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国際特許分類[H01F41/04]の内容

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【課題】マザー基板からの個片化が容易であり、高品質な積層型インダクタ素子を形成できる積層型インダクタ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】第1非磁性体層121、第1磁性体層111、第2非磁性体層122、第2磁性体層112、第3非磁性体層123の順で層状化されたマザー基板100を形成する。マザー基板100の第1非磁性体層121に個片化用の溝140を形成する。溝140が形成されたマザー基板100を焼成する。焼成後のマザー基板100における第3非磁性体層123側の面に、所定の押圧力でダイヤモンドスクライバー200を接触させる。これにより、接触位置から略積層方向に沿ってクラック150が発生する。マザー基板100に対して外部から曲げ応力を加えることで、クラック150と溝140とを結ぶようにマザー基板100が割れ、マザー基板100から複数の積層型インダクタ素子へ個片化される。 (もっと読む)


【課題】ファインピッチのコイルパターンを有し、インダクタンスの制御が容易であると共に、設計インダクタンスの偏差を減少させた構造を有するインダクタ及びその製造方法を提供する。
【解決芋段】本発明のインダクタ100は、積層構造体101と、この積層構造体101の外部に形成された外部電極体130とを含む。この積層構造体130は、絶縁層110と、この絶縁層110上に積層されたポリマ層120とを備える。 (もっと読む)


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