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Fターム[5F110PP21]の内容

薄膜トランジスタ (412,022) | 再結晶化 (11,370) | 成長方向 (496)

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【課題】チャネル形成領域の空乏化領域を増やし、電流駆動能力の高い半導体装置を提供する。
【解決手段】トランジスタを有する半導体装置であって、絶縁表面上に所定の間隔を隔てて互いに平行に配列された複数の短冊状の半導体膜と、前記複数の短冊状の半導体膜の上面及び側面に接するゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜を介して前記複数の短冊状の半導体膜の上面及び側面を覆うゲート電極を有する半導体装置である。半導体膜の上部及び側部をチャネル形成領域とすることで、電流駆動能力を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】結晶粒界が大きく電気的特性の向上したTFTを、コスト上昇を抑制しつつ形成する。
【解決手段】平坦な表面を有する基板10の該表面上に、高熱伝導性を有する材料からなる熱伝導層37を形成する第1の工程と、熱伝導層37を、熱伝導層37の少なくとも一部が表面に対して傾斜する傾斜部38となるようにパターニングする第2の工程と、少なくとも傾斜部38を覆うように、基板10上に非晶質シリコン層32を形成する第3の工程と、非晶質シリコン層32をレーザーアニールにより結晶化して多結晶シリコン層34を形成する第4の工程と、多結晶シリコン層34上に、平面視で傾斜部38と少なくとも一部が重なるようにゲート電極42を形成する第5の工程と、を有することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 (もっと読む)


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