【課題】手間の掛かる作業を行うことなく露光条件を管理すること。
【解決手段】光変調素子を用いて基板にデバイスパターンの露光パターンを形成するための露光条件を管理する露光条件の管理方法であって、露光条件の異なる複数のテスト露光パターンと、当該テスト露光パターンを識別する識別情報とを、光変調素子に形成する形成ステップと、光変調素子に形成された露光条件の異なる複数のテスト露光パターンと、当該テスト露光パターンを識別する識別情報とを基板上にそれぞれ対応して露光する露光ステップと、識別情報を用いて、識別情報に対応するテスト露光パターンを管理する管理ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】露光パターン形成用領域を複数回に分けて露光する場合、又は複数の露光パターン形成用領域を同時若しくは連続的に露光する場合に、露光位置の確認が容易な露光方法及び露光位置の確認方法を提供する。
【解決手段】露光対象部材２は、露光パターン形成用領域及びその周囲の少なくとも一部の非パターン形成領域を備えている。この露光対象部材２の非パターン形成領域における露光パターンの延長上にある領域に露光光の照射により変色する光変色材料を塗布するか、又は露光光の照射により変色する光変色部材を貼付し、マスクに透過させた露光光を露光対象部材に照射する際に、露光パターン形成用領域の他に、光変色材料又は光変色部材からなる光変色領域２２にも照射してこれを変色させる。そして、この光変色領域２２の変色により、露光パターン形成領域における露光位置を確認し、露光不良の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】露光装置の特性が劣化するような露光条件においても、生産性を低下させることなく半導体装置を製造できる、半導体装置の製造方法、生産管理装置および生産管理システムを提供する。
【解決手段】露光装置に接続される生産管理システムにおいて、規定された基板処理計画を実行した場合に、露光装置ＰＭ１〜ＰＭｎを光Ｌが継続的に通過することに起因する露光装置ＰＭ１〜ＰＭｎの特性の変化を予測し、該特性の変化が露光処理中に閾値を超える場合に、その時刻を取得する予測部１４と、上記時刻に到達する前に、露光装置ＰＭ１〜ＰＭｎのそれぞれで上記特性が均一化されるように基板処理計画を変更して改めて規定する計画変更部１６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】半導体露光装置において、アプリケーションソフトのプロセスが異常状態になった場合に、装置全体を再起動せずに装置のダウンタイムを最低限にし生産量への影響を軽減する。
【解決手段】アプリケーションソフトのプロセスが異常状態になった場合に、生産処理状況を考慮して局所的なプロセスの再起動を行う。更に、処理の実行単位であるジョブにプロセスを関連させて対応情報を持つことによって、プロセス構成が可変のシステムにも対応する。 （もっと読む）

【課題】所望の２次元形状パラメータを有したパターンを基板上に形成可能な露光量を正確に決定することができる露光量決定方法を提供することを目的とする。
【解決手段】マスク上に形成されるマスクパターンと所望のマスクパターンとの間の二次元形状パラメータのずれ量分布を、マスクパターンマップｍ１として取得するマスクパターンマップ取得ステップと、マスクをショット露光してウェハ上にパターンを形成した場合に形成されるウェハ上パターンと所望のウェハ上パターンとの間の二次元形状パラメータのずれ量が所定の範囲内に収まるよう、マスクパターンマップｍ１に基づいて、露光ショット内での位置毎に露光量を決定する露光量決定ステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】 投影光学系の結像特性を迅速に計測する。
【解決手段】 投影光学系の結像特性を計測する計測方法は、周期パターンを有するマスクを前記投影光学系の物体面に配置するステップと、スリットを前記投影光学系の像面に配置するステップと、前記投影光学系の光軸及び前記周期パターンの周期方向に直交する第１方向に沿って間隔を置いて配置された複数の点光源を含む有効光源で前記マスクを照明し、前記投影光学系によってその像面に前記周期パターンの像を形成するステップと、前記マスクと前記スリットとの前記周期方向に沿った相対的な位置を変更しながら、前記第１方向に沿って配置された複数の受光素子によって前記複数の点光源のそれぞれから射出され前記スリットを通過した光の強度の変化を検出するステップと、前記複数の受光素子によって検出された前記複数の点光源のそれぞれから射出され前記スリットを通過した光の強度の変化を用いて前記結像特性を算出するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】 露光装置の診断に有利な情報処理装置を提供すること。
【解決手段】 ユニットの較正処理を行う機能を有する露光装置が行った処理に関して蓄積された情報を処理する情報処理装置は、指定条件に従って前記情報を分析することにより、各較正処理を行うまでの指定期間における前記露光装置の運用状況の類別を行い、前記類別により定まる特定の前記運用状況に該当する複数の較正処理に関して、較正値の変化を表す情報を生成して出力する、ものとする。 （もっと読む）

【課題】同一の被露光体に対する複数種の露光パターンの形成効率を向上する。
【解決手段】被露光体を一方向に一定速度で搬送しながら該被露光体の搬送方向に所定間隔で配置された第１及び第２の露光領域毎に異なる露光パターンを形成する露光方法であって、各露光パターンに対応する第１及び第２のマスクパターン群を被露光体の搬送方向に所定間隔で並べて形成したフォトマスクの第１のマスクパターン群による被露光体の第１の露光領域に対する露光が終了すると、フォトマスクを所定距離だけ移動して第１のマスクパターン群から第２のマスクパターン群に切り替える段階と、第２のマスクパターン群により被露光体の第２の露光領域に対する露光を実行する段階と、を有し、第１及び第２のマスクパターン群の切り替え時における被露光体の移動距離がフォトマスクの移動距離よりも長くなるようにフォトマスクの移動速度を制御するものである。 （もっと読む）

【課題】半導体製造工程における情報管理を効率化すること。
【解決手段】複数のボンディングパッドが設けられる表面上に、複数の升目状パターンを、該ボンディングパッドが配置される周辺領域に取り囲まれた領域に、良品、半良品、不良品の情報に応じて第１の方向と該第１の方向と垂直な第２の方向に配列して構成された二次元パターンが付加された半導体チップを準備する工程と、前記二次元パターンを認識する工程と、認識された前記二次元パターンの前記半良品の情報に基づいて、前記半導体チップ内の冗長回路を使用するように、前記半導体チップの周辺に配置された複数のリードと前記複数のボンディングパッドとを複数のワイヤによって接続する工程と、を有する、半導体装置の製造方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】 例えばロール・ツー・ロールで搬送される帯状の感光性基板の移動速度を変化させなくても非露光エリアを小さく抑える。
【解決手段】 本発明の露光装置は、感光性基板（ＳＨ）を移動させる移動機構（ＳＣ）と、第１パターン領域を有する第１マスク（Ｍ１）を保持して移動する第１ステージ（ＭＳ１）と、第２パターン領域を有する第２マスク（Ｍ２）を保持して移動する第２ステージ（ＭＳ２）と、第１パターン領域のパターン像を基板上に形成する第１投影光学系（ＰＬ１）と、第２パターン領域のパターン像を基板上に形成する第２投影光学系（ＰＬ２）と、第１パターン領域のパターンを基板上の第１露光領域へ走査露光する第１走査露光期間と、第２パターン領域のパターンを基板上の第２露光領域へ走査露光する第２走査露光期間とが部分的に重複するように制御する制御部（ＣＲ）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】半導体基板上に形成されるチップサイズが小さくなっても、基準となる有効チップ領域の位置を目視、顕微鏡などにより認識することを容易とすること。
【解決手段】本発明の実施形態に係る半導体装置の製造方法においては、フォトリソグラフィの工程において、縮小投影型露光装置を用いた基準露光工程において、有効基準チップ領域に隣接する無効基準チップ領域を含み、かつ有効チップ領域および有効基準チップ領域を含まない露光範囲で、チップ領域のパターンとは異なるレジストパターンを形成するように露光を行う。これにより、周辺露光装置における周辺領域の露光において、有効基準チップ領域に隣接した無効基準チップ領域、その他無効チップ領域が残存していても、形成されるパターンの違いから有効基準チップ領域の位置を目視、顕微鏡などによっても容易に認識することができる。 （もっと読む）

【課題】半導体チップの利益を最適化するようにショットマップを形成する。
【解決手段】製品生産管理システム７０には、統括制御部１、歩留情報部２、製品情報部３、CAD・レイアウトサーバ４、シミュレーションサーバ５、及びユーザ端末６が設けられる。製品生産管理システム７０は、半導体集積回路や半導体素子からなる半導体チップなどの製品の生産管理を行う。製品生産管理システム７０は、歩留情報に基づいて作成された歩留モデルを用いて半導体チップの利益を最適化するようにショットマップの作成を行う。 （もっと読む）

【課題】計測用の光学系を大型化することなく、マスクの面形状の情報を効率的にかつ高精度に計測する。
【解決手段】レチクルの形状情報を計測する計測装置において、投影光学系ＰＬの物体面側に配置され、複数の位相マーク２０が形成されたパターン面を有するレチクルＲと、投影光学系ＰＬの像面側に配置され、位相マーク２０に対応して複数の周期パターン３９が形成された蛍光膜３５と、位相マーク２０、投影光学系ＰＬ、及び周期パターン３９を通過した照明光ＩＬから生成される検出光ＤＬを検出するＦＯＰ３７及び撮像素子３８と、撮像素子３８の検出信号からそのパターン面の形状情報を求める演算装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】ウエハ外周部のショットを高歩留まりかつ高効率で露光する露光制御装置を提供すること。
【解決手段】ウエハ外周部に配置される露光ショット内でのウエハの高さに関する高さ情報に基づいて、露光ショットを、露光するショットまたは露光しないショットの何れかに設定する露光有無設定部１２と、露光有無設定部１２が設定した露光するショットへの露光指示と、露光有無設定部１２が設定した露光しないショットに露光を行わないようスキップさせる指示と、を出力する露光指示部１４と、を有する。 （もっと読む）

【課題】レチクルまたはレンズの加熱によって生じるオーバーレイエラーの影響を小さくする。
【解決手段】
リソグラフィ装置のパターニングデバイスおよび関連する装置のより高次のひずみを決定する方法が開示される。より高次のひずみは、透過イメージングデバイスを使用して測定される。主な実施形態では、追加アライメント回折格子を、外辺部、イメージフィールドのけがき線の中、あるいはイメージフィールド自体に有することができる改良型レチクルが使用されている。 （もっと読む）

【課題】フォーカス値の測定時間を短縮し、かつ正確なフォーカス値を得ることができる半導体装置の製造方法及び露光装置を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、ウエハ３上に形成されたレジスト６より下層に形成された膜によって反射率が異なる領域について測定されたフォーカス値を取得し、反射率が低い第１の領域３１について得られたフォーカス値に、前記第１の領域３１よりも反射率が高い第２の領域３２について得られたフォーカス値を近づけて露光処理を行う。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクに発生するウエハへの転写性を有する欠陥が歩留まりの低下を起こさないように適切なタイミングで洗浄に移行できるようにする。
【解決手段】フォトマスクを所定露光回数毎に検査し、ウエハへの転写性を有する欠陥を評価する。転写性を有する欠陥が検出されたらその大きさと個数を露光回数とともに記憶し、複数回のデータ（４回分）に基づいて露光回数Ｅｘの関数ｆ（Ｅｘ）として予測する。欠陥の大きさＳｎの関数ｆ（Ｅｘ）の値が予め設定したウエハの歩留まりが低下する欠陥の大きさＳｙに達する露光回数Ｅｙを算出し、以後はフォトマスクの検査を行わず、露光回数ＥｘがＥｙに達したらフォトマスクの洗浄を行う。これにより、適切なタイミングでフォトマスクの洗浄を行え、コスト低減を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】
例えば、スループットの点で有利な露光装置を提供する。
【解決手段】
待ち行列中のジョブの情報に含まれる原版の情報に従って、前記原版を介して基板を露光する露光装置であって、前記原版を保持し且つ移動される原版ステージと、前記原版を待機させる待機部を有し且つ前記原版ステージに前記原版を搬送する搬送手段と、前記待機部で前記原版を待機させるか否かを設定する設定手段と、前記ジョブの情報と前記設定手段による設定とに従って前記搬送手段を制御する制御手段と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い位置合わせ精度を満たすために位置合わせ時間が増加した場合においても生産性を低下させない露光装置を提供する。
【解決手段】基板を保持して移動する基板ステージと、ショットのアライメントマークの位置を計測する位置計測手段と、基板の高さを計測する高さ計測手段と、を有し、これらの計測結果にしたがって基板ステージを位置決めして基板を露光する露光装置において、基板上の一部のショットに関してショット内の複数の計測箇所で高さ計測手段に高さの計測を行わせてショット表面の形状を算出し、各ショットのアライメントマークの位置を位置計測手段に計測させてショットの配列を算出し、アライメントマークの位置の計測に並行して高さの計測を行い基板の表面の形状を算出する処理手段を有する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光方法を提供する。
【解決手段】複数の基板を順次露光する露光方法は、複数の基板のうちの第１基板の露光前の温度に関する第１温度情報を取得することと、第１基板に露光光を照射して、第１基板を露光することと、第１基板の露光後の温度に関する第２温度情報を取得することと、第１温度情報及び第２温度情報に基づいて、複数の基板のうちの第２基板に対する露光条件を調整して、第２基板を露光することと、を含む。 （もっと読む）