【目的】 導波路部のエキシトンの吸収の影響を小さくし、導波光の伝搬損失を小さくする。
【構成】 基板上に光導波路を形成するためのマスクの高さ，形状および膜質の少なくとも一つを、機能部とその他の部分とが異なるように形成し、マスクを用い化学的気相成長法によって光導波路を形成する。 （もっと読む）

【構成】 １，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼン二無水物、１，４−ジフルオロピロメリット酸二無水物または１，４−ビス（トリフルオロメチル）ピロメリット酸二無水物と、テトラフルオロ−１，３−フェニレンジアミン、テトラフルオロ−１，４−フェニレンジアミン、ビス（４−アミノ−テトラフルオロフェニル）エーテルまたはビス（４−アミノ−テトラフルオロフェニル）スルフィドとから全フッ素化ポリアミド酸を合成し、加熱閉環して全フッ素化ポリイミドを得、これを主構成要素とする光学材料とする。１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼン二無水物等の合成法も示す。
【効果】 全フッ素化ポリイミドは耐熱性を有するとともに１．０〜１．７μｍの光通信波長全域で光損失が低い。 （もっと読む）