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Fターム[5F157AA34]の内容

半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | 被洗浄物の形状、形態 (6,397) | 被洗浄物の成分 (1,159) | AlAl化合物 (81)

Fターム[5F157AA34]に分類される特許

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アニオンN−置換フッ素化スルホンアミド界面活性剤ならびにクリーニング溶液および酸エッチング溶液中での該界面活性剤の使用が記載されている。クリーニング溶液およびエッチング溶液は、例えば、酸化シリコン含有基材のクリーニングおよびエッチングにおいて多様な基材と合わせて用いられる。 (もっと読む)


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