【課題】均一な形状、粒径及び磁気特性を有するＦｅＰｔ又はＣｏＰｔナノ粒子を、その磁化容易軸の向きを垂直に揃えて非磁性基板の表面に均一に配列することが可能な磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板２の表面２ａにテクスチャリング処理を施すことにより、円周方向成分を有する複数の溝３を形成する工程と、テクスチャリング処理が施された非磁性基板２の表面２ａに、ＦｅＰｔ又はＣｏＰｔナノ粒子５の分散溶液を接触させることにより、この非磁性基板２の上に垂直磁性層４となるＦｅＰｔ又はＣｏＰｔナノ粒子配列体５Ａを形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の主平面の研磨において、上側研磨パッドへのガラス基板の張り付きを防止するとともに、ガラス基板のリーチング痕を防止し、主平面の面内における均一な平滑性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板の形状付与工程と、ガラス基板の主平面研磨工程と、洗浄工程とを有し、主平面研磨工程において、研磨パッドの研磨面の実効面積率（（Ａ−Ｂ）／Ａ×１００）を、上側研磨パッドにおいて７５〜９８％とするとともに、下側研磨パッドにおいて９９％以上（より好ましくは１００％）とする。 （もっと読む）

【課題】研磨パッドの硬度を調整することなく、１次研磨工程でガラス基板の端部形状を隆起状態に仕上げること。
【解決手段】ガラス基板の表面を粗研磨する１次研磨工程と、ガラス基板の表面を精密研磨する２次研磨工程とを含み、１次研磨工程では、ガラス基板を外周端部が中央部よりも隆起した状態に仕上げ、２次研磨工程では、ガラス基板の前記隆起状態をなくすように研磨する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、１次研磨工程では、研磨中にガラス基板の外周端部を研磨パッド２４と一時的に非接触状態とすることにより、ガラス基板の前記隆起状態を形成する。 （もっと読む）

【課題】研削工程、及び研磨工程における加工レートを向上させることで処理時間を短縮を可能としながら、平滑性やうねりの発生を抑制し、磁気記録媒体用のガラス基板として必要な特性を確保することのできる磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラスに組成揺らぎを持たせることが可能であるガラス組成において、組成揺らぎを促進させる熱処理温度でガラス基板の熱処理を行う工程、及び前記熱処理により分離したＳｉＯ_２濃度の薄い相の少なくとも一部を除去することで表面の加工性を向上させる工程を含み、前記ガラス基板のガラス転移温度をＴｇ（℃）としたとき、前記熱処理温度がＴｇ〜Ｔｇ＋１００（℃）の範囲であることを特徴とする磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表面に対してより均一に化学強化処理を施すことが可能な情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を得る。
【解決手段】円形ディスク状に形成されるガラス基板１に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、線状の金属部材を含む保持用治具７を準備する工程と、保持用治具７を用いてガラス基板１を化学強化処理液中に浸漬し、ガラス基板１の表面に対して化学強化処理を施す工程と、を備え、保持用治具７の周囲は、ガラス基板１が化学強化処理液中に浸漬された状態で、ガラス基板１の周りに化学強化処理液の対流が生じるように開放されている。 （もっと読む）

【課題】優れた耐衝撃性及び平坦性を備え、かつ光学歪みのない磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】溶融ガラスから略円環状を有するガラス基板を得る円盤加工工程と、前記円盤加工工程によって得られたガラス基板に熱を加えて形状を矯正する第１アニール工程と、前記第１アニール工程によって得られたガラス基板の表面を研削する第１ラッピング工程と、前記第１ラッピング工程によって得られたガラス基板に再度熱を加えて形状を矯正する第２アニール工程と、前記第２アニール工程によって得られたガラス基板の表面を研削する第２ラッピング工程と、を備える磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いる。また、前記第２アニール工程において加えられる熱の温度は、ガラス転移温度（Ｔｇ）より２０〜５０℃低いことが好適である。 （もっと読む）

【課題】化学強化処理後の基板毎の化学強化層の厚みのばらつきを低減できる、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】情報記録媒体用のガラス基板１の製造方法は、ガラス基板１を成形する工程と、主表面に化学強化層を形成する工程と、を備える。化学強化層を形成する工程は、化学強化処理槽２０内に貯留された化学強化処理液にガラス基板１を浸漬させる工程と、ガラス基板１を化学強化処理液中で移動させる工程と、を含む。移動させる工程は、化学強化処理槽２０の内壁２３ａ，２３ｂに沿って内壁２３ａ，２３ｂの水平方向長さＬ１，Ｌ２の半分以上に亘ってガラス基板１を水平方向に移動させる工程と、化学強化処理液の液深の半分以上に亘ってガラス基板１を垂直方向に移動させる工程と、の少なくともいずれか一方を有する。 （もっと読む）

【課題】高い表面硬度を有し、高温で長時間熱処理しても非磁性を保つことができる磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】アルミニウム合金層と、このアルミニウム合金層の上に形成されたＮｉ−Ｐ−Ｗめっき層とを含む磁気記録媒体用基板である。前記Ｎｉ−Ｐ−Ｗめっき層が、７〜１５ｗｔ％のＰ、０．５〜５．０ｗｔ％のＷおよび残部Ｎｉからなり、前記磁気記録媒体用基板が、７００Ｈｖ以上の硬度を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】塗布型磁気記録テープに用いても優れた電磁変換特性およびエラーレート特性を発現できるポリエステルフィルムの提供。
【解決手段】塗布型磁気記録テープに用いるベースフィルムであって、磁性層を形成する側の表面は表面粗さが４ｎｍ未満であり且つ該表面の波長１０μｍにおけるウネリ指数が０．２５以下であり、他方磁性層を形成しない側の表面は表面粗さが４〜１０ｎｍの範囲であり、幅方向の温度膨張係数が−５〜１ｐｐｍの範囲にある積層ポリエステルフィルム。 （もっと読む）

【課題】塗布型磁気記録テープに用いても優れた電磁変換特性およびドロップアウト特性を発現できるポリエステルフィルムの提供。
【解決手段】塗布型磁気記録テープに用いるベースフィルムであって、磁性層を形成する側の表面は表面粗さ（ＲａＡ）が４ｎｍ未満であり、他方磁性層を形成しない側の表面は、表面粗さ（ＲａＢ）が４〜１０ｎｍの範囲であり、高さが６０ｎｍ以上で且つ面積が１５０ｎｍ^２以上の突起が、２０個／０．０６ｍｍ^２以下である積層ポリエステルフィルム。 （もっと読む）