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国際特許分類[G03F1/02]の内容

国際特許分類[G03F1/02]に分類される特許

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【課題】フォトリソグラフィー法によるレジストパターン形成方法において、凸部パターンと凸部パターン上の複数の微小窪みを同時に形成する方法を提供すること。
【解決手段】 少なくとも、
1.基材の表面に紫外線吸収層を形成する工程と、
2.フォトマスクと該紫外線吸収層との間に、ネガ型感光性レジスト層を形成する工程と、
3.フォトマスクを介して、平行光の紫外線で露光する工程と、
4.フォトマスクと該ネガ型感光性レジストとを引き剥がし、現像する工程と、
を経て、凸型レリーフパターンと、該凸型レリーフ頂面上に少なくとも一つ以上の微小窪みを同時に形成することを特徴とするネガ型感光性レジストのパターン形成方法であって、
該紫外線吸収層の厚みが1.0μm以上100.0μm以下であり、
該ネガ型感光性レジスト層の厚みが10μm以上500μm以下であり、
該フォトマスクが、
少なくとも1つ以上の凸型レリーフ形成用遮光部と、
少なくとも1つ以上の4μm以上1600μm以下の面積を有する窪み形成用微細遮光部と、
該凸型レリーフ形成用遮光部と窪み形成用微細遮光部以外の光透過部と、から構成されることを特徴とするネガ型感光性レジストパターンの形成方法。 (もっと読む)


【課題】凸版印刷用の刷版に形成される網点画像において最小網点に対応するレリーフの強度を向上することにより、網点画像の印刷再現性を向上する。
【解決手段】凸版印刷用の刷版に形成される網点画像では、最小網点66において、9画素からなる正方形状のメインクラスタ67の周囲に、メインクラスタ67と頂点のみにて接するそれぞれ1画素からなる4つのサブクラスタ68が放射状に配置される。刷版に形成される網点画像の最小網点66に対応する凸部では、メインクラスタ67に対応する凸部が、その周囲に形成されるサブクラスタ68に対応する凸部によりサポートされ、最小網点66に対応するレリーフの強度が向上される。これにより、最小網点66に対応するレリーフがハイライト領域の網点面積率にかかわらず正常に形成され、その結果、網点画像の印刷再現性を向上することができる。 (もっと読む)


【課題】感光性樹脂組成物における溶解酸素を抑制する/取り除く様々な方法が提案されているが、当該技術分野において、特にCTP(computer−to−plate)プロセスで、溶解酸素を取り除く改良された方法の提供。
【解決手段】像様露光の前に感光層から酸素を取り除くために像様露光前に感光性印刷要素を選択的に前露光する方法である。本発明は、CTPプロセスで使用でき、フレキソレリーフ画像印刷要素を製造する。 (もっと読む)


【課題】印刷版の凸部の形状を正常に保つことができ、印刷時に所望の形状の印刷が可能となる印刷版を製造することができる印刷版製造用マスク等を提供することを目的とする。
【解決手段】所望の形状を有する印刷版を製造するために用いられる印刷版製造用マスクであって、当該印刷版製造用マスクは、前記印刷版に形成される凸部に対応する開口部と、当該開口部の周囲に、前記凸部を補強するための補強部に対応する補強部用開口部と、を有する印刷版製造用マスク等により、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】QRコードのフレキソ印刷においては、版の材料に樹脂やゴムが使われるために印刷圧力により画像の太りが発生し、入力データの読み取り不能が予測される。
【解決手段】QRコードの各ドットの面積を予め小さくして製版することで、印刷時に太りが生じてもQRコードの正確な情報を読みとることが可能となる。 (もっと読む)


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