フォトメカニカル法，例．フォトリソグラフ法，による凹凸化またはパターン化された表面，例．印刷表面，の製造；そのための材料，例．フォトレジストからなるもの；そのため特に適合した装置 | 感光材料 | 不溶性または特異的に親水性になる高分子化合物

国際特許分類［G03F7/038］の内容

物理学 (1,541,580) | 写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造，例．印刷用，半導体装置の製造法用；そのための材料；そのための原稿；そのために特に適合した装置 (42,984) | フォトメカニカル法，例．フォトリソグラフ法，による凹凸化またはパターン化された表面，例．印刷表面，の製造；そのための材料，例．フォトレジストからなるもの；そのため特に適合した装置 (38,375) | 感光材料 (22,284) | 不溶性または特異的に親水性になる高分子化合物 (1,733)

国際特許分類［G03F7/038］に分類される特許

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カリックスアレーン誘導体およびそのフィルムおよびそのパターン形成方法

光重合性組成物

一成分系の反応樹脂系

貯蔵安定性ではあるがそれでもやはり良好に硬化可能な一成分系の反応樹脂系は、市販により入手可能なエポキシド樹脂および燐含有のグリシジルエステル、殊にホスホン酸ジグリシジルエステル並びに陽イオン性光開始剤からなる。低粘度の反応樹脂系は、純粋では熱硬化可能でなく、高い温度で調製することができ、かつ殊に硬度に充填することができる。ＵＶ−活性化後にも貯蔵安定性の反応樹脂系は、温和な条件で硬化して耐燃性の成形材料に変わることができる。（もっと読む）

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