説明

Fターム[5F157DA12]の内容

半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | 安全性確保を目的とするもの (1,023) | 環境衛生 (82) | 騒音防止(静音、遮音、防音等) (2)

Fターム[5F157DA12]に分類される特許

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【課題】超臨界流体を利用して基板を処理する基板処理装置及びこれを利用する超臨界流体排出方法が提供される。
【解決手段】本発明による基板処理装置は、超臨界流体が提供される容器と、前記容器から前記超臨界流体が排出されるベントラインと、前記ベントラインに設置されて超臨界流体の凍結を防止する凍結防止ユニットと、を含む。 (もっと読む)


【課題】洗浄槽に純水を安定して供給でき、かつ、設備の大型化やコストアップを抑えることができるフープ洗浄乾燥装置を提供する。
【解決手段】洗浄槽3に設けられたノズル27に、フープ洗浄用に純水を収容する水タンク32をバルブ46を介して接続し、水タンク32に水圧送用の圧気を供給するための圧気供給手段53を接続し、洗浄槽3に、フープ洗浄後に洗浄槽3内の水を排出すると共に、フープ乾燥時に洗浄槽3内の空気を排出するための排気排水口34を形成し、排気排水口34に気液分離器9を介して空気吸引手段42を接続し、空気吸引手段42と水タンク32を同一のケーシング47内に収容してユニット化したものである。 (もっと読む)


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