【課題】反りの発生をさらに抑制してなる高特性の基板型光導波路およびその製造方法を提供する。
【解決手段】石英基板１上に電子ビーム蒸着法を用いてコア層２を形成する工程と、コア層２をパターニングする工程と、パターニング後のコア層２を被覆するように石英基板１上に火炎堆積法を用いて多孔質クラッド層６を形成する工程と、多孔質クラッド層６に熱処理を施し透明ガラス化してクラッド層７を形成する工程とを有する基板型光導波路の製造方法において、コア層２のパターニングは、光回路を成すコア４と、コア４を形成しない部分のほぼ全面であってコア４から所定間隔以上離れてなる反り抑制層５となる部分を残すように成される。 （もっと読む）

【課題】 工程を簡略化して光学素子の形成が可能な直接描画方法を提供する。
【解決手段】 基板１上にクラッド層２を形成し、さらにその上にコア層３としてフォトポリマを使用し、これにレーザ光５を直接照射することにより、この部分の高分子材料の重合が進み、屈折率が上昇し、レーザ照射部分が高屈折率となって光導波路となり、これにオーバクラッド層６を形成して光導波路を形成する。 （もっと読む）

【目的】 効率のよい光導波路成膜装置を提供する。
【構成】 赤外光レーザ発生器５７が１μm 以下の波長のレーザ光を照射し、光学系５９が前記照射されたレーザ光を均一にする。この均一にされたレーザ光は光導波路パターンを描画されたマスク５５を通りウエハ２３に前記光導波路のパターンを投影する。ウエハ２３は、内部の気密を保持するチャンバ３内のステージ２１上に置かれており、前記レーザ光はチャンバ３の光導入窓１１から照射される。ウエハ２３が置かれているステージ２１には冷却装置２５が設けられておりこれによりウエハ２３を冷却する。また、二組以上のガス供給管３１，３５がウエハ２３に向かって少なくとも二種類のガスを供給し、プラズマ発生用の高周波電源５１およびマッチングボックス４９により高周波電力を供給されるアンテナ４１がプラズマを発生する。 （もっと読む）