の内の少なくとも一つを有し、高圧マニフォールドが主供給パイプラインにより加圧流体供給と主排気パイプラインを有する基本セルが位置する区域に関する低圧マニフォールドと流体的に連結した複数流体排気チャネルの少なくとも一つと流体的に連結するものからなる装置で、流量絞り弁が流体的伸縮バネ挙動を特徴的に示し、少なくとも一個の圧力調整弁を区域の二個のマニフォールドの内の少なくとも一つの圧力レベルを制御するため、少なくとも一区域の二個の主パイプラインの内の少なくとも一つの間に配置することからなる装置。 （もっと読む）

本発明は、相互アライメント用の少なくとも１つのアライメントマークをそれぞれ有する２つの平坦な基板を互いにアライメントするための方法に関し、特に、露光前にウェーハに対してマスクをアライメントするための方法に関する。第１の基板のアライメントマークを光学的に測定して前記第１の基板の位置を記憶し、第２の基板のアライメントマークが前記第１の基板のアライメントマークの記憶された位置に一致するように前記第２の基板を移動させることによって第１のアライメント段階で２つの基板をアライメントした後、第２のアライメント段階でアライメントを照合して必要に応じて微調節を行う。この第２の段階において、両方の基板のアライメントマークは同時に観察され、基板平面と平行な相対移動によって両方の基板が互いにアライメントされる。
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一般的に、第１の態様において、本発明の特徴は、ステージ上のアライメント・マークの箇所を決定するための方法であって、干渉計とミラーとの間の経路に沿って測定ビームを送ることであって、少なくとも干渉計またはミラーがステージ上に載置される、測定ビームを送ること、測定ビームを他のビームと組み合わせて、ステージの箇所についての情報を含む出力ビームを生成すること、出力ビームから、第１の測定軸に沿って、ステージの箇所ｘ_１を測定すること、第１の測定軸に実質的に平行な第２の測定軸に沿って、ステージの箇所ｘ_２を測定すること、ミラーの表面変化を異なる空間周波数に対して特徴付ける所定の情報から補正項Ψ_３を計算することであって、補正項に対する異なる空間周波数からの寄与を、異なる仕方で重み付けする、補正項Ψ_３を計算すること、第１の測定軸に平行な第３の軸に沿って、アライメント・マークの箇所を、ｘ_１、ｘ_２、および補正項に基づいて決定すること、を含む方法である。
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試料位置合わせ機構（１０）が、複数の軸に沿って動かせる可動ステージ（１２）と、試料取り付けチャック（１４）と結合され、それを支持する板（３５）と、板を可動ステージに結合し、可動ステージと板との間の異なる位置に相隔たり、かつ可動ステージと板との間の距離を変化させるために別々に制御できる、複数の直線変位機構（３６，３８）と、可動ステージおよび板に結合する可撓性部材（２２）と、を含む。可撓性部材は３つの運動軸で応従して動く。直線変位機構の直線変位に対応する可撓性部材は、試料取り付けチャックの直線および回転運動を３つの応従運動軸で可能にする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板とメタルマスクとを貼り合せることにより貼り合わせ精度の向上を図ること。
【解決手段】ガラス基板を介してメタルマスクを所定の隙間を有して重ねる第１のステップＳ１０１と、カメラにより第１及び第２のマークの撮像情報に基づいて第１と第２のマークとの位置の差を求め、差が所定の範囲内か否かを判断する第２のステップＳ１０３と、前記差が範囲外の場合、前記位置の差に基づいてガラス基板をＸ，Ｙ軸方向に移動させる第３のステップＳ１０５と、前記差が範囲内の場合、メタルマスクとガラス基板とを貼り合せる第４のステップＳ１０７と、第２のステップＳ１０３を実行する第５のステップＳ１０９と、第５のステップＳ１０９での前記差が範囲外の場合、メタルマスクとガラス基板とを分離する第６のステップＳ１１１とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 オリエンテーションフラット等の結晶方位指示部における研磨屑の有無に関わらず、半導体ウエハ等の円板状体の中心位置および結晶方位指示部の向きを所定位置に合わせるための円板状体の位置合わせ装置およびその方法を提供する。
【解決手段】 位置検出手段２に包含される光源５により、円板状体ｗ１の回転手段１への保持側面に光が照射される。照射された光は、当該保持側面において反射される。この反射光を位置検出手段２に包含されるセンサ８により受光して所定の基準位置から円板状体ｗ１の端面までの距離を検出する。これを微小角度ずつ繰り返し行う。 （もっと読む）

【課題】 リニア増幅器とＰＷＭ増幅器を効率よく組み合わせた出力電流制御装置、この出力電流制御装置を使用したステージ装置および露光装置を提供すること。
【解決手段】 出力電流に応じてリニア増幅器１０５とＰＷＭ増幅器１０４とを使い分け、出力電流検出器Ｒ５、１０７と比較器１０６とを共通に使用する。 （もっと読む）