国際特許分類［C07D317/08］の内容
化学；冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 複素環式化合物 (108,186) | 異項原子として２個の酸素原子のみをもつ５員環を含有する複素環式化合物 (967) | その異項原子を１，３位にもつもの (966)
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他の環と縮合していないもの (420)
炭素環または環系とオルト―またはペリ―縮合したもの (492)
炭素環とスピロ―縮合したもの (53)
国際特許分類［C07D317/08］に分類される特許
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フェニルシクロヘキセン誘導体またはスチレン誘導体の製造方法
【課題】 従来、液晶材料の製造工程において用いられるベンジルアルコール誘導体の脱水工程における収率の悪さを改善し、簡便で安価な製造方法を提供する。
【解決手段】 一般式（１）または一般式（３）で表されるベンジルアルコール誘導体に、炭酸ビス（トリクロロメチル）を作用させることにより、一般式（２）または一般式（４）で表されるフェニルシクロヘキセン誘導体またはスチレン誘導体を製造する製造方法。
【化１】
高収率および高純度でフェニルシクロヘキセン誘導体またはスチレン誘導体が得られ、液晶化合物の製造工程として有用である。
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