【課題】正確なフレア値を短時間で算出する。
【解決手段】実施の形態によれば、フレア値算出方法が提供される。前記フレア値算出方法、では、複数種類の寸法で作成されたマスクパターンが配置されたマスクパターン群を用いて基板への露光処理を行った場合の平均光強度を前記マスクパターン毎に算出する。そして、前記マスクパターンの寸法に関する情報および前記平均光強度に応じた前記マスクパターンへのパターン補正量を、前記マスクパターン毎に算出する。そして、前記マスクパターン毎のパターン補正量を用いた前記マスクパターンへのパターン補正を前記マスクパターン毎に行うことにより補正後マスクパターンを作成する。そして、露光装置が備える投影光学系のフレア値を、前記補正後マスクパターンのパターン平均密度を用いて算出する。 （もっと読む）

【課題】熱の影響を緩和させつつパターンを微細化すること。
【解決手段】露光光のパターンを対象面に転写する露光方法であって、複数の表示素子を用いて前記パターンを形成するパターン形成ステップと、前記対象面のうち複数の単位領域に区画された投影領域に前記パターンを投影する投影ステップとを含み、前記パターン形成ステップは、前記投影ステップにおいて前記投影領域のうち前記単位領域ごとに前記パターンが投影されるように複数の前記表示素子のうち一部ずつを順に駆動させて前記パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】所期の転写パターン形成精度を維持すること。
【解決手段】マスクに設けられたパターンの露光光像を基板に投影して当該基板にパターンの転写パターンを形成する露光方法であって、転写パターンを計測し、この計測結果に対して投影時の所定の寄与分を補正して算出されたマスク伸縮変動量に基づいて算出されたマスク伸縮補正値に応じて、露光光像の像面の位置及び姿勢のうち少なくとも一方についての調整を行い、調整が行われた露光光像を前記基板に投影する。 （もっと読む）

【課題】パターンを正確に位置合わせする。
【解決手段】ダブルパターニング法において使用される２つのレチクルのそれぞれの伸縮量を記述するレチクル伸縮補正モデルについて、伸縮に係るパラメータ（レチクル伸縮補正パラメータ（時定数と飽和値））を最適化する。そして、最適化後のレチクル伸縮補正モデルを用いて、パターンを次の露光対象のウエハのターゲット層に位置合わせする。これにより、レチクルの熱変形に起因する補正誤差に影響を受けることなく、目標パターンをウエハ上のターゲット層に正確に位置合わせすることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 ＥＵＶ露光装置の真空チャンバー内を大気に晒すことなくレチクルチャックのクリーニングを簡易に行うことができ、ＥＵＶ露光装置の稼働率向上に寄与する。
【解決手段】 ＥＵＶ露光装置のレチクルチャックをクリーニングするためのレチクルチャッククリーナーであって、ＥＵＶ露光装置のレチクルチャックまで搬送可能な形状を有する基板１１と、基板１１の一方の面に形成された粘着剤１６とを備えている。 （もっと読む）

【課題】物体に対するパターンの転写のための走査露光中にマスクを温度調整する。
【解決手段】マスクを用いてステップ・アンド・スキャン方式の露光を行って、マスクに形成されたパターンを物体上に転写する際に、マスクの表面の温度分布の目標から定まるマスク上での平均熱伝達率分布の目標ｈ（ｙ）とマスクＲの滞在確率分布Ｐ（Ｙ）とから求まる熱伝達率分布Ｈ（Ｙ）に従ってマスクを温度調整する。これにより、スループットを落とすことなくマスクを温度調整することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】レチクルＲをより効率的に冷却すること。
【解決手段】レチクルステージＲＳＴと第２コンデンサレンズＣＬとの間に介在し、レチクルステージＲＳＴの走査範囲内においてレチクルステージＲＳＴと第２コンデンサレンズＣＬとの間に実質的に密閉された空間ＳＡを形成する隔壁部材１０１と、隔壁部材１０１によって密閉された空間ＳＡ内に乾燥空気を供給する空気供給路１１１とを備える。空間ＳＡは、照明光学系ＩＬＳからの照明光ＥＬが通過する空間であって、空気供給路１１１から乾燥空気が供給される第１空間ＳＡ１と、第１空間ＳＡ１に連通し、第１空間ＳＡ１からの乾燥空気の流れを形成する第２空間ＳＡ２とを形成し、第２空間ＳＡ２内における乾燥空気の流通断面積Ｏ２は、第１空間ＳＡ１内における乾燥空気の流通断面積Ｏ１より小さくなっている。 （もっと読む）

【課題】マスク保持部のフレームの熱変形を抑制して、露光精度を向上することができる露光装置を提供する。
【解決手段】マスクステージベース１１は、複数の中空フレーム９１〜９４によって構成されており、中空フレーム９１〜９４の内部には、サーマルチャンバ８０内に供給されるエアと共に温調されたエアが供給される。 （もっと読む）

【課題】 真空容器内での放電の回避の点で有利な露光装置を提供すること。
【解決手段】 光源と、真空容器と，前記真空容器内に配置された照明光学系及び投影光学系とを有し、前記真空容器内で前記照明光学系を介して前記光源からの光で原版を照明し、前記投影光学系を介して前記原版からの光を投影して基板を露光する露光装置は、前記真空容器内に配置され、第１の値の電圧が印加されて前記原版を保持する静電チャックと、前記投影光学系中の光学素子を表面処理する気体を前記真空容器内に供給する供給手段と、前記第１の値より小さい第２の値に前記静電チャックへの印加電圧を低減させた状態で前記供給手段に前記気体を供給させる制御手段と、を有するものとする。 （もっと読む）

【課題】マスク面を境界とする空間を定義する空間定義部材を使用すべきマスクに応じて変更可能にする。
【解決手段】露光装置ＥＸは、マスク面を境界とする空間を定義する空間定義部材１とともにマスクＭを移動させるマスクステージＭＳＴと、前記空間の圧力を制御する圧力制御器と、複数の空間定義部材１のうち露光処理に使用すべきマスクＭに適合した空間定義部材を当該マスクＭに組み合わせるための操作機構ＭＬとを備える。 （もっと読む）

【課題】感光性基板に対するマイクロリソグラフィ描画および検査のためのレーザ走査の時間効率および偏向器の制御を改善するシステムを提供する。
【解決手段】本システムは、偏向方向における基板のオフセットの程度を測定する少なくとも１つのセンサと、横方向に移動する走査に対応するように位置データまたは位置データの供給を修正するための手段と、前記のオフセットを補償するために、検出器によって測定されたオフセットに依存して偏向器のためのデータの読み出しを制御する制御ユニットとを備える。 （もっと読む）

【課題】半導体リソグラフィにおいて、１レチクルを用いた複数パターンの形成方法及びパターン形成装置を提供すること。
【解決手段】本発明によると、ウェハ上のレジストに複数の異なるパターンを有するチップパターンを形成する方法において、複数の領域に前記複数の異なるパターンを形成したレチクルを用い、前記複数の領域から第１の領域を選択し、前記第１の領域の一部以外の前記複数の領域をブラインドにより遮光し、前記第１の領域の一部に光を照射して、前記レジストに第１のパターンを形成し、前記複数の領域から前記第１の領域と異なる第２の領域を選択し、前記第２の領域の一部以外の前記複数の領域をブラインドにより遮光し、前記第２の領域の一部に光を照射して、前記レジストにパターンを形成することを特徴とする第２のパターン形成方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】 瞳強度分布を所要の状態に維持しつつ被照射面上に形成される照明領域の照度分布または外形形状を制御することのできる照明光学系。
【解決手段】 光源（１）からの光により被照射面（Ｍ；Ｗ）を照明する照明光学系は、照明光学系の照明瞳またはその近傍の位置に配置されて、二次元的に配列されて個別に制御される複数の光学要素（６ａ）を有する空間光変調器（６）と、複数の光学要素のうちの一群の光学要素を経た光が被照射面上に第１照明領域を形成し、且つ複数の光学要素のうちの別の一群の光学要素を経た光が被照射面上に第１照明領域とは異なる第２照明領域を形成するように、空間光変調器を制御する制御部（ＣＲ）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】３次元積層デバイスの歩留まりの向上を図れるリソグラフィ工程を含む半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】複数の層を基板上に積層してなる３次元積層デバイスであって、前記複数の層の各々がデバイス回路が含まれたデバイス構造を具備してなる半導体装置の製造方法であって、前記複数の層のリソグラフィ工程に使用され、前記デバイス回路に対応するパターンが互いに同じであり、前記原版の欠陥に基づいた品質、前記原版の前記基板への転写性に基づいた品質、または、前記原版の使用回数に関しての品質が順位付けされた複数の原版のうち、一定以上の品質を有する原版を、下層のリソグラフィ工程に使用し、前記複数の原版のうち、前記一定以上の品質を有する原版を除いた原版を、上層のリソグラフィ工程に使用することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】微細な種々のパターンを容易に形成できる露光方法を提供すること。
【解決手段】基板への露光方法において、基板上で、所望パターンを形成するパターン形成層の上層側にレジスト層を積層するレジスト層積層ステップと、基板への露光光を回折させる回折パターンを、レジスト層よりも上層側に形成する回折パターン形成ステップと、変形照明を用いて回折パターン上から全面露光し、これにより回折パターンで回折された回折光をレジスト層へ照射する全面露光ステップと、を含み、変形照明は、所望パターンに応じて決定された照明光源形状を有している。 （もっと読む）

【課題】ミラーアレイ光学素子を用いた場合であっても、光強度分布（有効光源）を高精度に形成することができる露光装置を提供する。
【解決手段】光源と、照明光学系と、投影光学系とを備える露光装置であって、前記照明光学系は、前記光源からの光を反射する反射面を有する複数のミラーエレメントを含み、前記複数のミラーエレメントのそれぞれの前記光源からの光に対する角度を独立して制御することが可能なミラーアレイ光学素子と、前記光源からの光を前記ミラーアレイ光学素子に入射させると共に、前記複数のミラーエレメントのうち前記反射面で反射された光が前記レチクルに入射するように前記角度が制御された所定のミラーエレメントで反射された光が入射する第１の光学系と、前記光源からの光を前記光学系に入射させる第２の光学系と、前記光学系からの光が入射する第３の光学系と、を含むことを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】マスクのパターン形成領域の平面性を確保しつつ、マスクを保持することができるマスク保持装置、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】所定のパターンが形成されたパターン形成領域４３及び該パターン形成領域４３の周囲の周辺領域４４を有する表面Ｒｂと、該表面Ｒｂの裏側の裏面Ｒａとが形成されたレチクルＲを保持する第１静電吸着保持装置２５において、レチクルＲの裏面Ｒａを静電吸着する支持面３７ａを有する基体３７と、基体３７に設けられ、パターン形成領域４３を含む大きさで形成された電極面３９ａを有する第１電極部３９と、基体３７に設けられ、第１電極部３９の周囲に配置された第２電極部４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】効果的に汚染物質の発生を抑制できる反射型マスクを提供する。
【解決手段】基板４０上に形成され、入射した入射光を第１方向に反射する第１反射部４１と、第１反射部４１上に形成され、かつ所定のパターンの形状を有し、入射した入射光を第１方向とは異なる第２方向に反射する第２反射部４３とを有する。 （もっと読む）

【課題】光を少なくとも２回以上、繰り返し放射して同一のパターンを継続して生成する際にも、パターンの生成を安定化させる。
【解決手段】マイクロミラーデバイスに光源から光を間欠的に少なくとも２回以上、繰り返し放射して同一のパターンを継続して生成する際に、光の放射回数が予め設定された所定回数に達するまでは、光源から１ショットの光が放射された後、次の１ショットの光の放射が行われるまでの間の予め設定されたタイミングで直前に転送されたパターン情報と同一のパターン情報をマイクロミラーデバイスに転送する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、マスクを露光光で照明して、マスクからの露光光で基板を露光する。露光装置は、マスクを照明するための露光光を射出する光学部材と、ミストを供給可能なミスト供給口を有し、マスクにミストを供給して、マスクの温度調整を実行する温度調整装置とを備えている。 （もっと読む）