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Fターム[5F172EE24]の内容

レーザ (22,729) | 励起構成 (1,886) | 光励起以外の励起 (193) | マイクロ波によるもの (4)

Fターム[5F172EE24]に分類される特許

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【解決手段】 マイクロ波によってレーザガスを励起させてレーザ光Lを発振させるようにしたレーザ発振装置1は、内部にレーザガスを収容する筒状の放電管3と、フロントミラーとリヤミラーとから構成された共振器を有するレーザ発振器31A、31Bと、マイクロ波を発生させるマイクロ波発生器15と、このマイクロ波発生器によって発生されたマイクロ波を上記放電管に導波する導波管17とを備えている。上記導波管17は、放電管3の外周面に螺旋状に配置してあり、この導波管に複数のスリットを設けてある。
【効果】 上記放電管3の外周面の略全体から放電管3の半径方向内方に向かってマイクロ波を放射して放電管3内に収容されるレーザガスを励起させることができるので、該レーザガスを効率的に励起することができる。 (もっと読む)


【課題】冷却液の漏洩を防ぐことができるガスレーザ発振装置を得る。
【解決手段】内部にレーザガスが封入される風洞容器50と、風洞容器50内に対向して設けられ、一部に電極がそれぞれ形成された一対の誘電体電極1a,1bを有する放電電極100と、誘電体電極1a,1b内部に埋設された冷却路8とを備え、一対の誘電体電極1a,1bの電極に電圧を印加してそれぞれの電極形成部間の空間に放電を発生させると共に、冷却路8内に冷却液を通し誘電体電極1a,1bを冷却するように構成し、誘電体電極1a,1bの冷却路8は、電極形成部の誘電体部と、電極形成部間の放電空間よりレーザガスの下流側に対応する誘電体電極の誘電体部とに、それぞれ埋設すると共に、冷却路8を樹脂又は金属で形成したものである。 (もっと読む)


システム及び方法は、材料加工のためのレーザパルス列を生成する。一実施の形態においては、連続波(CW)又は準CWレーザビームから、高い繰返し速度の安定したレーザパルス列が生成される。レーザパルス列の1つ以上のレーザパルスを整形して、ターゲット材料に供給されるエネルギーを制御してもよい。他の実施の形態においては、単一のレーザパルス、CWレーザビーム又は準CWレーザビームから、複数のレーザビームが複数の加工ヘッドに分配される。このような実施の形態の1つでは、単一の光偏向器が、各加工ヘッドに亘って複数のレーザビームを分配する。 (もっと読む)


単指向性リングレーザ発振器は、大容量の非対称断面レーザゲイン媒体に結合するために、一つの横寸法において進行波不安定モードを有し、直交横寸法において導波管又は自由空間ガウスモードを有する。この装置のコンセプトは、凹面の光学機器を使用することなく、キャビティ内放射形態における左右の転換のような新規で革新的な特徴を有する。キャビティ内リング光学機器の一つの調整不良に対する高い鈍感性が、通常キャビティ内焦点面で出会う高い強度の放射と関連する有害ない効果を被ることなく、レーザの単指向性操作はキャビティ内及びキャビティ外光学技術の両方を使用して達成される。
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