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国際特許分類[H05B33/12]の内容

電気 (1,674,590) | 他に分類されない電気技術 (122,472) | 電気加熱;他に分類されない電気照明 (50,146) | エレクトロルミネッセンス光源 (27,371) | 実質的に2次元放射面をもつ光源 (12,071)

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本発明は、基板;前記基板上に備えられた第1電極;前記第1電極上に備えられた1層以上の有機物層;前記有機物層上に備えられた第2電極;および前記第2電極の上部に備えられた光抽出層;を含む有機発光素子およびその製造方法を提供する。本発明に係る有機発光素子は、素子内部で発生した光の全反射を最小化して最大限外部に引き出すことによって、発光効率を極大化することができる。
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【課題】補助配線の検査を簡便かつ低コストにて行うことができ、点灯ムラ等の不具合が生じる虞が無く、鮮明な画像を長時間表示することができる電気光学装置及びその検査方法並びに電子機器を提供する。
【解決手段】本発明の有機EL表示装置(電気光学装置)は、透明基板20上に、薄膜トランジスタを含む回路層と、この回路層に電気的に接続された画素電極23及び陰極50にて挟持された発光層110を有する発光素子とを備え、陰極50上に遮光性を有する補助配線層311を設け、透明基板20上の補助配線層311の許容成膜領域312に対応する位置に光遮蔽層313を設けた。 (もっと読む)


【課題】第2電極の断線を抑えると共に、有機層を介した漏れ電流を低減させることができる表示装置を提供する。
【解決手段】絶縁膜14の開口部14Aの周囲の一部に低テーパ部41を設け、周囲の他の部分を高テーパ部42とする。低テーパ部41では、開口部14Aの側面のテーパ角θ1を、高テーパ部42のテーパ角θ2よりも小さくする。低テーパ部41を設けることにより第2電極16の断線を抑え、高テーパ部42により、有機層15を介した漏れ電流を低減させる。低テーパ部41は、開口部14Aの四辺のうち、隣接する開口部14Aとの間に有機層無し領域51が存在する辺に設けることが好ましい。また、低テーパ部41は、開口部14Aの対向する二つの辺に形成することが好ましい。 (もっと読む)


【課題】有機機能層の膜厚ムラを抑え、輝度ムラ等の表示ムラのない有機EL装置を提供すること。
【解決手段】有機EL装置100は、基板10と、基板10上に配置された複数の発光領域2のそれぞれに対応して形成された複数の画素電極24と、発光領域2を囲むように形成された隔壁28と、隔壁28に囲まれた開口部28a同士を相互に接続するように、隔壁28に設けられた溝部29と、開口部28aと少なくとも溝部29の一部とに形成された有機機能層30と、有機機能層30を覆う共通電極36と、を備えていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】混色を招くことなく、色純度が充分に良好であり、更には発光寿命を大幅に向上された有機電界発光素子および該有機電界発光素子を用いた表示装置を提供する。
【解決手段】
陽極と陰極との間に発光層14c、ナフタセン化合物を含むナフタセン化合物層14dおよび電子輸送層14eを備えた有機層14を挟持し、前記発光層14cは、発光性ゲスト材料と、アントラセンを母骨格とした芳香族炭化水素化合物を含み、前記ナフタセン化合物層14dは、下記一般式(1)で示されるナフタセン化合物を80重量%以上含み、膜厚が0.5〜10nmであり、前記電子輸送層14eの前記発光層側14cの面に接して設ける。
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【課題】有機EL素子の発光機能を劣化させず、短時間に、検出しリペアする。
【解決手段】順バイアスあるいは逆バイアスの印加によって、有機EL素子に不具合があるとリーク電流発生の箇所に発光が起きる。この発光を画像処理ユニット17は、リーク発光検出カメラ16で検出してリーク発光位置を記憶し、これから制御ユニット18で算出し位置座標を記録する。制御ユニット18はXYZ可動ステージ15を位置制御して有機EL素子のリーク発光部周辺に、紫外線レーザー11から第1の紫外線レーザー光を照射し、これに励起されて蛍光する。蛍光観測ユニット19が、蛍光強度を観測し、制御ユニット18が所定の強度範囲内か比較する、所定強度か否かを判断する蛍光検査を行う。蛍光検査で、異常と判断した不良領域を制御ユニット18に記録し、記録し不良領域に、紫外線レーザー11からリペア用の第2の紫外線レーザー光を照射し不良箇所を除去する。 (もっと読む)


【課題】基板上に異なる複数の材料層を積層する際、スループットを向上しつつ、円滑に材料層の所望のパターン形状を得る成膜方法および発光装置の作製方法を提供することを課題とする。
【解決手段】予め、第1の基板上の光吸収層と重なる位置にポンプ圧層により材料層を選択的に形成する。この第1の基板と被成膜基板となる第2の基板とを対向して配置し、光吸収層に光の照射を行って加熱し、第2の基板に成膜を行う。光吸収層は全面に設けてもよいし、部分的に設けてもよい。光吸収層が部分的に設けた所望のパターン形状であれば、光が照射された光吸収層のパターン形状を反映した成膜パターンが後に表示パネルの一部となる基板に成膜される。 (もっと読む)


【課題】隔壁による段差に起因して段切れが生じ、発光がなされなくなってしまうことを防止して、良好な表示品質を確保した有機エレクトロルミネッセンス装置を提供する。
【解決手段】凹部15を区画し、この凹部15内に有機EL素子70の形成領域を配して凹部15内に機能層40を配置する隔壁34と、隔壁34上と凹部15内とに連続して設けられた補助電極50とを備える。第2電極60は、機能層40と補助電極50とに電気的に接続するように、有機EL素子70の形成領域と非形成領域との両方に重なる領域に設けられ、少なくとも凹部15内に配置された機能層40及び補助電極50に接した状態で、凹部15内の機能層40と補助電極50との間に連続して設けられている。補助電極50は第2電極60より厚く形成されている。 (もっと読む)


実質的に平坦な断面を有する電気活性材料の層の形成方法を提供する。この方法は、少なくとも1つの活性領域を有するワークピースを提供するステップと;活性領域内のワークピース上に電気活性材料を含む液体組成物を堆積して、湿潤層を形成するステップと;25〜80℃の範囲内に制御された温度および10-6〜1,000Torrの範囲内の減圧下、1〜100分の第1の時間の間、ワークピース上の湿潤層を処理して、部分的に乾燥した層を形成するステップと;部分的に乾燥した層を100℃を超える温度まで1〜50分の第2の時間の間加熱して、乾燥した層を形成するステップとを含む。
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【課題】透光性基板の一方の面にマイクロレンズアレイを設けたELディスプレイ装置において、モアレ及び画像のボケの発生を防止する。
【解決手段】マイクロレンズエレメント28の光軸方向における発光層22とマイクロレンズエレメント28との間の間隔tと、マイクロレンズアレイ30のピッチPlと、画素構造のピッチPeとが、(1)t≧Pe、且つ、Pe=m×Pl(ただしmは自然数)、(2)t<Pe、且つ、Pe=m×Pl(ただしmは自然数)、(3)t<Pe、且つ、Pe≧5×Pl、上記条件(1)、(2)、及び(3)のいずれか1つを満足しているようにした。 (もっと読む)


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