Fターム[5F045EH00]の内容
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成膜装置、薄膜形成方法、トランジスタ製造方法
【課題】クリーニング回数を減少可能な成膜装置と成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜装置1は、シャワープレート4が真空槽2と同じ接地電位に接続され、基板10が配置される電極板9が交流電源30に接続されており、電極板9に100kHz以上1MHz未満の交流電圧が印加されるようになっている。従来の印加電圧はMHz帯なのに対し、本願ではkHz帯に低下するため、電極間の距離(シャワープレート4と電極板9間の距離)は大きすることができる。周波数が低いので、電子に比べて質量が重いイオンも周波数に追従して動くことができ、プラズマが電極板9側に張り付く。その結果、シャワープレート4には、付着する堆積物が少なくなる。
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