リソグラフィ装置が開示される。このリソグラフィ装置は、放射ビームのビーム光路に配置されるフラット物品に対して放射ビームを照射する照射系と、物品の配置または取外しの間に物品を操作する物品操作装置とを含む。この物品操作装置は、物品を静電的にクランプする静電式クランプを形成するために、電極および誘電層を含む。
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リソグラフィ投影装置が開示される。この装置は、パターン形成装置を照射するのに使用される放射ビームを提供するための照射系と、パターン形成装置を支持する第１の支持台とを備える。パターン形成装置は、放射ビームをパターン形成することができる。この装置はまた、基板を支持する第２の支持台と、パターン形成した放射ビームを、基板の目標部分上に投影するための投影系と、投影系の速度と加速度の少なくとも一方に基づいて投影系の位置と向きの少なくとも一方を制御する、投影系の位置決めモジュールとを備える。
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パラメータの自由度が小さいモデルＭ’のＡＩＣ（Ｍ’）と、パラメータの自由度が大きいモデルＭのＡＩＣ（Ｍ）との小さい方をＥＧＡのモデルとして選択する（ステップ５０２）。モデルＭが選択され、その残差が所定値以上である場合には、モデルＭよりもパラメータ自由度が大きいすべての係数がパラメータであるモデルが選択される。有効サンプル数が、このモデルでのパラメータ自由度よりも小さい場合には、有効サンプル数を増やし、さらにサンプルショットを追加計測する。今回選択されたモデルの係数を、次回のウエハアライメントの際の事前知識に反映する（ステップ５２４）とともに、今回のモデルのパラメータの自由度に応じて、有効サンプル数を増減させる（ステップ５０８又はステップ５１８）。 （もっと読む）

光学部材を備えた可動ステージの構造を複雑にすることなく、その光学部材の温度を制御できるステージ装置である。レチクル（Ｒ）を保持するレチクルステージ本体（２２）をＹ軸リニアモータ（７６Ａ，７８Ａ，７６Ｂ，７８Ｂ）を用いてレチクルベース（１６）上でＹ方向に駆動する。レチクルステージ本体（２２）の端部の光学部材支持部（２４Ｂ２）上の光学系（３２）を介して、レチクルベース（１６）上に固定された固定鏡（ＭＸ）に計測用レーザビームを照射して、レチクルステージ本体（２２）のＸ方向の位置を計測する。光学系（３２）の温度を安定化するために、光学部材支持部（２４Ｂ２）の底面に空気層（３５）を介してロッド部材（２７）を固定し、ロッド部材（２７）内に温度制御された冷媒を供給する。
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【課題】 装置内部の可動テーブルの位置を正確に求めるために、１つ、任意選択で２つ以上のカラー干渉計デバイスを使用するリソグラフィ投影装置を提供すること。
【解決手段】 この装置は、前記可動テーブルの少なくとも一部を収容する空間にパージ・ガスを供給するためのフラッシング・ガス手段を備え、パージ・ガスは、干渉計デバイスの動作領域内へのパージ・ガスの漏れが干渉計測定値の有意な誤差をもたらさないように選択される。 （もっと読む）

【課題】 リニア増幅器とＰＷＭ増幅器を効率よく組み合わせた出力電流制御装置、この出力電流制御装置を使用したステージ装置および露光装置を提供すること。
【解決手段】 出力電流に応じてリニア増幅器１０５とＰＷＭ増幅器１０４とを使い分け、出力電流検出器Ｒ５、１０７と比較器１０６とを共通に使用する。 （もっと読む）

【課題】 エアマウントによる疑似３点の支持構成が採用された従来の露光装置では、アクチュエータの推力をエアマウントで置換した場合、定盤を僅かながら歪ませてしまい、露光ショットずれを引き起こす恐れがある。
【解決手段】 各エアマウント５Ａ〜５Ｄの内圧を計測する圧力計４９Ａ〜４９Ｄを設け、これら圧力計４９Ａ〜４９Ｄの出力に基づいて各エアマウント５Ａ〜５Ｄの推力を調節してアクチュエータ４Ａ〜４Ｄの推力と置換させる除振装置を露光装置に採用することにより、推力置換後の除振台の歪みを防止することができる。これにより、投影光学系や位置センサ、レーザ干渉計の支持部等に撓みが生じなくなるので、露光ショットずれを防止して露光精度の向上を図ることができる。 （もっと読む）