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Fターム[5F031MA29]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 処理装置 (13,378) | 工程 (11,004) | PVD(スパッタリング,真空蒸着等) (744)

Fターム[5F031MA29]に分類される特許

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本発明は、単相方形波交流クランプ電圧を用いて、J−R型静電チャックにウエハをクランプする方法及びシステムを提供する。この方法は、ウエハ、静電チャック及び漏洩性誘電体層の表面形状に関連した最小残留クランプ力に基づいて単相方形波クランプ電圧を決定する。ウエハは、静電チャック上に配置され、前記決定された単相方形波クランプ電圧を静電チャックに印加してウエハを静電チャックにクランプし、最小残留クランプ力が、前記クランプ電圧の極性切換え中、維持される。前記表面形状の決定は、ウエハと静電チャックとの間に第1ギャップと第2ギャップを定め、第1、第2ギャップのそれぞれに関連したRC時定数の差が、前記クランプ電圧の極性切換え中、前記最小残留クランプ力が維持されるように与えられる。前記方形波クランプ電圧を取り除く際の脱着時間が、方形波クランプ電圧のパルス幅に対応するように減じられる。 (もっと読む)


少なくとも1つの基板(5)を真空プロセスにて処理するための少なくとも1つの処理チャンバ(1)を備えた、基板を処理するためのシステムであって、前記処理チャンバ(1)は、閉鎖ボディ(15)にて閉鎖することができる基板アクセス(13)を備え、このシステムは、少なくとも前記閉鎖ボディ(15)を移動させるように構成された運搬デバイス(8)を備え、この運搬デバイス(8)は、前記基板(5)を前記真空プロセスの際に少なくとも部分的にカバーするためのマスク(4)を、少なくとも前記処理チャンバ(1)の外側のある位置と前記処理チャンバ(1)の内側のある位置との間で運搬するように構成される。少なくとも前記基板ホルダ(2)に、基板ホルダ(2)とマスク(4)とを互いに位置決めするための手段が提供された場合は、有利である。本発明は、更に、このようなシステムの使用に係る。
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【課題】ガラス基板とメタルマスクとを貼り合せることにより貼り合わせ精度の向上を図ること。
【解決手段】ガラス基板を介してメタルマスクを所定の隙間を有して重ねる第1のステップS101と、カメラにより第1及び第2のマークの撮像情報に基づいて第1と第2のマークとの位置の差を求め、差が所定の範囲内か否かを判断する第2のステップS103と、前記差が範囲外の場合、前記位置の差に基づいてガラス基板をX,Y軸方向に移動させる第3のステップS105と、前記差が範囲内の場合、メタルマスクとガラス基板とを貼り合せる第4のステップS107と、第2のステップS103を実行する第5のステップS109と、第5のステップS109での前記差が範囲外の場合、メタルマスクとガラス基板とを分離する第6のステップS111とを備えたものである。 (もっと読む)


【課題】 ティーチング基準位置における位置合わせを、精度良く且つ効率的に行なうことができる搬送システムの搬送位置合わせ方法を提供する。
【解決手段】 被搬送体Wを保持するフォーク48を有する搬送アーム部20と、この搬送アーム部を移動させる移動機構30と、搬送アーム部の移動エリア内に配置された少なくとも1つ以上の容器載置台24と、被搬送体の偏心量と偏心方向と切り欠き目印64の回転位置を光学的センサ62により検出する方向位置決め装置36と、全体の動作を制御する制御部72とを備えて位置合わせを行なう搬送システムの搬送位置合わせ方法において、マニュアルにより被搬送体を正確に位置合わせして載置したり、被搬送体を受け取りに行き、これを方向位置決め装置に搬送してその偏心量或いは切り欠き目印の回転誤差を求めることにより真に正しい適正位置座標を得ることができる。 (もっと読む)


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