【課題】簡易な構成で、加工対象物を広範囲で加工することが可能なビーム加工装置を提供すること。
【解決手段】ビーム加工装置は、ビームが通過する第１空間１６および第１空間１６の周囲に壁部１４ａを介して配置される第２空間１７が形成される局所真空チャンバー９と、第１空間１６、第２空間１７を真空状態とするための吸気手段とを備えている。ワークに対向する対向部１５は、ワークに向けてビームを出射するための出射孔２２ａを有する第１対向部１８と、出射孔２２ａの外周側に配置される開口部３２を有する第２対向部１９と、第２対向部１９の変形を防止するための変形防止部２０、１９ｄとを備えている。第１対向部１８と第２対向部１９との間には、開口部３２を介して局所真空チャンバー９の外部に連通しかつ第２空間１７の一部となる対向部間空間１７ａが形成されている。 （もっと読む）

【課題】高強度の電子線を広範囲に走査させて、ワーク表面の広い領域に均一に電子線を照射することができる電子線照射装置を提供する。
【解決手段】電子線照射装置１を、複数の真空チャンバー３と、真空チャンバー３のうちの最終チャンバー３ｃ内に電子線ＥＢを射出する電子線発生装置２と、最終チャンバー３ｃに設けられて最終チャンバー３ｃから外部への電子線ＥＢの通過を許容する電子線射出口９と、電子線ＥＢを最終チャンバー３ｃ内でビーム軸線に直交する一方向に走査させる走査磁石１６とを有する構成とする。電子線射出口９を、走査磁石１６による電子線ＥＢの走査方向に沿って設けられたスリットによって構成する。走査磁石１６の鉄心１７を、磁極をなす一対の端部が対向させられたＣ字形状とし、各端部を、最終チャンバー３ａ内に挿入して、互いの間に前記電子線の軌道を挟み込むように近接配置する。 （もっと読む）

【課題】 装置を大型化することなしに、低コストで電子線によるワークの処理を容易かつ良好に行うことができる電子線照射装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 真空チャンバー３と、真空チャンバー３内に電子線を発生させる電子線発生装置と、真空チャンバー３の内外を接続して電子線発生装置が発する電子線ＥＢを真空チャンバー３外に通過させる電子線射出口８と、真空チャンバー３外で電子線射出口８の周囲を囲むとともに電子線射出口８に対向する部位に開口部２２ａを有するノズル２２と、ノズル２２内に不活性ガスを供給する第一プロセスガス供給装置１１と、ノズル２２内に乾燥空気を供給する第二プロセスガス供給装置１２とを設ける。ノズル２２に、第一プロセスガス供給装置１１が供給する不活性ガスと第二プロセスガス供給装置１２が供給する乾燥空気とが供給されてこれらが混合される拡径部２２ｃ（混合器）を設ける。 （もっと読む）

【課題】真空雰囲気で発生した粒子線を真空雰囲気をシールしたまま大気中に取り出す。
【解決手段】真空雰囲気３に置かれた粒子線発生装置１と、該真空雰囲気を大気１５と分離する分離手段１３と、該分離手段に設けられた粒子線を通過せしめる固定穴１７と、前記分離手段の固定穴と整合し得る移動穴２１または周囲に複数の切り欠きを有する回転板１9と、該固定穴と移動穴または切り欠きとを所定の速度にて整合させるよう該回転板を高速回転せしめる回転駆動装置２３と、前記回転板で発生する熱を除去するための冷却手段とからなる粒子線取り出し装置。 （もっと読む）