【課題】非常に高さが低く長径の大きい表面欠点をも低減できるフィルムの製造方法の提供。
【解決手段】溶融状態の熱可塑性樹脂をシート状に押し出す工程と、それを巻き取る工程および巻き取られたフィルムを良品と不良品とに選別して良品を製品とする工程とからなるフィルムの製造方法であって、少なくとも巻き取られたフィルムの一方の表面に存在する波長１００〜４００ｎｍの光の干渉によって検知され、且つその長径が基準値以上の表面欠点数を数え、その表面欠点数が基準値以下のフィルムを良品とするフィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】記憶容量が０．８ＴＢ以上であるデータストレージのベースフィルムに用いても優れた電磁変換特性を発現できるポリエステルフィルムおよび磁気記録媒体支持体の提供。
【解決手段】記憶容量が０．８ＴＢ以上であるデータストレージに用いるベースフィルムであって、磁性層を形成する側の表面は、波長２６０ｎｍの光の干渉によって測定される表面欠点であって、且つ欠点の長径が１０μｍ以上である欠点の数が、１００個／１００ｃｍ^２以下であるポリエステルフィルムおよびその少なくとも磁性層を形成する側の面に金属類または金属系無機化合物からなる層（Ｍ層）が設けられたことを特徴とする磁気記録媒体支持体。 （もっと読む）

【課題】フィルム面内の一方向に、実用に必要な機械的特性を具備させつつ、低い湿度膨張係数を有する二軸配向ポリエステルフィルムの提供。
【解決手段】ポリトリメチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートからなる樹脂Ａと、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートからなる群より選ばれる樹脂Ｂとを、重量比（樹脂Ａ：樹脂Ｂ）で４：６〜９：１の割合で含有する樹脂組成物からなる配向フィルム。 （もっと読む）

【課題】寸法安定性に優れ、磁気記録媒体支持体に利用できるポリエステルフィルムを提供すること。
【解決手段】トリメチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主たる繰り返し単位とするポリエステルＡからなるフィルム層Ａと、その少なくとも片面にエチレンテレフタレートおよびエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートからなる群より選ばれる１種を主たる繰り返し単位とするポリエステルＢからなるフィルム層Ｂとが積層された積層フィルムであって、フィルムの製膜方向と幅方向のヤング率の比が１．６〜３．５の範囲である二軸配向積層ポリエステルフィルム。 （もっと読む）

【課題】ＤＴメディアやパターンドメディアの製造に適した磁気記録媒体用基板であって、複雑な工程が不要で簡易にＤＴメディアやパターンドメディアを製造することが可能な磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体用基板は、円板状の形状を有する非磁性の母材を基板とし、基板表面の磁性膜を成膜しようとする所定領域の濡れ性が、他の領域の濡れ性と異なっている。 （もっと読む）

【課題】フッ素を実質的に含有せず、ハードディスク基板に用いられる加工性の悪いガラス基板に対しても、高い研磨速度で表面粗さを小さくし、かつ研磨傷の発生を抑制することが可能な酸化セリウム系研磨剤、及びガラス製ハードディスク基板の製造方法を提供する。
【解決手段】下記（１）〜（５）を満たすガラス製ハードディスク基板製造用酸化セリウム系研磨剤、及び該研磨剤も用いたガラス製ハードディスク基板の製造方法である。（１）総酸化希土類量（ＴＲＥＯ）が９５質量％以上であり、かつ当該ＴＲＥＯに対する酸化セリウム量が９９質量％以上である。（２）フッ素の含有量が０．０５質量％以下である。（３）粉末Ｘ線回折から算出される前記酸化セリウムの結晶子径が７００〜１０００Åである。（４）平均粒子径（Ｄ₅₀）が０．４〜０．８μｍである。（５）前記ガラス製ハードディスク基板のビッカース硬度が５７０Ｈｖ以上である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、中心部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板は内周側面と外周側面と両主平面とを有し、磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域の中間部において、０°、９０°、１８０°、２７０°の計４箇所の位置で測定した板厚の最大板厚値と最小板厚値の差（同一ガラス基板面内の板厚偏差）である平行度ａが０．５μｍ以下である磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、少ない取代で高精度に面取部を鏡面研磨することにより、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止して信頼性と耐久性を向上させた磁気ディスク用のガラス基板および磁気ディスクを提供することを目的としている。
【解決手段】中心に内孔２を有する円盤状の磁気ディスク用ガラス基板であって、内周側の面取部２ｂが凹面をなすことを特徴とする。これによりラッチ（爪）などでガラス基板を把持する際に、保持性や確実性、位置精度などのハンドリング性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】無欠陥の無電解ニッケルメッキ膜の製造方法の提供。
【解決手段】スパッタ法を用いて、基材上に９９．９９％以上の純度および２．５μｍ以上の膜厚を有するアルミニウム層を形成する工程と、無電解メッキを用いて、アルミニウム層の上に無電解ニッケルメッキ膜を形成する工程とを含むことを特徴とする無電解ニッケルメッキ膜の製造方法。ここで、基材とアルミニウム層との間に９９．９９％以上の純度を有するチタン層を形成する工程をさらに含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク表面のより外周側に拡大された記録再生用領域において所望な端部形状を有し、かつ、基板表面の粗さが従来に比べさらに低減した磁気ディスク用ガラス基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、キャリア内に収納したガラス基板の主表面に研磨砥粒を含む研磨液を供給した状態で、前記ガラス基板と研磨パッドとを相対的に移動させて前記ガラス基板の主表面を研磨する鏡面研磨工程と、製造されたガラス基板に対して前記ガラス基板の端部形状の評価を行う検査工程と、を有する、前記主表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１５ｎｍ以下である磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記検査工程において、グライド領域の外周端部における主表面と浮上するグライドヘッドとの間の領域の面積が４８μｍ^２以下であるものを良品として判定することを特徴とする。 （もっと読む）