国際特許分類[H01L21/8232]の内容
電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 半導体装置,他に属さない電気的固体装置 (445,984) | 半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置 (183,847) | 1つの共通基板内または上に形成された複数の固体構成部品または集積回路からなる装置またはその特定部品の製造または処理;集積回路装置またはその特定部品の製造 (40,275) | 1つの共通基板内または上に形成される複数の固体構成部品または集積回路からなる装置の製造または処理 (31,691) | 複数の別個の装置に基板を分割することによるもの (31,691) | それぞれが複数の構成部品からなる装置,例.集積回路の製造 (31,684) | 基板がシリコン技術を用いる半導体であるもの (27,844) | 電界効果技術 (17,660)
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電界効果型トランジスタ、半導体集積回路装置および電界効果型トランジスタの製造方法
電界効果型トランジスタ、半導体集積回路装置および電界効果型トランジスタの製造方法
【目的】ディレイ変動の低減
【構成】化合物半導体層と、この化合物半導体層に設けられた第1導電型のチャネル領域と、化合物半導体層中でこのチャネル領域を挟んで対向して設けられた、第1導電型のソースおよびドレイン領域と、チャネル領域上に設けられ、ソース、ドレイン領域の対向する方向を横切る方向に延在するとともに、チャネル領域よりも外側に突出する突出部を有するゲート電極と、ソースおよびドレイン領域に電気的に接続されたソースおよびドレイン電極と、化合物半導体層中に形成され、かつチャネル領域、ソース、ドレイン領域および前記ゲート電極の突出部よりも外側でこれらを囲み、且つチャネル、ソース、ドレイン領域よりも深く形成された第1導電型とは反対の第2導電型のウエル領域とを備える。
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