【課題】 容易にかつ精度よく光学素子を製造することのできる光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 半導体基板２２の受光面２４を除く領域を覆うカバー層４６，４７を形成した後、基板２２の受光面２４に透光層２３ａ，２３ｂを複数積層して透光部２３を形成する。次に、カバー層４６，４７とともに、透光部２３の除去部分２３Ｂを除去する。透光部２３の除去部分２３Ｂをエッチングによって除去するのではなく、カバー層４６，４７を除去することで、各透光層２３ａ，２３ｂのエッチング速度の違いにかかわらず、透光部２３の除去部分２３Ｂを精度よく除去することができる。これによってドライエッチングを行うことなく、透光部２３の残留部分２３Ａを精度よくパターン形成することができる。 （もっと読む）

【課題】ＣｄＴｅ材料の放射線感応膜で構成される二次元放射線検出器において、基板に接する側と膜露出側の膜質を均一化し、電荷収集効率を上げ感度向上を図る。
【解決手段】第一の基板２上に放射線感応膜として機能する積層膜を成膜したあと、前記積層膜が露出している膜面に導電性接着層として機能するカーボン厚膜４を介して第二の基板５を貼り付けた後、前記第一の基板２と前記積層膜の内膜質が思わしくない積層膜３１を研磨除去して、良好な膜質の積層膜３２の膜面を露出させ、該膜面にアクティブマトリクス基板を貼り付けた構造とする。したがって、基板に接する側と膜露出側の膜質を良好で均一なものとすることが可能であり、電荷収集効率を上げ感度向上が期待できる。 （もっと読む）

【課題】非晶質酸化物を用いたセンサおよＸ線非平面イメージャ。
【解決手段】センサは透明基板上に下部電極、非晶質酸化物半導体層、上部電極で構成される。イメージャは前期センサとＴＦＴを組み合わせて構成する。Ｘ線検出にはシンチレータと組み合わせてもよい。上記膜によりＴＦＴを作製することもできる。非晶質酸化物層の作製にはパルスレーザ蒸着法を用いた。上記膜の電子キャリア濃度は１０＾１８／ｃｍ３未満であることを特徴とする。上記膜は伝導電子数の増加に伴い電子移動度が増大することを特徴とする。 （もっと読む）