【課題】モニタデータの解析を要する異常（例えば、成膜異常）について監視するために、最適なコンテンツを作成する仕組みを提供する。
【解決手段】基板処理システムは、基板を処理する基板処理装置と、前記基板処理装置から送信される測定データを蓄積する蓄積手段と、前記基板処理装置の稼動状態に関する前記測定データの項目、前記測定データに適用する統計量の種類、及び前記統計量の判定に用いる条件をそれぞれ個別に記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶された前記測定データの項目、前記統計量、及び前記条件からなる組み合わせについて、前記蓄積手段に蓄積された前記測定データが異常と判断される組み合わせを抽出する抽出手段と、を備えた管理装置と、を含む。 （もっと読む）

【課題】照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布の決定に有利な技術を提供する。
【解決手段】露光装置において、投影光学系の物体面に配置するマスクのパターンを設定Ｓ１０１、マスクのパターンの光学像を評価するためのカットラインを前記投影光学系の像面に設定Ｓ１０４、前記照明光学系の瞳面に形成される互いに異なる複数の要素光源を生成Ｓ１１０、前記複数の要素光源のそれぞれで前記マスクのパターンを照明したときに前記第２のステップで設定したカットラインの上に形成される前記マスクのパターンの光学像を算出Ｓ１１４、前記マスクのパターンの光学像の前記カットラインの上のエッジの間の中点の位置を目標位置に近づけるように、重み付けを与えた前記複数の要素光源を合成した光源を前記照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布として決定するＳ１１４、とを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、得られたパターン画像等に基づいて、正確なプロセスモニタ可能とする半導体製造装置の管理装置、及びコンピュータプログラムの提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、複数の位置のパターンの形状情報と、露光装置の露光条件との関連を記憶するライブラリと、画像情報から抽出された複数の位置の形状情報と、ライブラリに記憶された形状情報を比較し、画像情報から抽出された複数のパターンの形状情報に相当する複数の露光条件の範囲の論理積に基づいて、前記露光条件を抽出する演算装置を備えた半導体製造装置の管理装置、及び上記処理を実行するコンピュータプログラムを提案する。 （もっと読む）

【課題】 基板が処理室内に搬入される前にヒータの断線を検知し、ヒータの断線を検知したら基板処理工程を開始することを防止する。
【解決手段】 基板処理装置の各部の搬送動作を制御する搬送制御部と、基板処理装置の各部の処理動作を制御する処理制御部と、搬送制御部及び処理制御部を制御する主制御部と、を備え、主制御部は、所定のエラー処理を実施するエラー処理部を備え、処理制御部は、待機状態からレシピを実行可能な状態へ遷移させる指示を搬送制御部から受けると、断線検知処理を実施し、断線検知処理の結果、断線エラーを受信しなかったら、レシピを実行可能な状態へ移行し、レシピの実行指示を待ち、断線エラーを受信したら、レシピを実行可能な状態へ移行することなく、主制御部へ断線エラーを通知してエラー処理を実施させる。 （もっと読む）

【課題】プロセスレシピ実行中にアラームが発生した場合、実行中のプロセスレシピを中断することなく、プロセスレシピ実行が終了した後に、リカバリ用のメンテレシピを自動実行することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】予め、アラーム種別とメンテレシピ種別とを対応付けて記憶しておき、プロセスレシピ記憶部に記憶したプロセスレシピを実行中にアラームを検出すると、該検出したアラーム種別を記憶しておき、前記検出し記憶したアラーム種別と、前記対応付けて記憶したアラーム種別とメンテレシピ種別とに基づき、実行すべきメンテレシピを特定し、プロセスレシピ実行終了後に、前記特定したメンテレシピを、メンテレシピ記憶部から読み出して実行するようにした基板処理装置。 （もっと読む）

【目的】描画装置の計算機の過負荷状態を引き起こさない、或いは緩和することが可能な装置を提供することを目的とする。
【構成】描画装置１００は、第１のモジュールと、実行周期で動作を実行する第２のモジュールとを並行して実行するＣＰＵ１１２と、ＣＰＵ使用率を監視し、使用率に応じて増減する新たな実行周期を演算し、出力する負荷制御部１１６と、第１のモジュールの実行によって制御される、試料にパターンを描画する描画部１５０と、を備え、ＣＰＵ１１２は、新たな実行周期が出力された際に、以降は当該新たな実行周期で第２のモジュールを実行することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ウェハ処理装置の稼動率を向上させる。
【解決手段】ウェハ処理システム１００を用いた半導体装置の製造方法は、ウェハの供給順番が定められたロットの識別子と、ウェハ処理部に最初に供給される第１のウェハを処理するウェハ処理部を示すウェハ処理部識別子とが関連付けられて記憶部１２に記憶され、ウェハローダ／アンローダ３０が、第１のウェハを、ウェハ処理部識別子に対応するウェハ処理部に供給する第１の過程と、ウェハローダ／アンローダ３０が、第１のウェハに続いて供給するウェハを、供給順番に従い複数のウェハ処理部（２１〜２Ｎ）のいずれかに順次供給する第２の過程とを含む。 （もっと読む）

【課題】ソフトウエアを用いて半導体製造装置を保守するにあたり、作業者の負担が小さくて効率が良く、また作業ミスの起こりにくい半導体製造システムを提供すること。
【解決手段】点検項目ごとに点検の操作事項と確認事項とを予め定めた点検順（作業順）に画面に表示させると共に、これら点検事項が自動の実行であるか手動の実行であるかの区別表示を行っている。そして、自動の実行である場合には点検事項が自動で行われ、また手動の実行である場合には、操作事項を行ったことあるいは確認結果の入力を受け付ける画面をポップアップにより表示させ、その入力により次の点検事項が記憶部から読み出され順次点検が行われるようにする。 （もっと読む）

【課題】半導体露光装置において、アプリケーションソフトのプロセスが異常状態になった場合に、装置全体を再起動せずに装置のダウンタイムを最低限にし生産量への影響を軽減する。
【解決手段】アプリケーションソフトのプロセスが異常状態になった場合に、生産処理状況を考慮して局所的なプロセスの再起動を行う。更に、処理の実行単位であるジョブにプロセスを関連させて対応情報を持つことによって、プロセス構成が可変のシステムにも対応する。 （もっと読む）

【課題】走査速度の低下、露光ピッチの長さ拡張等することなく、高解像度パターンを形成しながらスループットを向上させる。
【解決手段】ラスタデータ変換部は、実際の露光エリアよりもデータサイズの大きい４つの拡大ラスタデータＥＬＡ〜ＥＬＤをブロックとして生成し、時間間隔ＴＭに従って第１、第２バッファメモリへ交互に格納する。一方、アドレス制御回路は、露光ピッチに応じた露光タイミングに合わせて、第１、第２バッファメモリから露光用ラスタデータＥＬＡ１〜ＥＬＤ１を交互に読み出す。このとき、露光エリアＥＡの相対移動に合わせながらブロック毎の露光用ラスタデータ抽出を３回繰り返し、露光用ラスタデータＥＬＡ１〜ＥＬＤ１、ＥＬＡ２〜ＥＬＤ２、ＥＬＡ３〜ＥＬＤ３を、４つの拡大ラスタデータＥＬＡ〜ＥＬＤから順に抽出する。 （もっと読む）

【課題】走査露光装置のスループットの点で有利な基板ステージの移動順序と基板上の複数のショットそれぞれでの走査方向とを得ること。
【解決手段】走査露光装置の基板ステージの初期位置、前記基板ステージに保持された基板上の複数の計測点それぞれを計測するための複数の計測位置、前記基板上の複数のショットそれぞれを露光するための複数の露光位置、及び、前記基板ステージの最終位置を前記基板ステージに順次移動させる順序と前記複数のショットそれぞれでの走査方向とを、特定のノード及び移動コストの設定の下で定式化された巡回セールスマン問題の解を求めて決定する。 （もっと読む）

【課題】 露光装置の診断に有利な情報処理装置を提供すること。
【解決手段】 ユニットの較正処理を行う機能を有する露光装置が行った処理に関して蓄積された情報を処理する情報処理装置は、指定条件に従って前記情報を分析することにより、各較正処理を行うまでの指定期間における前記露光装置の運用状況の類別を行い、前記類別により定まる特定の前記運用状況に該当する複数の較正処理に関して、較正値の変化を表す情報を生成して出力する、ものとする。 （もっと読む）

【課題】パターン描画装置において光源を小型化した装置および光源を提供する。
【解決手段】 パターン描画装置１は、複数の描画ユニット４を備え、これらが有する光源部３０をパッケージＬＥＤ３１１を用いて小型化する。パッケージＬＥＤ３１１の発光部であるＬＥＤベアチップ３１５を同じ姿勢で、かつ等間隔に配置するためにアライメントシート３１９を用いることで、複数のパッケージＬＥＤ３１１を高精度かつ容易に電極基板３１３に一括実装することができる。これにより、安価であるパッケージＬＥＤ３１１を利用することができ、コストの削減ができるとともに、光源を小型化したパターン描画装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】マイクロミラーをマトリックス状に配列したＤＭＤを用いて、感光性ワークに対して主走査方向に走査しながら露光を行なうようにした露光装置および露光方法において、ＤＭＤの各ミラー列の積算光量の均一化を図る。
【解決手段】基板１０上に形成する画像の描画パターンに応じ、露光部分の周囲の漏れ光量をも考慮したミラー選定マップを予め作成しておき、このようなミラー選定マップを用いてＤＭＤ１４を制御することによって、ＤＭＤ１４の各画素列の積算光量を互いに等しくする。 （もっと読む）

【課題】良好にパターンを形成することが可能なパターン形成方法及び原板管理方法を提供する。
【解決手段】転写パターンを有する原板３を洗浄する工程と、原板３を洗浄した後の原板３の許容放置時間が経過する前に、転写パターンを被転写基板１に形成されたパターン形成材料２に転写する工程と、を備える． （もっと読む）

【課題】複数の基板（ロット）の一括した処理を一つの処理単位（ジョブ）とする場合、複数のジョブを同時に実行する基板処理装置において、基板処理中に異常が発生したジョブの基板回収と正常なジョブの実行を並行に実施することが可能な機能を持つ基板処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】複数の異なるジョブを同時に実行する基板処理装置であって、異常が発生したジョブに該当する未処理材料を回収すると共に正常なジョブを並行させることにある。 （もっと読む）

【課題】着脱可能な記録媒体が誤って取り外されないよう、使用者の注意を喚起するとともに、記録媒体を取り外すことができるか否かの確認を操作画面上で行うことのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理に関する情報を操作する操作画面の表示を制御する制御手段と、着脱可能な外部記憶装置に前記情報を出力する出力手段とを有する基板処理装置であって、前記制御手段は、前記外部記憶装置が装着されている場合、装着された外部記憶装置を取り外すためのボタンが押下可能な場所に配置されるよう制御し、前記外部記憶装置が装着されていない場合、前記ボタンが押下されないよう制御する基板処理装置である。 （もっと読む）

【課題】エラーから復旧に有利な露光装置、方法およびプログラムを提供する。
【解決手段】露光装置は、基板を露光する本体部と、本体部を操作する操作部とを有し、操作部は、本体部に発生するエラーの情報と、エラーに対応する復旧方法の情報と、復旧方法に対応する複数種類の評価値の情報と、複数種類の評価値のうち復旧方法の優先順位を決めるために使用する評価値を特定する情報と、を記憶するデータベース１１及び１２と、本体部に発生したエラーに対し、データベース１１及び１２に記憶された各情報に基づいて優先順位を決定し、決定された優先順位に基づいて本体部の復旧のための制御を行う制御部１５とを有する。 （もっと読む）

【課題】非点収差を小さくすることができる光学系、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】投影光学系１５の鏡筒３４内に収容される対象レンズ３５に照射ビームＳＬを射出する射出機構５１は、一端部５３ａが鏡筒３４内に配置され、且つ他端部５３ｂが鏡筒３４外に配置され、内部に照射ビームＳＬ用の導光路が形成された導光部材５３と、導光部材５３の一端部５３ａに設けられ、対象レンズ３５に向けて照射ビームＳＬを射出する射出部と、鏡筒３４外に配置される第１駆動源７５と、第１駆動源７５で発生する第１駆動力を導光部材５３の一端部５３ａに伝達し、射出部の位置を移動させる第１伝達機構７６と、を有する。 （もっと読む）

【課題】プロファイル及びそのバリエーションをユーザが設定するのを手助けするシステムを提供する。
【解決手段】既知のオブジェクトのイメージ４２を取り込むこと、及び、このイメージ上に、手動又は自動によって推定プロファイル２０を重畳すること、を含む。推定プロファイルは数学的に定義され、かつ、上記イメージと一致するようにセグメント毎に調節される４０ことによって、調節された推定プロファイルが、上記イメージに関連する当該回折スペクトルとともに記憶される。あるいは又はこれに加えて、ユーザは、既知のイメージのプロファイルをトレース（又は自由描写）し、その後、多項式、スプライン、又はベクトル等の数学関数の形状定義物を推定プロファイル上に描くことにより、未知のオブジェクトのプロファイルをその回折パターンから再構成する際に使用し得る。 （もっと読む）