説明

国際特許分類[H01L27/146]の内容

国際特許分類[H01L27/146]の下位に属する分類

国際特許分類[H01L27/146]に分類される特許

1,001 - 1,010 / 4,609


【課題】光電変換部が並進対称性配列の位置から位置ずれして配置されていても、入射光を光電変換部に効果的に集光することができる固体撮像素子及びその固体撮像素子を用いた撮像装置を提供する。
【解決手段】2個の単位画素、例えば単位画素10と20に共通のFD(フローティングディフュージョン)部4を境界位置に設ける。シリコン基板に光電変換部2を形成するとともに、これとFD部4とを電荷転送ゲート3を介して連結する。FD部4の上方に高屈折率材料層33を設け、それ以外の領域には低屈折率材料層34を設け、入射光の光路を変更し、中心位置からFD部4側に偏位して設けられた光電変換部2に集光する。画素間でトランジスタを共用することで、1画素当りのトランジスタ数を減少させることができる。また、高屈折率材料層33がレンズ形状を有していてもよい。 (もっと読む)


【課題】画素電極パターンと半導体基板とを電気的に接続するコンタクトプラグを形成するための工程数を低減できる固体撮像装置の製造方法、及び固体撮像装置を提供する。
【解決手段】製造方法は、光電変換膜を覆う共通電極膜を形成する工程と、前記共通電極膜を加工し、前記光電変換膜における第1の部分を覆う共通電極パターンと、前記光電変換膜における第2の部分を露出する開口パターンとを形成する工程と、前記共通電極パターンと前記光電変換膜における前記開口パターンにより露出された前記第2の部分とを覆う絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜、前記光電変換膜、及び金属膜を貫通し半導体基板の表面を露出する穴を形成する工程と、前記穴に導電物質を埋め込んでコンタクトプラグを形成する工程と、前記コンタクトプラグ及び前記絶縁膜を覆う画素電極膜を形成する工程とを備え、前記開口パターンの幅は、前記コンタクトプラグの幅より大きい。 (もっと読む)


【課題】画素の駆動に際し同時性を保持した高速駆動が実現され、画素ムラが低減された固体撮像装置の駆動方法を提供する。
【解決手段】複数の画素4が形成された第1のチップ2と、画素4を駆動する複数の画素駆動回路11が形成された第2のチップ3とが積層された構成の固体撮像装置において、全画素同時に露光を開始し、全画素同時に露光を終了する。それと共に、全画素の受光部で生成された信号電荷を電荷蓄積容量部に読み出す。次に、所望の画素に、所望の画素の下部に配された画素駆動回路から駆動パルスを入力して、所望の画素の電荷蓄積容量部に保持された信号電荷を、画素信号として出力する。 (もっと読む)


【課題】高い外部量子効率を示し、かつ、暗電流値が低く、素子を加熱処理した場合にも、外部量子効率の低下を抑え、暗電流の増加幅を小さくすることが可能な、耐熱性に優れた光電変換素子及びそのような光電変換素子を備えた撮像素子を提供すること。
【解決手段】導電性薄膜、有機光電変換膜、ブロッキング層及び透明導電性薄膜を含んでなる光電変換素子。有機光電変換膜が、ガラス転移点(Tg)が100℃以上のp型有機光電変換材料であってアモルファス膜を形成するp型有機光電変換材料を含有し、ブロッキング層が、Tgが140℃以上であるブロッキング材料を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】a−Seを主成分とする読取用光導電層を有する静電記録体において、電極との界面での界面結晶化の問題を解消する。
【解決手段】読取光に対して透過性を有する支持体8上に、読取光に対して透過性を有する電極層5、a−Seを主成分とする、読取光の照射を受けることにより導電性を呈する読取用光導電層4、記録用光導電層2で発生した潜像極性電荷を蓄積する蓄電部23を形成するための電荷輸送層3、a−Seを主成分とする、記録光の照射を受けることにより導電性を呈する記録用光導電層2、および記録光に対し透過性を有する電極層1とがこの順に積層された静電記録体10において、読取用光導電層4と電極層5の電極との界面に、界面結晶化を抑制する物質として、Asを0.5〜40atom%ドープして、読取光の最も入射側に、界面結晶化を抑制する薄層を設けたのと実質的に等価な状態にする。 (もっと読む)


【課題】画素個々の蓄積期間の同時性を持った良好な画像を得るために、有効な画素数を損なうことなく、偽信号の補正を行うことができるようにする。
【解決手段】第1,第2の電荷蓄積部33,35を有する画素構成のCMOSイメージセンサ10において、先ず、全画素30のフォトダイオード31を一括してリセットして信号電荷の蓄積を開始し、蓄積時間終了時に第1、第2の電荷蓄積部33,35をリセットする。次に、フォトダイオード31に蓄積された信号電荷を第1の電荷蓄積部33に一括転送する。第1の電荷蓄積部33に信号電荷を一括転送した後、順次行読出しにおいて、先ず、第2の電荷蓄積部35の信号レベルを読み出す。次いで、第1の電荷蓄積部33の信号電荷を第2の電荷蓄積部35に読み出し、当該第2の電荷蓄積部35の電荷に応じた信号レベルを読み出す。しかる後、後で読み出した信号レベルから、先に読み出した信号レベルを減算する。 (もっと読む)


【課題】微細化しても高いSN比を得ることを可能にする。
【解決手段】第1導電型の半導体基板上に設けられた複数の画素201であって、それぞれが半導体基板の第1面側から入射する光を信号電荷に変換し蓄積する第2導電型の半導体領域201aを有する複数の画素201と、半導体基板の第1面と反対の第2面側に設けられ、画素に蓄積された信号電荷を読み出すための読み出し回路と、半導体領域の光が入射する側の面上に周期的に設けられた微細金属構造250と、微細金属構造と半導体領域との間に設けられた絶縁膜236aと、を備えている。 (もっと読む)


【課題】露光期間に近いタイミングまで画像信号の取得を行うことができる固体撮像装置、駆動方法、および撮像装置を提供する。
【解決手段】光電変換部と、光電変換部をリセットする第1のリセット部と、信号電荷を転送する転送部と、信号電荷を増幅する増幅部と、増幅部をリセットする第2のリセット部と、増幅信号を出力する選択部と、を有する画素を2次元に複数配列した画素部と、画素を行毎に選択して読み出す垂直走査部と、を備え、垂直走査部は、ノイズ信号読み出しモードと、同時露光モードと、第1の画素信号読み出しモードと、第2の画素信号読み出しモードと、を有し、画素部の複数の行の画素を組とし、同時露光モードによって露光を開始する前に、画素行の組毎にノイズ信号読み出しモードでノイズ信号の読み出しを行い、ノイズ信号の読み出しが終了していない組の画素行を用いて第2の画素信号読み出しモードで画素信号の読み出しを行う。 (もっと読む)


【課題】列回路へのクロック波形の精度を向上し、AD変換の高速化と高精度化を実現する固体撮像装置を提供する。
【解決手段】画素信号とランプ波とを比較し、画素信号とランプ波とが一致するタイミングを検知する列比較回路と、画素列毎に設けられ、列比較回路でのタイミングを、クロック信号が供給されることにより計測するカウンタ回路10と、等間隔に直列接続されたM個の第1インバータとを有し、カウンタ回路10は、上位クロック段に配置されたM個の第1インバータのそれぞれに対応したM個のグループのいずれかに属し、奇数番目のグループは、当該グループに対応する第1インバータの出力端子と、当該グループのカウンタ回路10との間に配置された第2インバータを有し、偶数番目のグループは、当該グループに対応する第1インバータの出力端子と、当該グループのカウンタ回路10との間に配置されたバッファを有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、画素の変曲点の、基準特性の変曲点からのズレを補正することで、高画質化に寄与する。
【解決手段】本発明の撮像装置は、変曲点を境に異なる光電変換特性を有する複数の画素からなる撮像素子を備えた撮像装置であって、前記画素の変曲点の、基準となる光電変換特性の変曲点からのズレを画素毎に補正する変曲点バラツキ補正手段を有し、前記バラツキ補正手段は、複数の画素の光電変換特性を変曲点位置により画素数より少ない複数のパターンに分類し、前記各パターンに分類された各画素の光電変換特性を、前記複数のパターン毎に記憶されている変曲点補正のための特性変換パターン情報により補正することにより、前記画素の変曲点を前記基準となる光電変換特性の変曲点に画素毎に合わせこむ。 (もっと読む)


1,001 - 1,010 / 4,609