【課題】描画部材の尖鋭部先端の先鋭度の低下を抑制し、描画距離を従来よりも伸長させるとともに、描画線幅の均一化を図ることができる描画物製造方法を提供し、更に、先鋭度の低下を抑えた描画部材及び当該描画部材を備えた描画装置を提供する。
【解決手段】基板Ｋが載置される基台２、基台２を移動させる基台移動機構３、内層としての金層と外層としての白金層が形成された尖鋭部を有する描画部材１０、描画部材１０を支持する支持部材４、支持部材４を介して描画部材１０を移動させる描画部材移動機構５、基板Ｋと描画部材１０に電圧を印加する電圧印加機構６など備えた描画装置１を用いて、電子線レジスト上にフッ素含有化合物を含む被膜を形成させた基板Ｋに描画処理を施す。 （もっと読む）