【課題】 簡便な手法・構成で、固体材料ガスを安定した濃度で供給することができるとともに、かさ密度の高い固体材料によって内容積あたりの充填量を多くし、不純物が少ない高純度の固体材料からなる固体材料ガスを供給すること。
【解決手段】 キャリアガスＣにより所定量の蒸発または昇華・供給が可能な固体材料を、大気圧下または減圧下の融点以上沸点以下の温度条件において加熱し、溶融した状態で冷却・固化させて固体試料Ｓを作製する固体試料作製手段を有し、キャリアガスＣが供給される供給部１と、供給されたキャリアガスＣを分散させる分散部２と、固体試料Ｓが設置される試料設置部３と、該試料設置部３において作製された固体材料ガスＧが供出される供出部４と、を有すること。 （もっと読む）

【課題】熱フィラメントＣＶＤ装置において、反応室の内部のヒータの設置の手間を軽減する。
【解決手段】熱フィラメントＣＶＤ装置のヒータ２０において、一対の電極２２ａ、２２ｂと、電極２２ａ、２２ｂを平行状態に相対向させ保持する枠体２３と、電極間２２ａ、２２ｂに張架された熱フィラメント２１により形成された加熱部と、電極２２ａの略下側に設けられた複数の係止部６０を備えた固定部２４と、電極２２ｂの略後方側に配置された複数の係止部７１を備えた可動部２５とを有する。加熱部は、１本のワイヤ状の熱フィラメント２１を、固定部２４の係止部６０と、可動部２５の係止部７１とに交互に架け渡し係止して電極間２２ａ、２２ｂにチドリ状に張架することにより形成される。 （もっと読む）

【課題】 構造が簡単で、成長膜厚の制御性に優れた気相成長装置を提供する。
【解決手段】 ウェハを保持するためのサセプタ４及び原料ガスを導入するためのガス導入部を有する反応室１と、この反応室からガスを排気する排気部６と、上記反応室及び上記排気部の間に配設され、これら反応室及び排気部を連通する排気口が形成された仕切り部材を備えた気相成長装置において、仕切り部材７に形成する排気口８を、上記反応室の側から上記排気部の側に向けて流路断面積が小さくなるように形成し、余剰生成物の付着を上流側に集中させ、処理を重ねていっても一定のガス流速が得られるように構成したものである。 （もっと読む）