国際特許分類[C07D497/08]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 複素環式化合物 (108,186) | 縮合系中に異項原子として酸素および硫黄原子のみをもつ少なくても1個の複素環を含有する複素環式化合物 (28) | 縮合系が2個の複素環を含有するもの (12) | 架橋系 (1)
国際特許分類[C07D497/08]に分類される特許
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤
【課題】新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、式(b1−1)で表される化合物を含む酸発生剤成分(B)とを含有するレジスト組成物;式中、R1”〜R3”はアリール基又はアルキル基を表し、その少なくとも1つは式(b1−1−0)で表される基で置換された置換アリール基であり、いずれか2つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。Xは炭素数3〜30の炭化水素基、Q1はカルボニル基を含む2価の連結基、pは1〜3の整数である。Wは炭素数2〜10のアルキレン基である。]
[化1]
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