【課題】冷却による基板の損傷を防止可能な基板冷却装置、基板キュア装置、並びに基板の製造方法を提供する。
【解決手段】基板冷却装置において、複数の基板８０ａ〜８０ｆは、下側から上側に向かって、基板８０ａ〜８０ｆの順番で間隔Ｄを空けて積層されている。突出片６５は基板８０ｂと略同一線上の位置にあり、突出片６６は基板８０ｄと略同一線上の位置にあり、突出片６７は基板８０ｆと同一線上の位置にある。基板８０ａ〜８０ｆは、突出片６５〜６７によって、Ａ〜Ｃのエリアに区分されている。冷却室７内には、突出片６５〜６７と基板８０ａ〜８０ｆとによって、Ａ〜Ｃのエリアに区分された送風路Ｓが形成されている。送風路Ｓにおいて、各エリアに位置する基板８０ａ〜８０ｆは、略整流板である。 （もっと読む）

【課題】優れた耐衝撃性及び平坦性を備え、かつ光学歪みのない磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】溶融ガラスから略円環状を有するガラス基板を得る円盤加工工程と、前記円盤加工工程によって得られたガラス基板に熱を加えて形状を矯正する第１アニール工程と、前記第１アニール工程によって得られたガラス基板の表面を研削する第１ラッピング工程と、前記第１ラッピング工程によって得られたガラス基板に再度熱を加えて形状を矯正する第２アニール工程と、前記第２アニール工程によって得られたガラス基板の表面を研削する第２ラッピング工程と、を備える磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いる。また、前記第２アニール工程において加えられる熱の温度は、ガラス転移温度（Ｔｇ）より２０〜５０℃低いことが好適である。 （もっと読む）

【課題】優れた耐衝撃性及び平坦性を備え、かつ光学歪みのない磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】溶融ガラスから略円環状を有するガラス基板を得る円盤加工工程と、前記円盤加工工程によって得られたガラス基板に熱を加えて形状を矯正するアニール工程と、前記アニール工程によって得られたガラス基板の表面を研削するラッピング工程と、前記ラッピング工程によって得られたガラス基板の表面を研磨する研磨工程と、前記研磨工程によって得られたガラス基板の残存応力を光学的に計測する応力計測工程と、を備える磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。前記応力計測工程は、ガラス基板の複数箇所における複屈折量の測定を行うことが好適である。前記磁気情報記録媒体用ガラス基板に採用するガラス基板として、前記応力計測工程によって得られたガラス基板を選定する選定工程をさらに備えることが好適である。 （もっと読む）

【課題】光学素子の成形品質および生産性を向上させる。
【解決手段】成形型ブロックのガラスプリフォームを加熱／プレスして光学素子に成形する光学素子の製造方法において、プレス後の冷却を、プレス温度からガラス転移点Ｔｇ近傍までの冷却工程Ａと、ガラス転移点Ｔｇ近傍から歪点Ｓｔ近傍までの冷却工程Ｂと、歪点Ｓｔ近傍より下側の温度範囲の冷却工程Ｃの各々に区分し、冷却工程Ａでは、光学素子の歪みが小さくなるように平均冷却速度ＶＡおよび荷重を設定し、冷却工程Ｂでは、光学素子の形状精度とＣｏｍａのばらつきが小さくなるように平均冷却速度ＶＢを設定し、冷却工程Ｃでは、屈折率分布Ｋが既定値以下となる範囲で最大の平均冷却速度ＶＣを設定することで、光学素子の品質向上と生産性の向上を両立させる。 （もっと読む）

【課題】 合成石英からなるフォトマス用のガラス基板や該ガラス基板を用いたフォトマスクにおいて、ガラス基板の周辺部にひび、欠けの欠陥部が生じた場合に、該欠陥部を修正でき、且つ、フォトマスクの仕様であるフラットネスを確保できる方法を提供する。
【解決手段】 順に、（ａ）ガラス基板の前記欠陥部にガラス基板とは別の合成石英を溶融して欠陥部を埋める溶接をし、且つ、溶接部が盛り上がるようにする処理を行う、補修処理と、（ｂ）ガラス基板の前記補修処理における処理領域を、部分的に加熱によりアニールして、該処理領域の残存応力をとるアニール処理と、（ｃ）前記補修処理において盛り上がった溶接部を削って外形を整える整形研磨処理と、（ｄ）端面、表裏の各面に対して、それぞれ、各面の未修正部に合わせて研磨を行う、研磨処理とを、有する。 （もっと読む）

【課題】情報記録媒体用ガラス基板の耐酸性を向上させる方法の提供。
【解決手段】フロート法、ダウンドロー法またはプレス法によって板状に成形されたガラスを加工して情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法であって、そのガラスの温度が歪点以上となる最後の工程のガラスの冷却において、ガラスの温度が歪点以上であってガラスの粘度が１０^１０ｄＰａ・ｓとなる温度以下の範囲にある時間が１３分以上である情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 シリカ−チタニアガラス製のＥＵＶＬ鏡（または、他の）基材のＴｚｃを、所望の特定の範囲に調節できるようにする。
【解決手段】 ＥＵＶＬ鏡基材のＴｚｃを、基材のＴｚｃを所望のＴｚｃ値にシフトさせる選択された最終アニールを行うことによって、特定の範囲になるように調節することができる方法が記載されている。また、セットを構成する個々の鏡が、異なる値のＴｚｃに指定され得ることから、この方法は異なるＴｚｃ値を有する部品を単一のガラスブールから製造するためのガラスサンプルまたはガラス片の製造に使用することができ、これにより、注文に応えるために要求される個々のブール数を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、アニール処理による歪みの除去や屈折率の調整を効果的に行うことができ、かつ、白ヤケの発生を抑制することができる光学素子の製造方法及びアニール処理装置を提供する。
【解決手段】炉内を加熱することができる加熱手段２を有する熱処理炉３と、該熱処理炉３内に、炉内の雰囲気ガスとは別に乾燥ガスを保持可能な空間を設け、かつ、該空間内にトレー５に載置したプレス成形して得られた光学素子を収容することができる炉内容器４と、空間内に大気圧露点が−５℃以下の乾燥ガスを供給する乾燥ガス供給手段６と、を有するアニール処理装置１。 （もっと読む）

紫外線ＬＥＤ用緑色発光ガラスおよびガラスの製造方法が開示される。該製造方法は、ＣａＣＯ_３、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、ＣｅＯ_２、およびＴｂ_４Ｏ_７の原料をそれぞれ計量し、前記原料を均一に混合する工程と；前記原料を１５００〜１７００℃で０．５〜３時間融解した後に成形してガラスを形成する工程と；形成された前記ガラスを還元性雰囲気下６５０〜１０５０℃の温度で３〜２０時間アニールする工程と；前記ガラスを室温へと冷却し、ＵＶ‐ＬＥＤ用緑色発光ガラスを得る工程と；を有する。本開示の製造方法により製造された紫外線ＬＥＤ用緑色発光ガラスは光度、均一性、および安定性が高いという利点を有する。
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【課題】本発明は、赤外線を用いて透明及び／又は半透明なガラス及び／又はガラスセラミック製品を均一に加熱する方法に関する。
【解決手段】ガラス及び／又はガラスセラミック製品に、２０〜３０００℃、特に２０〜１７０５℃で、加熱処理を施す。本発明は、ガラス及び／又はガラスセラミック製品に直接的に作用する赤外線の成分と、このガラス及び／又はこのガラスセラミック製品に間接的に作用する赤外線の成分とを用いて加熱がなされることを特徴とする。ガラス及び／又はガラスセラミック製品に間接的に作用する成分は、全放射出力の５０％以上に及ぶ。 （もっと読む）