一般的に、一態様において、本発明を特徴付ける装置は、少なくとも３本の出力ビームを生成するように構成された多軸干渉計を含む。各出力ビームは、対応する測定軸に沿っての干渉計と測定物体との間の距離についての干渉分光情報を含み、少なくとも３本の測定軸は共通面内にあり、各出力ビームは、共通のビーム経路に沿って測定物体までの光路を形成する成分を含む。
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投影露光装置（１００）は、基板（Ｗ）が載置されるとともに、その基板を保持して移動可能な基板テーブル（３０）と、基板テーブルの位置情報を計測する位置計測系（１８等）と、液体の供給に起因して基板と基板テーブルとの少なくとも一方に生じる位置ずれを補正する補正装置（１９）とを備えている。この場合、補正装置により、液体の供給に起因して基板と基板テーブルとの少なくとも一方に生じる位置ずれが補正される。これにより、基板に対して液浸法を利用した高精度な露光を行う。 （もっと読む）

【課題】 金型のパターンを基板上の正確な位置に転写すること。
【解決手段】 基板２００に所定の形状パターンを形成するための金型１００を保持する保持ブロック４１と、基板２００を保持するウエハステージ２１と、ウエハステージ２１に保持された基板２００に金型１００を押圧するプレス機構５０と、ウエハステージ２１及び保持ブロック４１を相対移動させる移動機構３０と、ウエハステージ２１に保持された基板２００のパターン及び金型１００の相対位置を示す位置情報を検出するためのＣＣＤカメラ８４と、金型１００の位置を示す位置情報を予め格納した格納手段と、ＣＣＤカメラ８４が検出した位置情報及び格納手段に予め記憶された位置情報とに基づいて、移動機構３０を制御する制御手段と、を具備し、正確に位置を制御して基板２００に金型１００のパターンを転写する。 （もっと読む）

パラメータの自由度が小さいモデルＭ’のＡＩＣ（Ｍ’）と、パラメータの自由度が大きいモデルＭのＡＩＣ（Ｍ）との小さい方をＥＧＡのモデルとして選択する（ステップ５０２）。モデルＭが選択され、その残差が所定値以上である場合には、モデルＭよりもパラメータ自由度が大きいすべての係数がパラメータであるモデルが選択される。有効サンプル数が、このモデルでのパラメータ自由度よりも小さい場合には、有効サンプル数を増やし、さらにサンプルショットを追加計測する。今回選択されたモデルの係数を、次回のウエハアライメントの際の事前知識に反映する（ステップ５２４）とともに、今回のモデルのパラメータの自由度に応じて、有効サンプル数を増減させる（ステップ５０８又はステップ５１８）。 （もっと読む）

光学部材を備えた可動ステージの構造を複雑にすることなく、その光学部材の温度を制御できるステージ装置である。レチクル（Ｒ）を保持するレチクルステージ本体（２２）をＹ軸リニアモータ（７６Ａ，７８Ａ，７６Ｂ，７８Ｂ）を用いてレチクルベース（１６）上でＹ方向に駆動する。レチクルステージ本体（２２）の端部の光学部材支持部（２４Ｂ２）上の光学系（３２）を介して、レチクルベース（１６）上に固定された固定鏡（ＭＸ）に計測用レーザビームを照射して、レチクルステージ本体（２２）のＸ方向の位置を計測する。光学系（３２）の温度を安定化するために、光学部材支持部（２４Ｂ２）の底面に空気層（３５）を介してロッド部材（２７）を固定し、ロッド部材（２７）内に温度制御された冷媒を供給する。
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一般的に、第１の態様において、本発明の特徴は、ステージ上のアライメント・マークの箇所を決定するための方法であって、干渉計とミラーとの間の経路に沿って測定ビームを送ることであって、少なくとも干渉計またはミラーがステージ上に載置される、測定ビームを送ること、測定ビームを他のビームと組み合わせて、ステージの箇所についての情報を含む出力ビームを生成すること、出力ビームから、第１の測定軸に沿って、ステージの箇所ｘ_１を測定すること、第１の測定軸に実質的に平行な第２の測定軸に沿って、ステージの箇所ｘ_２を測定すること、ミラーの表面変化を異なる空間周波数に対して特徴付ける所定の情報から補正項Ψ_３を計算することであって、補正項に対する異なる空間周波数からの寄与を、異なる仕方で重み付けする、補正項Ψ_３を計算すること、第１の測定軸に平行な第３の軸に沿って、アライメント・マークの箇所を、ｘ_１、ｘ_２、および補正項に基づいて決定すること、を含む方法である。
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一態様において、本発明は方法に特徴があり、その方法は、干渉分光法システムにおける干渉計を用いて、第１ビーム経路と第２ビーム経路との間の光路差に関係づけられる位相を含む出力ビームを生成することであって、第１ビームは第１の箇所における測定物体に接触し、第１ビームまたは第２ビームは第２の箇所における測定物体に接触し、第１の箇所および第２の箇所は異なる、出力ビームを生成すること、第１の箇所における測定物体の不完全性に起因し、かつ第２の箇所における測定物体の不完全性に起因するずれであって、第１ビーム経路または第２ビーム経路の公称ビーム経路からのずれによって生じる光路差への影響に対処する事前校正済み情報を提供すること、出力ビームから得られる情報および事前校正済み情報に基づいて、少なくとも１つの自由度について測定物体の位置を決定すること、を含む。
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【課題】高いサーボ帯域を実現すること。
【解決手段】本発明の好適な実施の形態に係る位置決め装置は、ウエハステージ天板１１１の弾性振動を計測する計測器７ａ、７ｂ、１０ａ〜１０ｄと、計測器７ａ、７ｂ、１０ａ〜１０ｄの出力に基づいてウエハステージ天板１１１の弾性振動を低減するようにウエハステージ天板１１１の所定箇所に力を印加する弾性振動低減機構８ａ、８ｂ、１１ａ〜１１ｄと、ウエハステージ天板１１１の位置情報を計測する計測器１７１ａ〜１７１ｆと、ウエハステージ天板１１１を移動させるための駆動機構１６１ａ〜１６１ｆと、計測器１７１ａ〜１７１ｆの出力に基づいて駆動機構１６１ａ〜１６１ｆを制御する補償器１８１とを備え、補償器１８１は、計測器１７１ａ〜１７１ｆの出力から所定周波数成分を低減するフィルタ１８２を含む （もっと読む）

【課題】 装置内部の可動テーブルの位置を正確に求めるために、１つ、任意選択で２つ以上のカラー干渉計デバイスを使用するリソグラフィ投影装置を提供すること。
【解決手段】 この装置は、前記可動テーブルの少なくとも一部を収容する空間にパージ・ガスを供給するためのフラッシング・ガス手段を備え、パージ・ガスは、干渉計デバイスの動作領域内へのパージ・ガスの漏れが干渉計測定値の有意な誤差をもたらさないように選択される。 （もっと読む）

【課題】 ステージの駆動反力が他ユニットに影響を与えず、高精度な位置決め精度を有する位置決め装置を提供する。
【解決手段】 本発明の位置決め装置は、第１の基準面を有するベースと、該第１の基準面上を移動可能であり、該第１の基準面と垂直な第２の基準面を有する第１の移動体と、該第１の基準面上を移動可能であり、該第２の基準面に沿って移動可能な第２の移動体と、該第１の移動体と第２の移動体との間で駆動力を発生する駆動装置とを備えることを特徴とする。これにより、目的物を搭載する第２移動体の位置決め精度を飛躍的に向上させることができる。 （もっと読む）