【課題】基板上に成膜された透明膜の外縁を明確に特定することで、精度の高い成膜パターンの検査を行うことができる。
【解決手段】透明膜検査装置１は、透明膜Ｍの外縁Ｍｅを含む被検査範囲の観察像を形成する観察光学系１０と、被検査範囲を含む基板Ｓ上に照明光を照射する照明光源２０と、観察光学系１０の光路内に配置されて当該光路の一部を遮光する遮光部材３０とを備える。遮光部材３０は、観察像内に全遮光部分から徐々に明度が高くなる半遮光部分を含む遮光部分を形成し、この遮光部分が透明膜Ｍの外縁Ｍｅの像に被さるように配置される。観察光学系１０は、透明膜Ｍの外縁Ｍｅの側面で反射した光を観察像内に結像させることで、遮光部分にコントラストの高い透明膜Ｍの外縁Ｍｅの線像を形成する。 （もっと読む）

【課題】高精細な複数の開口パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】平板状の磁性金属材料に、薄膜パターンの形成領域に対応して該薄膜パターンよりも形状が大きい貫通する複数の開口部５を設けてメタルマスク１を形成し、メタルマスク１の一面に可視光を透過する樹脂製のフィルム２を面接合し、透明基板８の一面に薄膜パターンと同形状の複数の基準パターン９を薄膜パターンと同じ配列ピッチで並べて形成し、該基準パターン９を下側にしてステージ上に載置された基準基板３の基準パターン９がメタルマスク１の開口部５内に位置するようにメタルマスク１を基準基板３に対して位置合わせした後、フィルム２を基準基板３の他面に密着させ、メタルマスク１の開口部５内の基準パターン９に対応したフィルム２の部分にレーザ光Ｌを照射して、薄膜パターンと同形状の貫通する開口パターン４を形成する。 （もっと読む）

【課題】レーザー光の照射エネルギーの利用効率を上げて一台のレーザーで多点の一括加工を容易に行い得るようにする。
【解決手段】無機絶縁膜２で被覆されたシリコン基板１面にレーザー光を照射して局所的に前記絶縁膜２を除去するレーザー加工方法であって、少なくとも前記基板１の表面を溶融させる程度の強度に設定された紫外域の第１のレーザー光Ｌ１を前記基板１面に照射して溶融させ、前記基板１の前記溶融部分ＭＰに前記第１のレーザー光Ｌ１の照射と同時に、又は一定の遅延時間を与えて前記第１のレーザー光Ｌ１よりも波長が長く、一定強度に設定された第２のレーザー光Ｌ２を照射して前記基板材料を蒸発させるものである。 （もっと読む）

【課題】大型の被露光材を露光するために、複雑且つ高コストの露光機構を要することなく、露光に使用するマスクのコストを抑えることである。
【解決手段】本発明に係る露光装置は、光源からの照射光を遮断する遮光領域と照射光を透過させる透光領域とをガラス基板に形成した複数のフォトマスクと、光源と搬送された被露光材との間に、複数のフォトマスクを保持するマスク保持部とを備える。マスク保持部は、同一平面上に並置された複数のフォトマスクを、隣り合うフォトマスクの各端部が互いに接触するように、連結して保持するものであり、複数のフォトマスクは、並置且つ連結されることによって全体として１個のフォトマスクを構成すると共に、マスク保持部に対して、それぞれ個別に着脱できるものである。 （もっと読む）