【課題】精製された含フッ素重合体の製造方法、該含フッ素重合体をペリクル膜に用いたペリクルおよび該ペリクルを用いた露光処理方法を提供する。
【解決手段】構造の一部として下式（Ａ）で表される構造を有するモノマー単位を含む含フッ素重合体（Ａ）を極性を有する官能基を持たない貧溶媒で洗浄する精製された含フッ素重合体の製造方法（ただし、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４およびＸ^５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１〜３のポリフルオロアルキル基であり、少なくとも３個がフッ素原子である。）。たとえば、ＣＦ_２＝ＣＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ＝ＣＦ_２の環化重合により形成された下式（Ｉ１）で表されるモノマー単位を含む精製された含フッ素重合体の製造方法。該含フッ素重合体の膜からなるペリクル、該ペリクルを用いた露光処理方法。
【化１】
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【課題】 大気中でも速やかに光硬化し、ガラス、金属、樹脂等の基材に対する密着性が良好な光カチオン硬化性組成物、並びに該組成物からなるインクジェットインク、ハードコーティング材、およびそれらの硬化物を提供する。
【解決手段】 （Ａ）下記一般式（１）で表されるアルコキシシラン化合物１００部に対して、（Ｂ）カチオン反応性化合物０．１〜１０００部、（Ｃ）光カチオン重合開始剤０．０５〜５０部、を含有してなる光カチオン硬化性組成物。
【化１】


（式中、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ は、それぞれ同一もしくは異なる炭素数１〜２０のアルキル基を表し、ｎ≦２である。） （もっと読む）

【課題】転写体の製造方法、光硬化性組成物、および該光硬化性組成物を用いた微細構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体を形成しうる含フッ素単量体（Ａ）および重合開始剤（Ｂ）を含有する硬化性組成物を、最小寸法が５０μｍ以下のパターンが表面に形成されたモールドと接触した状態で硬化させるモールドのパターンが転写された転写体の製造方法、ならびに微細パターンの反転パターンを有するモールドの該反転パターン面と、基材表面との間に挟持して押圧した後に光照射により硬化することによって、微細パターンを表面に有する硬化物を形成する光硬化性組成物であり、かつ主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体を形成する、たとえばＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）（ＯＨ）ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２と光重合開始剤を含み実質的に溶媒を含まない光硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明が解決しようとする課題は、従来存在しなかった、脂肪族環構造含有含フッ素重合体を光重合により製造する方法を提供することにある。
【解決手段】下記式（１）で表される含フッ素ジエン（１）と光重合開始剤とを含有し、実質的に溶媒を含有しない重合性組成物を、光照射により環化重合させることを特徴とする含フッ素重合体の製造方法。
ＣＦ_２＝ＣＲ^１−Ｑ−ＣＲ^２＝ＣＨ_２ ・・・（１）
（ただし、Ｒ^１、Ｒ^２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、炭素数３以下のアルキル基または炭素数３以下のフルオロアルキル基、Ｑは酸素原子、ＮＲ^３（Ｒ^３は水素原子、炭素数６以下のアルキル基、アルキルカルボニル基またはトシル基を表す）または官能基を有していてもよい２価の有機基、を表す。） （もっと読む）

本発明は、相互接続性液晶ポリマーネットワークを含む光電池に関する。
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本発明は、新規な９−および／または１０−置換アントラセン、それらの、液晶、発光または半導体材料およびデバイスにおける、異方性ポリマー、光学、電気光学、修飾、安全保障、化粧、診断、電気、電子、電荷輸送、半導体、光学記録、電子発光、光導電体または電子写真用途における使用、ならびに、それらを含む、液晶、発光および半導体材料、ポリマーおよびデバイスに関する。 （もっと読む）

【目的】 紫外光から近赤外光までの光を極めて低損失に伝送することを可能とする新規な屈折率分布型光ファイバー製造用の母材を提供する。
【構成】 Ｃ−Ｈ結合を有しない非結晶性の含フッ素重合体（ａ）と、該重合体との比較において屈折率の差が０．００１以上である少なくとも１種類の物質（ｂ）とからなり、物質（ｂ）が半径の方向に沿って異なる濃度を有して同心円上に存在している、屈折率分布型ファイバー製造用の母材、およびその製造法。 （もっと読む）