Fターム[5F046DD00]の内容
半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) (57,085) | 制御、調整に関する表示、情報 (404)
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Fターム[5F046DD00]に分類される特許
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リソグラフィシミュレーション方法及びプログラム
【課題】高精度のリソグラフィシミュレーションを簡易な方法で行うことが可能なシミュレーション方法を提供する。
【解決手段】第1の関数及び第2の関数を用いたシミュレーションによりレジスト像を求めるリソグラフィシミュレーション方法であって、シミュレーションによりレジスト像を求める工程は、マスクレイアウトからマスク透過関数を求める工程S2と、マスク透過関数を第1の関数を用いて変調し、変調されたマスク透過関数を求める工程S3と、変調されたマスク透過関数を用いてマスクレイアウトの光学像を求める工程S4と、光学像に第2の関数を作用させてマスクレイアウトのレジスト像を求める工程S5とを備える。
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試験システム、試験方法、及び試験プログラム
【課題】直ちに実機にインストールして実行可能なプログラムを用意せずとも、新規機能の有用性の確認テスト及び実機の動作テスト結果を得ることができる試験システム、試験方法、及び試験プログラムを提供する。
【解決手段】処理装置10は、オペレーティングシステムが実装されたメイン制御システム11と、メイン制御システム11の制御の下で動作する動作部13とを備え、オペレーティングシステム上で実行可能なシーケンスプログラムP1を実行することによって動作部13を動作させることが可能である。端末装置20は、処理装置10に接続されて、メイン制御システム11に実装されたオペレーティングシステムとは異なる第2オペレーティングシステムが実装され、このオペレーティングシステム上で実行可能な試験プログラムP2を実行することにより処理装置10の動作部13を動作させる。
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