【課題】各種装置用途として表面の清浄度が高いレベルで求められるガラス基板、特に垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、高密度化に対応すべく基板表面へのコンタミネーション付着によって生じるヘッドクラッシュを抑制し、メディア成膜後の記録再生特性を良好にする情報記録媒体用ガラス基板を提供することにある。また、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れており、今後の記録密度増大において必要となりうるＨＡＭＲに対応すべく耐熱性が高く、かつ、低コストで溶融ガラスを薄板加工することができるダイレクトプレス法に適したガラス材料を提供すること。
【解決手段】Ｎａ_２ＳＯ_４を緩衝剤として混合し、Ｈ_２ＳＯ_４とＮａＯＨにてｐＨが１０に調整された水溶液を用いて測定した表面のゼータ電位が−５０ｍＶより低い値を示すことを特徴とするガラス基板。 （もっと読む）

【課題】寸法安定性に優れ、層間の耐剥離性にも優れた、磁気記録媒体、特にデジタルデータストレージなどのベースフィルムに適した二軸配向積層フィルムの提供。
【解決手段】フィルム層ＡとＢとを全層数で少なくとも４層積層した、芳香族ポリエステル（ａ）と極性基を持たないポリオレフィン（ｂ）および、エポキシ基含有共重合ポリオレフィン（ｃ）、無水マレイン酸共重合ポリオレフィン（ｄ）とからなる積層フィルムであって、フィルム層Ａは芳香族ポリエステル（ａ）の割合が８０重量％以上で極性基を持たないポリオレフィン（ｂ）の割合が５重量％未満、フィルム層Ｂは極性基を持たないポリオレフィン（ｂ）の割合が８０重量％以上で芳香族ポリエステル（ａ）の割合が５重量％未満、そして、フィルム層ＡおよびＢのいずれかは、フィルム層の重量を基準として、ポリオレフィン（ｃ）およびポリオレフィン（ｄ）をそれぞれ２〜１８重量％の範囲で含有する二軸配向積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】研磨後の基板表面のうねりの低減を実現できるアルミノシリケートガラス基板用研磨液組成物等を提供する。
【解決手段】本発明のアルミノシリケートガラス基板用研磨液組成物は、シリカ粒子と、スルホン酸基を含有する重合体と、水とを含有し、前記スルホン酸基を含有する重合体のアルミノシリケートガラスに対する吸着定数が１．５〜５．０Ｌ／ｇである。前記スルホン酸基を含有する重合体は、芳香族環を有する重合体であると好ましい。前記スルホン酸基を含有する重合体の重量平均分子量は、３０００〜１０００００であると好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。また、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で研磨するガラス基板の研磨方法、および該研磨方法を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面を研磨する研磨工程において、ガラス基板の両主平面を同時に研磨したときの両面研磨装置の上定盤の内周端側で測定した表面温度ｔｐ１と外周端側で測定した表面温度ｔｐ２との差Δｔｐ（ｔｐ１−ｔｐ２）の絶対値が３℃以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】フィルム面内の一方向に極めて小さな湿度膨張係数を有する二軸配向ポリエステルフィルムの提供。
【解決手段】ポリトリメチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートからなり、フィルムの製膜方向または幅方向の屈折率が１．７４以上、湿度膨張係数が４ｐｐｍ／％ＲＨ以下−１０ｐｐｍ／％ＲＨ以上である配向フィルムであり、環境変化、特に湿度変化に対して優れた寸法安定性を発現する磁気記録媒体のベースフィルムとして用いられる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、酸化セリウムを砥粒として含有する研磨液や研磨パッドを用いずに、ガラス基板の主平面を平滑な鏡面に研磨するガラス基板の研磨方法と、該研磨方法を用いた研磨工程を有するガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、ガラス基板の主平面を平滑な鏡面に研磨する研磨工程において、研磨定盤の研磨面にはダイヤモンド砥粒を含む固定砥粒工具を設置し、該固定砥粒工具の研磨面でガラス基板を研磨したときの、ガラス基板の加工速度が１．５〜０．１μｍ／ｍｉｎであることを特徴とするガラス基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラス基板面内の板厚偏差に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。また、ガラス基板面内の板厚偏差に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を生産性高く研磨するガラス基板の研磨方法、及び該研磨方法を用いた研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面を研磨する研磨工程において、ガラス基板の自転運動を促進する真円度が１００μｍ以下のガラス基板保持穴を有するキャリアを用いることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】アルカリアルミノシリケートガラスからなるガラス円板を、コロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いる研磨工程を経て情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法において、Ｒａの小さい情報記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス円板の主表面をラッピングするラッピング工程と、その後に、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いて研磨する酸化セリウム研磨工程と、前記酸化セリウム研磨工程後に行われ、コロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いて研磨するコロイダルシリカ研磨工程とを含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に使われるコロイダルシリカスラリーにおいて、コロイダルシリカ砥粒が、ＢＥＴ比表面測定法により求められるＢＥＴ粒子径が４０ｎｍ以下であり、ＢＥＴ粒子径（ｎｍ）／円形度で表される平滑度指数が５０ｎｍ以下であるコロイダルシリカスラリー、及び前記コロイダルシリカスラリーを用いて製造された情報記録媒体用ガラス基板、並びに前記情報記録媒体用ガラス基板の主表面に磁気記録層が設けられた磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】本発明は、化学強化後に精密研磨した場合でも、平滑性と平坦性のよい情報記録媒体用ガラス基板を得ることができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス素板として、ＭｇＯとＣａＯとのアルカリ土類金属と、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏとのアルカリ金属とを含み、アルカリ土類金属に対するアルカリ金属の質量比が、０．１＜（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）＜０．８０の範囲にあるガラス素材からなるものを用いて行ない、円板状の情報記録媒体用ガラス基板１ａを得る。 （もっと読む）

【課題】中心部が開孔されても、耐衝撃性が高い磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板は、下治具１０の第１円環構造１１が接触する部分の円の直径が２１ｍｍであり、下治具１０の第２円環構造１２が接触する部分の円の直径が３６ｍｍであり、上治具２０の第３円環構造２１が接触する部分の円の直径が２８ｍｍである抗折強度試験装置を使用して測定された抗折強度が４８００Ｎの範囲内に含まれる。 （もっと読む）