【課題】 メンテナンスを行う作業員の安全を確保しつつ，装置稼動効率を向上する。
【解決手段】 塗布現像処理装置１には，外壁パネル１１を外すと装置内の総ての動作が停止するインターロック機構Ｉが設けられる。検査ステーション３のウェハ搬送ユニット４０と筺体４２との間には仕切板６０が設けられる。仕切板６０には搬入出口６０ａが形成され，搬入出口６０ａにはシャッタ６１が設けられる。検査ステーション３の外壁パネル１１にはスイッチ部材１７０が設けられる。筺体４２内の検査ユニット５１のメンテナンス時には，スイッチ部材１７０を押してシャッタ６１を閉じることによって，ウェハ搬送ユニット４０のある空間Ｋと筺体４２のある空間Ｌを遮断され，作業員の安全が確保される。シャッタ６１が閉まると，インターロック無効機構Ｒによってインターロック機構Ｉが無効になり，装置内の他の部分の稼動を継続できる。 （もっと読む）

フレームと、少なくとも１つの処理モジュール（３６）と基板搬送装置（３４）とを含む基板処理装置（１０）に関する。該基板処理モジュール（３６）は、該フレームの外部に接続されている。該基板搬送装置（３４）は、第１のチャンバと該フレームの外部の該処理モジュールとの間で基板を搬送するべく該フレームに接続されている。該フレームはその中に形成されている第２の一体的なチャンバ（２８，３０）を有する。該フレームの該第２の一体的なチャンバ（２８，３０）は幾つかの所定の構成から選択可能な構成を含む。該フレームに対する該第２の一体的なチャンバ（２８，３０）の構成は、該基板処理装置の所定の特性に応じて選択される。
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【課題】 基板搬送容器固定用のラッチ動作で容器を開ける際に、ファンの運転に伴う気流が発生せず、汚染粒子の吸込みなどを生じない基板搬送容器及び使用方法を提供する。
【解決手段】 基板を内部に収容すると共に基板搬出入用の開口部を持った容器本体と該開口部を開閉可能なドアとで構成される基板搬送保管容器において、基板搬送保管容器は、ファンを内蔵し気流を形成する手段を有する環境ボックスと、ドアをロックするロック機構とを備え、ロック機構の開閉ロック動作を検知するセンサを設けた基板搬送保管容器。センサが前記基板搬送保管容器のロック機構のツメに取り付けられ、センサによりロック状態を検知する。ロック機構のロックの解除動作が開始される前に環境ボックスのファンに停止信号が送信されて、基板搬送保管容器が開く前に環境ボックスのファンの運転が停止される。 （もっと読む）

【課題】複数段の基板搬送ラインのそれぞれの搬送基準位置に対して搬送対象となる基板を容易に位置合わせすることができる基板搬送装置および基板処理装置を提供する。
【解決手段】昇降コンベア３０は、上段搬送ラインＵＴと下段搬送ラインＬＴとの間で昇降動作を行う。両搬送ライン間の搬送基準位置のずれに対処するために、上段搬送ラインＵＴおよび下段搬送ラインＬＴにそれぞれ上部位置決め部４０および下部位置決め部５０を設け、昇降コンベア３０が上段搬送ラインＵＴまたは下段搬送ラインＬＴに位置したときに、上段搬送ラインＵＴおよび下段搬送ラインＬＴのそれぞれの搬送基準位置に予め正確に微調整された球面凸状部材４６，５６と昇降コンベア３０に固設された第１円錐ブロック７１および第１Ｖブロック７２とを係合させることによって昇降コンベア３０を各搬送ラインの搬送基準位置に位置合わせするようにしている。 （もっと読む）

化学酸化物除去のためのプロセス加工システムおよび方法であって、プロセス加工システムは、基材を化学処理するように構成された下部チャンバ部分と、基材を熱処理するために構成された上部チャンバ部分とを有するプロセスチャンバ、および下部チャンバ部分と上部チャンバ部分との間で基材を輸送するように構成された基材昇降アセンブリを備える。下部チャンバ部分は、基材を化学処理のために支持するための温度制御された基材ホルダを提供する化学処理環境を備える。基材は、表面温度およびガス圧力を含む制御された条件下で、ＨＦ／ＮＨ_３などのガス状化学物質に露出される。上部チャンバ部分は、基材の温度を上昇させるように構成された加熱アセンブリを提供する熱処理環境を備える。
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