フェノール及びメチルエチルケトンを製造する方法は、ベンゼン及びＣ４アルキル化剤を含む原材料をアルキル化条件下で、ゼオライトベータ又は１２．４±０．２５、６．９±０．１５、３．７５±０．０７、及び３．４２±０．０７オングストロームの格子面間隔の最大値を含むＸ線回折パターンを有するモレキュラーシーブを含む触媒に接触させ、ｓｅｃ−ブチルベンゼンを含むアルキル化流出液を生成する工程を含む。該ｓｅｃ−ブチルベンゼンをその後酸化し、ヒドロキシペルオキシドを生成し、該ヒドロキシペルオキシドを分解してフェノール及びメチルエチルケトンを生成する。 （もっと読む）

【課題】排気ガス中の炭素含有粒子と窒素酸化物を減少させる。
【解決手段】窒素酸化物を吸収し、炭素含有粒子を捕捉し、その消化能を有する液表面を排気ガス通路に設置する。 （もっと読む）

【課題】フェノール類と、ジアルデヒド類とから、腐食性の小さい酸触媒を使用しながら、テトラキス（ヒドロキシフェニル）アルカンを高い純度および高い収率で効率よく製造し、また、構造異性体の生成を抑制してテトラキス（４−ヒドロキシフェニル）アルカンを高い選択率で製造し、かつ、廃棄物を低減する方法を提供する
【解決手段】リン酸類の存在下、フェノール類と、ジアルデヒド類とを不均一系反応させる反応工程を有するテトラキス（ヒドロキシフェニル）アルカンの製造方法。 （もっと読む）

【構成】 一般式１のハロゲン化非対称ベンゾフェノン類。


（R¹〜R⁵はＨ、Ｆ、ＣｌまたはＢｒであり、但し一つ以上はＨでなく、R⁶〜R¹⁰ はＨ、Ｆ、ＣｌまたはＢｒ、ニトロ、C₁〜C₄-アルキル−またはC₁〜C₄−アルコキシ基または、Ｆ、ＣｌまたはＢｒまたはニトロ、C₁〜C₄−アルキル、C₁〜C₄−アルコキシ、−C Ｆ₃ 、−CHO 、−CO−フェニル、-SO₂- フェニル等あり、その際R⁶〜R¹⁰ の３個まではC₁〜C₄−アルキル基、C₁〜C₄−アルコキシ基または上述のアリール基であってもよくR⁶〜R¹⁰ の１つ以下がニトロ基でありR⁶〜R¹⁰ のハロゲン原子およびニトロ基の数──R⁶〜R¹⁰ のC₁〜C₄−アルキル−、C₁〜C₄−アルコキシ−およびアリール基の数が減じている──はR¹〜R⁵のハロゲン原子の数より１つ以上少ない。）
【効果】 薬化学、植物保護剤および液晶を製造するための有用な化合物の中間体である。 （もっと読む）