アミンエーテルの合成方法
立体障害性アミンエーテルの調製方法であって、有機ヒドロペルオキシドの存在下で、対応する立体障害性アミンオキシドとＣ５〜Ｃ１８−アルカ−１−エンとを反応させ、場合により、得られた生成物を水素化することを含む方法、該方法で得られた生成混合物、ならびに安定化剤及び難燃剤としてのそれらの使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、立体障害性アミンエーテル、例えばＮ−ヒドロカルビルオキシ置換立体障害性アミン化合物及びそれらの混合物を調製する方法であって、有機ヒドロペルオキシドの存在下で、対応するＮ−オキシル中間体と１−アルケンとを任意に更なる触媒と共に反応させて調製する方法、及びこの方法によって取得可能な数種の新規化合物の混合物に関する。また本発明は不飽和アミンエーテルを水素化する方法、及びこの方法によって取得可能な数種の新規化合物の混合物に関する。この方法によって製造される化合物は、光、酸素、及び／又は熱の有害な作用に対して重合体化合物を安定化することに、及び重合体用の難燃剤として特に有効である。
【０００２】
ＷＯ ０１／９２２２８には、アミンエーテル、例えばＮ−ヒドロカルビルオキシ置換立体障害性アミン化合物を調製する方法であって、対応するＮ−オキシル中間体と炭化水素とを有機ヒドロペルオキシド及び銅触媒の存在下で、反応させて調製する方法が記述されている。
【０００３】
ＷＯ ０３／０４５９１９には、アミンエーテル、例えばＮ−ヒドロカルビルオキシ置換立体障害性アミン化合物を調製する方法であって、対応するＮ−オキシル中間体と炭化水素とを有機ヒドロペルオキシド及びヨウ化物触媒の存在下で、反応させて調製する方法が記述されている。
【０００４】
Ｎ−アルカ−２−エニルオキシ置換立体障害性アミンエーテル及びそれらの混合物は、有機ヒドロペルオキシド及び任意の更なる触媒の存在下で、Ｎ−オキシル中間体と１−アルケンから最も適切に製造できることを今見出した。本発明の方法は、高い反応温度を要しない。対応するＮ−アルコキシ置換立体障害性アミンは、Ｎ−アルカ−２−エニルオキシ置換立体障害性アミンから水素化によって調製することができる。本発明方法によれば、一層純な生成物が得られる。得られた生成混合物が含有する異性体を少なくし得る。
【０００５】
したがって、本発明は、立体障害性アミンエーテルの調製方法であって、有機ヒドロペルオキシドの存在下で、対応する立体障害性アミンオキシドとＣ５〜Ｃ１８アルカ−１−エンとを反応させることを含む調製方法に関する。
【０００６】
更に本発明は、有機ヒドロペルオキシドの存在下で、対応する立体障害性アミンオキシドとＣ５〜Ｃ１８アルカ−１−エンとを反応させ、得られた立体障害性アミンエーテルを引き続き水素化する方法に関する。
【０００７】
本発明方法で好ましく使用される立体障害性アミンオキシドは、式（ＩＩ）の基を少なくとも１個含有する：
【０００８】
【化１２】
【０００９】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は、独立に炭素原子１〜４のアルキルであり、あるいはＧ１とＧ２及び／又はＧ３とＧ４が一緒になってテトラメチレン又はペンタメチレンである］
【００１０】
【化１３】
【００１１】
は、化学基の境界を特定しており、それ自体には化学的意味を持たない。
【００１２】
本発明方法で使用される立体障害性アミンオキシドは、式（ＩＩａ）の化合物であるのが有利である：
【００１３】
【化１４】
【００１４】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は式（ＩＩ）で定義した通りであり、
Ｅ１０は、非置換、あるいは−ＯＨ、＝Ｏにより、又は総炭素原子１〜５００を含有する１個又は２個の有機残基により置換された炭素原子である］。
【００１５】
本発明方法で取得される立体障害性アミンエーテルが、式（ＩＩＩ）の基を少なくとも１個含有するのが有利である：
【００１６】
【化１５】
【００１７】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は式（ＩＩ）で定義した通りであり、
ＥはＣ５〜Ｃ１８アルキル又はＣ５〜Ｃ１８アルカ−２−エニルである］。
【００１８】
置換基ＥとしてのＣ５〜Ｃ１８アルキルは、好ましくはラジカル：
【化１６】
【００１９】
（式中、Ｑ１は、Ｃ２〜Ｃ１５アルキルである）の混合物であり、
置換基ＥとしてのＣ５〜Ｃ１８アルカ−２−エニルは、好ましくはラジカル：
【００２０】
【化１７】
【００２１】
（式中、Ｑ１は、Ｃ２〜Ｃ１５アルキルである）の混合物である。
【００２２】
本発明の記載の関係で、Ｃ５〜Ｃ１８アルキルの語にはペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、及びオクタデシルの分枝状及び非分枝状の異性体が包含されており、ならびにＣ２〜Ｃ１５アルキルの語にはエチル並びにプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシルの分枝状及び非分枝状の異性体が包含される。
【００２３】
得られた立体障害性アミンエーテルは好ましくは式（ＩＩＩａ）の化合物である：
【００２４】
【化１８】
【００２５】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は式（ＩＩ）について定義した通りであり、
Ｅは式（ＩＩＩ）について定義した通りであり、
Ｅ１０は式（ＩＩａ）について定義した通りである］。
【００２６】
好ましくは、Ｇ１及びＧ３はメチル、Ｇ２及びＧ４は独立にメチル又はエチルである。
【００２７】
得られた立体障害性アミンエーテルは好ましくは式（Ａ）〜（Ｏ）の一種である：
【００２８】
【化１９】
【００２９】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は式（ＩＩ）について定義した通りであり、Ｅは式（ＩIＩ）について定義した通りであり、
ｍは０又は１であり、
Ｒ１は水素、ヒドロキシル、又はヒドロキシメチルであり、
Ｒ２は水素、炭素原子１〜１２のアルキル又は炭素原子２〜１２のアルケニルであり、
ｎは１〜４であり、
ｎが１である場合には、
Ｒ３は、水素、炭素原子１〜１８のアルキル、炭素原子４〜１８のアルコキシカルボニルアルキレンカルボニル、炭素原子２〜１８のアルケニル、グリシジル、２，３−ジヒドロキシプロピル、炭素原子３〜１２の２−ヒドロキシもしくは２−（ヒドロキシメチル）置換アルキルであって、アルキルが酸素によって中断されているもの、炭素原子２〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のカルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、炭素原子７〜１２を含有する脂環式カルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、あるいは炭素原子７〜１５を含有する芳香族酸のアシルラジカルであり、
ｎが２である場合には、
Ｒ３は、炭素原子２〜１８のアルキレン、炭素原子２〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のジカルボン酸又はジカルバミン酸の２価アシルラジカル、炭素原子７〜１２を含有する脂環式ジカルボン酸又はジカルバミン酸の２価アシルラジカル、あるいは炭素原子８〜１５を含有する芳香族ジカルボン酸の２価アシルラジカルであり、
ｎが３である場合には、
Ｒ３は、炭素原子６〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のジカルボン酸の３価アシルラジカル、あるいは炭素原子９〜１５を含有する芳香族トリカルボン酸の３価アシルラジカルであり、
ｎが４である場合には、
Ｒ３は、脂肪族もしくは不飽和脂肪族のテトラカルボン酸、特に１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸、１，２，３，４−ブタ−２−エンテトラカルボン酸、１，２，３，５−ペンタンテトラカルボン酸及び１，２，４，５−ペンタンテトラカルボン酸の４価アシルラジカル、あるいはＲ３は炭素原子１０〜１８を含有する芳香族テトラカルボン酸の４価アシルラジカルであり、
ｐは１〜３であり、
Ｒ４は、水素、炭素原子１〜１８のアルキル又は炭素原子２〜６のアシル又はフェニルであり、
ｐが１の場合には、
Ｒ５は、水素、フェニル、炭素原子１〜１８のアルキル、炭素原子２〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のカルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、炭素原子７〜１２を含有する脂環式カルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、又は炭素原子７〜１５を含有する芳香族カルボン酸のアシルラジカルであり、あるいはＲ４及びＲ５が一緒になって−（ＣＨ２）５ＣＯ−、フタロイル、又はマレイン酸の２価アシルラジカルであり、
ｐが２の場合には、
Ｒ５は、炭素原子２〜１２のアルキレン、炭素原子２〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のジカルボン酸又はジカルバミン酸の２価アシルラジカル、炭素原子７〜１２を含有する脂環式ジカルボン酸又はジカルバミン酸の２価アシルラジカル、あるいは炭素原子８〜１５を含有する芳香族ジカルボン酸の２価アシルラジカルであり、
ｐが３である場合には、
Ｒ５は、炭素原子６〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のトリカルボン酸の３価アシルラジカル、又は炭素原子９〜１５を含有する芳香族トリカルボン酸の３価アシルラジカルであり、
ｒは１〜４であり、
ｒが１の場合には、
Ｒ６は、炭素原子１〜１８のアルコキシ、炭素原子２〜１８のアルケニルオキシ、炭素原子１〜１８の−ＮＨアルキル又は炭素原子２〜３６の−Ｎ（アルキル）２であり、
ｒが２の場合には、
Ｒ６は、炭素原子２〜１８のアルキレンジオキシ、炭素原子２〜１８のアルケニレンジオキシ、炭素原子２〜１８の−ＮＨ−アルキレン−ＮＨ−又は炭素原子２〜１８の−Ｎ（アルキル）−アルキレン−Ｎ（アルキル）−であり、あるいはＲ６は４−メチル−１，３−フェニレンジアミノであり、
ｒが３の場合には、
Ｒ６は、炭素原子３〜１８を含有する飽和又は不飽和脂肪族トリオールの３価アルコキシラジカルであり、
ｒが４の場合には、
Ｒ６は、炭素原子４〜１８を含有する飽和又は不飽和脂肪族テトラオールの４価アルコキシラジカルであり、
Ｒ７及びＲ８は、独立に塩素、炭素原子１〜１８のアルコキシ、−Ｏ−Ｔ１、２−ヒドロキシエチルで置換されたアミノ、炭素原子１〜１８の−ＮＨ（アルキル）、炭素原子１〜１８のアルキルを有する−Ｎ（アルキル）Ｔ１、又は炭素原子２〜３６の−Ｎ（アルキル）２であり、
Ｒ９は酸素であり、あるいはＲ９は、水素、炭素原子１〜１２のアルキル又はＴ１のいずれかによって置換された窒素であり、
Ｔ１は
【００３０】
【化２０】
【００３１】
であり、
Ｒ１０は、水素又はメチルであり、
ｑは２〜８であり、
Ｒ１１及びＲ１２は独立に水素又は基Ｔ２であり、
Ｔ２は
【００３２】
【化２１】
【００３３】
であり、
Ｒ１３は、水素、フェニル、炭素原子１〜１２の直鎖もしくは分枝状のアルキル、炭素原子１〜１２のアルコキシ、フェニルにより置換された炭素原子１〜４の直鎖もしくは分枝状のアルキル、炭素原子５〜８のシクロアルキル、炭素原子５〜８のシクロアルケニル、炭素原子２〜１２のアルケニル、グリシジル、アリルオキシ、炭素原子１〜４の直鎖もしくは分枝状のヒドロキシアルキル、あるいは水素により、フェニルにより炭素原子１〜４のアルキルにより又は炭素原子１〜４のアルコキシにより独立に３回置換されたシリルもしくはシリルオキシであり、
Ｒ１４は、水素、あるいは水素により、フェニルにより、炭素原子１〜４のアルキルにより又は炭素原子１〜４のアルコキシにより独立に３回置換されたシリルであり、
ｄは０又は１であり、
ｈは０〜４であり、
ｋは０〜５であり、
ｘは３〜６であり、
ｙは１〜１０であり、
ｚは化合物の分子量が１０００〜４０００ａｍｕとなるような整数であり、例えばｚは３〜１０の範囲であってよく、
Ｒ１５は、モルホリノ、ピペリジノ、１−ピペリジニル、炭素原子１〜８のアルキルアミノ、特に炭素原子３〜８の分枝状のアルキルアミノ、例えばｔｅｒｔ−オクチルアミノ、炭素原子１〜８のアルキルを有する−Ｎ（アルキル）Ｔ１、又は炭素原子２〜１６の−Ｎ（アルキル）２であり、
Ｒ１６は、水素、炭素原子２〜４のアシル、炭素原子１〜４のアルキルにより置換されたカルバモイル、塩素により１回及びＲ１５により１回置換されたｓ−トリアジニル、あるいはＲ１５により２回置換されたｓ−トリアジニルであり、ただし２個のＲ１５置換基は異なりうるものであり、
Ｒ１７は、塩素；炭素原子１〜８のアルキルによりもしくはＴ１により置換されたアミノ、炭素原子１〜８のアルキルを有する−Ｎ（アルキル）Ｔ１、炭素原子２〜１６の−Ｎ（アルキル）２、又は基Ｔ３であり、
Ｔ３は
【００３４】
【化２２】
【００３５】
であり、
Ｒ１８は、水素、炭素原子２〜４のアシル、炭素原子１〜４のアルキルにより置換されたカルバモイル、炭素原子２〜１６の−Ｎ（アルキル）２により２回置換されたｓ−トリアジニル又は炭素原子１〜８のアルキルを有する−Ｎ（アルキル）Ｔ１により２回置換されたｓ−トリアジニルであり、
Ｒ３０は、水素、炭素原子１〜１８のアルキル、炭素原子４〜１８のアルコキシカルボニルアルキレンカルボニル、炭素原子２〜１８のアルケニル、グリシジル、２，３−ジヒドロキシプロピル、炭素原子３〜１２の２−ヒドロキシもしくは２−（ヒドロキシメチル）置換アルキルであって、アルキルが酸素によって中断されているもの、炭素原子２〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のカルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、炭素原子７〜１２を含有する脂環式カルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、あるいは炭素原子７〜１５を含有する芳香族酸のアシルラジカルである］。
【００３６】
上の式（Ａ）〜（Ｏ）の定義において、アルキルの語には例えばメチル、エチル並びにプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル及びドデシルの異性体が包含される。アルコキシの例は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、オクチルオキシ等がある。アルケニルの例は、ビニル、特にアリルがある。
【００３７】
シクロアルキルのいくつかの例は、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロペンチル、ジメチルシクロペンチル及びメチルシクロヘキシルである。
【００３８】
脂肪族カルボン酸のいくつかの例は、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ステアリン酸である。脂環式カルボン酸の例は、シクロヘキサン酸である。芳香族カルボン酸の例は安息香酸である。脂肪族ジカルボンの例は、マロニル、マレオイル、コハク酸、又はセバシン酸である。芳香族ジカルボン酸の残基の例はフタロイルである。
【００３９】
１価のシリルラジカルの例はトリメチルシリルである。
【００４０】
アリールの例はフェニル及びナフチルである。置換アリールの例は、メチル−、ジメチル−、トリメチル−、メトキシ−又はフェニル−置換フェニルである。
【００４１】
モノカルボン酸のアシルラジカルは、その定義域内で言えば、式−ＣＯ−Ｒ″の残基であり、ここでＲ″は、中でも、定義した通りのアルキル、アルケニル、シクロアルキル又はアリールのラジカルを表すことができる。好ましいアシルラジカルには、アセチル、ベンゾイル、アクリロイル、メタクリロイル、プロピオニル、ブチリル、バレロイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、ペンタデカノイル、ステアロイルが挙げられる。多価酸のポリアシルラジカルは、式（−ＣＯ）ｎ−Ｒ″のラジカルであり、ここでｎは価数、例えば２，３，４，５、又は６である。
【００４２】
Ｃ５〜Ｃ１８アルカ−１−エンは、非分枝アルケンであるのが有利である。
【００４３】
Ｃ５〜Ｃ１８アルカ−１−エンは、好ましくはＣ６〜Ｃ１２アルカ−１−エン、特にＣ６〜Ｃ８アルカ−１−エン、例えば１−オクテンである。
【００４４】
本発明のアルキル化プロセスは更なる触媒の存在下で行われるのが好ましい。
【００４５】
更なる触媒は、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ガリウム、ゲルマニウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、カドミウム、インジウム、錫、アンチモン、ランタン、セリウム、ハフニウム、タンタル、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金、金、水銀、タリウム、鉛、ビスマス；これらの化合物；置換及び非置換のヨウ化アンモニウム及びヨウ化ホスホニウムからなる群から選択されるのが好ましい。
【００４６】
また、更なる触媒は４級のアンモニウム又はホスホニウムのハロゲン化物、例えば塩化物又は臭化物であってもよい。アンモニウム又はホスホニウムカチオンの構造は、それ程重要なものではなく、通常、４級のアンモニウム又はホスホニウムカチオンには、中心の窒素原子又はリン原子に結合する４個の炭化水素残基、例えばアルキル、フェニルアルキル、又はフェニルの基であってよいものが含有されている。いく種かの容易に入手可能な物質には、テトラ−Ｃ１−Ｃ１２アルキル化されたものがある。
【００４７】
更なる触媒は、また、任意の他のヨウ化物化合物であってもよく、例えば有機及び無機のヨウ化物化合物を含む。例は、アルカリ金属又はアルカリ土属金属のヨウ化物、あるいはオニウムヨウ化物、例えばスルホニウムヨウ化物、特に４級スルホニウムヨウ化物が挙げられる。適切な金属ヨウ化物は、中でも、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム又はカルシウムのものである。
【００４８】
更なる触媒は、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、セリウム；これらのハロゲン化物及び酸化物；置換及び非置換のヨウ化アンモニウム及びヨウ化ホスホニウムからなる群から選択されるのが更に好ましい。
【００４９】
更なる触媒は、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅；これらのハロゲン化物；置換及び非置換のヨウ化アンモニウム及びヨウ化ホスホニウム、例えば置換及び非置換の４級ヨウ化アンモニウム又はヨウ化ホスホニウム、特にヨウ化テトラアルキルアンモニウム又はヨウ化テトラフェニルホスホニウム及びヨウ化トリフェニルアルキルホスホニウムからなる群から選択されるのが最も好ましい。
【００５０】
更なる触媒は有機又は無機の重合体主鎖に結合させ、触媒系を均一又は不均一にすることができる。
【００５１】
上記更なる触媒には、遷移金属の錯体化学において一般公知の陰イオンリガンド、例えば水素化物イオン（Ｈ−）あるいは無機酸又は有機酸から誘導した陰イオン、例えばハロゲン化物イオン、例えばＦ−、Ｃｌ−、Ｂｒ−、又はＩ−；ならびにＢＦ４−、ＰＦ６−、ＳｂＦ６−又はＡｓＦ６−型のフルオロ錯体；酸素酸、アルコラート又はアセチライドの陰イオン；あるいはシクロペンタジエン又は酸化物の陰イオンが含有されていてもよい。
【００５２】
酸素酸の陰イオンは、例えば、硫酸イオン、リン酸イオン、過塩素酸イオン、過臭素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、アンチモン酸イオン、ヒ酸イオン、硝酸イオン、炭酸イオン；Ｃ１〜Ｃ８カルボン酸の陰イオン、例えばギ酸イオン、酢酸イオン、プロピオン酸イオン、酪酸イオン、安息香酸イオン、フェニル酢酸イオン、モノ−、ジ−、又はトリクロロ−又はフルオロ酢酸イオン；スルホン酸イオン、例えばメチルスルホン酸イオン、エチルスルホン酸イオン、プロピルスルホン酸イオン、ブチルスルホン酸イオン、トリフルオロメチルスルホン酸イオン（トリフレート）；非置換又はＣ１〜Ｃ４アルキル−、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ−、もしくはハロ−、特にフルオロ−、クロロ−、もしくはブロモ−置換フェニルスルホン酸イオンもしくはベンジルスルホン酸イオン、例えばトシル酸イオン、メシル酸イオン、ブロシル酸イオン（brosylate）、ｐ−メトキシ−又はｐ−エトキシフェニルスルホン酸イオン、ペンタフルオロフェニルスルホン酸イオン、又は２，４，６−トリイソプロピルスルホン酸イオン；ホスホン酸イオン、例えばメチルホスホン酸イオン、エチルホスホン酸イオン、プロピルホスホン酸イオン、ブチルホスホン酸イオン、フェニルホスホン酸イオン、ｐ−メチルフェニルホスホン酸イオン、又はベンジルホスホン酸イオン；Ｃ１〜Ｃ８カルボン酸から誘導されたカルボン酸イオン、例えばギ酸イオン、酢酸イオン、プロピオン酸イオン、酪酸イオン、安息香酸イオン、フェニル酢酸イオン、モノ−、ジ−、もしくはトリクロロ−又はフルオロ酢酸イオン；さらにＣ１〜Ｃ１２アルコラート、例えば直鎖もしくは分枝状のＣ１〜Ｃ１２アルコラート、例えばメタノラート又はエタノラートである。また酸化物も可能である。
【００５３】
陰イオンリガンド及び中性リガンドは、また、更なる触媒の錯体陽イオンの好ましい配位数まで、特に４、５、又は６まで存在しても良い。追加の負電荷は、陽イオン、特に１価陽イオン、例えばＮａ＋、Ｋ＋、ＮＨ４＋又は（Ｃ１−Ｃ４アルキル）４Ｎ＋によって均衡化される。
【００５４】
上記更なる触媒にはまた、中性リガンド、例えば遷移金属の錯体化学において一般に公知の無機又は有機中性リガンドを含めてもよい。適切な無機リガンドは、アクオ（Ｈ２Ｏ）、アミノ、窒素、一酸化炭素、及びニトロキシルからなる群から選択される。適切な有機リガンドは、フォスフィン、例えば（Ｃ６Ｈ５）３Ｐ、（ｉ−Ｃ３Ｈ７）３Ｐ、（Ｃ５Ｈ９）３Ｐ又は（Ｃ６Ｈ１１）３Ｐ、ジ−、トリ−、テトラ−及びヒドロキシアミン、例えばエチレンジアミン、エチレンジアミノテトラアセテート（ＥＤＴＡ）、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ′，Ｎ′−ビス（２−ジメチルアミノエチル）−エチレンジアミン（Ｍｅ６ＴＲＥＮ）、カテコール、Ｎ，Ｎ′−ジメチル−１，２−ベンゼンジアミン、２−（メチルアミノ）フェノール、３−（メチルアミノ）−２−ブタノール、あるいはＮ、Ｎ′−ビス（１，１−ジメチルエチル）−１，２−エタンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ″，Ｎ″−ペンタメチルジエチルトリアミン（ＰＭＤＥＴＡ）、Ｃ１〜Ｃ８−グリコールもしくはグリセライド、例えばエチレンもしくはプロピレングリコール又はそれらの誘導体、例えばジ−、トリ−、もしくはテトラグリム（tetraglyme）、及び単座もしくは二座複素環状ｅ−供与リガンドからなる群から選択される。
【００５５】
更なる触媒には、複素環状ｅ−供与リガンドを更に含有させることができ、これらのリガンドは、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピリジン、ビス−ピリジン、ピコリルイミン、ｇ−ピラン、ｇ−チオピラン、フェナントロリン、ピリミジン、ビス−ピリミジン、ピラジン、インドール、クマロン、チオナフテン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ピラゾール、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、オキサゾール、チアゾール、ビス−チアゾール、イソオキサゾール、イソチアゾール、キノリン、ビス−キノリン、イソキノリン、ビス−イソキノリン、アクリジン、クロメン、フェナジン、フェノキサジン、フェノチアジン、トリアジン、チアントレン、プリン、ビス−イミダゾール及びビス−オキサゾールからなる群から選択した非置換又は置換ヘテロアレーンから誘導される。
【００５６】
立体障害性アミンオキシドはまた、例えば式（ＩＩ）の基を少なくとも１個有する化合物又は式（ＩＩａ）の化合物を含む本プロセスについてＮ−オキシル抽出物とも呼ばれ、当該分野では広く公知である；それらを調製するには、対応するＮ−Ｈ障害性アミンを適切な酸素供与体で酸化する、例えば対応するＮ−Ｈ障害性アミンを過酸化水素及びタングステン酸ナトリウム（E. G. Rozantsev et al., in Synthesis, 1971, 192に記載;）と、あるいはｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド及びモリブデン（Ｖｌ）（United States Patent No. 4,691,015に教示）と反応させ、あるいは類似の手段で得ることができる。
【００５７】
本方法についてＣ５−Ｃ１８アルカ−１−エンの好ましい量は、出発物質アミンオキシド中の反応性で障害のあるアミンであるニトロキシル部分の相対的な数に当然依存するのはもちろんである。反応が行われるためのＣ５−Ｃ１８アルカ−１−エンのモル比は、代表的にはニトロキシル部分の１モル当たり１〜１００モルであり、好ましくはニトロキシル部分の１モル当たり１〜５０モルであり、最も好ましくニトロキシル部分の１モル当たり１〜３０モルである。
【００５８】
有機ヒドロペルオキシドの好ましい量は、ニトロキシル部分の１モル当たり０．５〜２０モルであり、更に好ましい量はニトロキシル部分の１モル当たり０．５〜５モルであり、最も好ましい量はニトロキシル部分の１モル当たり０．５〜３モルである。
【００５９】
本発明で使用される有機ヒドロペルオキシドは、式Ｒ−ＯＯＨのものにすることができ、式中、Ｒは通常は炭素原子１〜１８、好ましくは３〜１８を含有する炭化水素である。Ｒは、脂肪族であるのが有利であり、例えばアルキル基、好ましくはＣ１〜Ｃ１２アルキルである。最も好ましくは、有機ヒドロペルオキシドは、ｔｅｒｔ−ブチル−ヒドロペルオキシド又はクミルヒドロペルオキシドである。
【００６０】
更なる触媒の好ましい量は、ニトロキシル部分１モル当たり約０．０００１〜０．５、特に約０．０００５〜０．１モル等量であり、更なる触媒の最も好ましい比は、ニトロキシル部分の１モル当たり０．００１〜０．０５モルである。
【００６１】
反応は、好ましくは０℃〜１００℃、更に好ましくは２０℃〜１００℃、特に２０〜８０℃の範囲で行う。
【００６２】
Ｃ５−Ｃ１８アルカ−１−エンは、反応物として及び反応の溶媒として二つの機能を果たしうる。また、反応は、また、不活性な有機性又は無機性の溶媒を用いて行うこともできる。
【００６３】
そのような溶媒は、特に更なる触媒がＣ５−Ｃ１８アルカ−１−エンにあまり易溶性でない場合に、使用してよい。代表的な不活性溶媒は、アセトニトリル、ベンゼンやクロロベンゼンのような芳香族炭化水素、ＣＣｌ４、アルコール（例えばメタノール、エタノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル）、又はヘキサン、デカン等のようなアルカン、あるいはこれらの混合物である。無機性溶媒、例えば水も同様に可能である。
【００６４】
本方法は空気中又は不活性雰囲気、例えば窒素やアルゴン中で行うことができる。本方法は大気圧下ならびに減圧又は高圧下で行うことができる。
【００６５】
本方法を変形した方法が数種ある。一つの変形では、Ｎ−オキシル障害性アミン、Ｃ５−Ｃ１８アルカ−１−エン、及び（必要であれば）溶媒、ならびに場合により更なる触媒の混合物を所望の反応温度にしてから有機ヒドロペルオキシド溶液を添加する。その適切な温度を維持するために、ペルオキシドの添加速度を制御し、及び／又は加熱浴もしくは冷却浴を使用する。ヒドロペルオキシドを添加した後、反応混合物を簡便に撹拌すると、出発物質アミンオキシドが消失したか又は所望の生成物、例えば式（Ａ）〜（Ｏ）の化合物への変換がもはや行われなくなる。反応は、当分野で公知の方法、例えばＵＶ−ＶＩＳ分光学、薄層クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー又は液体クロマトグラフィーによって監視することができる。触媒の追加分は反応の進行中に添加することができる。ヒドロペルオキシドの最初の投入量を反応混合物に添加した後、更にヒドロペルオキシドを滴下して反応を完結することができる。
【００６６】
本方法の第二の変形は、Ｃ５−Ｃ１８アルカ−１−エン、（必要であれば）溶媒及び場合により更なる触媒の混合物に、ヒドロペルオキシドの分離溶液とニトロキシル化合物を同時に添加する。ニトロキシル化合物は水又は反応で使用する溶媒、例えばアルコールに溶解してよい。ニトロキシル化合物のいくらかを反応混合物に投入してからペルオキシドの追加を開始してもよく、そしてニトロキシル化合物を全部添加してから、ペルオキシドの追加を完了すべきである。
【００６７】
本方法の別の変形では、ニトロキシル化合物、Ｃ５−Ｃ１８アルカ−１−エン、及び（必要であれば）溶媒の混合物に、ヒドロペルオキシドの分離溶液と、更なる触媒の水溶液又は溶媒溶液の分離溶液とを同時に添加する。更なる触媒のいくらかを反応混合物に投入してからペルオキシドの追加を開始してもよい。
【００６８】
本方法の更なる変形では、Ｃ５−Ｃ１８アルカ−１−エン及び（必要であれば）溶媒に、ヒドロペルオキシドの分離溶液、ニトロキシル化合物の水溶液もしくは溶媒溶液の分離溶液、及び更なる触媒の水溶液もしくは溶媒溶液の分離溶液を同時に添加する。ニトロキシル化合物の一部及び／又は触媒を反応混合物に投入してからヒドロペルオキシドの追加を開始してよい。ニトロキシル化合物を全部添加してから、ヒドロペルオキシドの追加を完了すべきである。
【００６９】
反応が終了したら、残余のヒドロペルオキシドを注意深く分解してから、全ての生成物を単離するのがよい。
【００７０】
また、本発明は、有機ヒドロペルオキシドの存在下で、対応する立体障害性アミンオキシドとＣ５−Ｃ１８アルカ−１−エンとを反応させ、得られた立体障害性アミンエーテルを引き続き水素化する方法にも関する。水素化を行うにあたって、中間体を早々に単離しなくても、洗浄して（過剰の）ペルオキシドを分解しなくても、また溶媒を変更して過剰のオレフィンを一緒に水素化しなくてもよい。
【００７１】
水素化は水素化触媒の存在下で行うのが有利である。
【００７２】
水素化触媒は、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、リンドラー触媒、白金化合物、パラジウム化合物、ルテニウム化合物、ロジウム化合物、イリジウム化合物、ニッケル化合物、亜鉛化合物及びコバルト化合物からなる群から選択されるのが好ましい。
【００７３】
水素化触媒は、有機又は無機の重合体主鎖に結合させることによって、触媒系を均一あるいは不均一にすることができる。また、水素化は、転移水素化（例えばS Murashi et al., Chem. Rev. (1998), 98, 2599-2660に記載）として、あるいは更なる水素化方法、例えばLarock, 「包括的有機変換（comprehensive organic transformations）」に記載されるようにして行うこともできる。
【００７４】
水素化触媒は、白金、パラジウム、ルテニウム、白金化合物、パラジウム化合物及びルテニウム化合物からなる群から選択されるのが更に好ましい。
【００７５】
水素化触媒は、白金、パラジウム及びルテニウム；炭素に固定された白金、パラジウム及びルテニウム；ＰｔＯ２、Ｐｄ−ＣａＣＯ３−ＰｂＯ、ＲｕＣｌＨ［ＰＰｈ３］３、ＲｈＣｌ［ＰＰｈ３］３及びＲｕＨ２［Ｐ（Ｐｈ）３］４からなる群から選択されるのが最も好ましい。
【００７６】
水素化触媒の好ましい量は、不飽和アミンエーテル部分の１モル当たり０．０００１〜０．２モルである。水素化反応は、好ましくは０℃〜８０℃、特に２０〜６０℃の範囲で行う。水素圧は、好ましくは１〜２０気圧である。
【００７７】
立体障害性アミンエーテルの調製方法は、有機ヒドロペルオキシドの存在下で、対応する立体障害性アミンオキシドとＣ５〜Ｃ１８アルカ−１−エンとを反応させ及び場合によりその反応生成物を水素化することを含み、その結果、立体障害性アミンエーテルの混合物が得られる。したがって、本発明は以下に規定される立体障害性アミンエーテルの混合物にも関する。
【００７８】
例えば、本発明の第一の混合物は式（Ｚａ）である：
【００７９】
【化２３】
【００８０】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は式（ＩＩ）について定義した通りであり、
Ｅ１０は、式（ＩＩａ）について定義した通りであり、
Ｅ１は、ラジカル
【００８１】
【化２４】
【００８２】
（式中、Ｑ１はＣ２〜Ｃ１５アルキルである）の混合物であり、
ただし、立体障害性アミンエーテルの混合物は、式（１００）及び（１０１）の化合物：
【００８３】
【化２５】
【００８４】
の混合物ではない］。
例えばＱ１はＣ３〜Ｃ１５アルキルである。
【００８５】
例えば、Ｅ１０は、−ＯＨ、＝Ｏにより、又は総炭素原子１〜５００を含有する１個又は２個の有機残基により置換された炭素原子であり、特にＥ１０は、＝Ｏにより又は総炭素原子１〜５００を含有する１個又は２個の有機残基により置換された炭素原子である。
【００８６】
好ましくは、このような混合物は、式（Ａ）〜（Ｏ）によって表され、各ＥがＥ１に置き換えられている。
【００８７】
最も好ましくは、このような混合物は、式（Ｃ）によって表され、各ＥがＥ１に置き換えられている。
【００８８】
更に興味があるのは、本発明の第一の混合物が式（Ｚａ）の基を含有する化合物からなることである。
【００８９】
本発明の第二の混合物は、式（Ｙ）の基を少なくとも１個含有する：
【００９０】
【化２６】
【００９１】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は式（ＩＩ）について定義した通りであり、
Ｅ２は、ラジカル：
【００９２】
【化２７】
【００９３】
（式中、Ｑ１はＣ２〜Ｃ１５アルキルである）の混合物である］。
【００９４】
このような混合物は式（Ｙａ）であれば有利である：
【００９５】
【化２８】
【００９６】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は、式（ＩＩ）について定義した通りであり、
Ｅ１０は、式（ＩＩａ）について定義した通りであり、Ｅ２は式（Ｙ）について定義した通りである］。
【００９７】
好ましくは、このような混合物は、式（Ａ）〜（Ｏ）によって表され、各ＥがＥ２に置き換えられている。
【００９８】
最も好ましくは、このような混合物は、式（Ｃ）によって表され、各ＥがＥ２に置き換えられている。
【００９９】
更に興味があるのは、本発明の第二の混合物が式（Ｙ）の基を含有する化合物からなることである。
【０１００】
立体障害性アミンエーテルの好ましい混合物においては、Ｅ１ａ：Ｅ１ｂの比及びＥ２ａ：Ｅ２ｂの比がそれぞれ独立に１：９〜７：３であり、特に１：４〜３：２であり、例えば３：７〜１：１であり、最も好ましくは７：１３〜９：１１である。
【０１０１】
アミンエーテル部分を１個より多く含有する分子について、基Ｅ１ａとＥ１ｂ及び独立にＥ２ａとＥ２ｂは分子中に統計学的に分布している。本発明混合物におけるＥ１ａ：Ｅ１ｂの比及びＥ２ａ：Ｅ２ｂの比は、それぞれ１分子当たりのアミンエーテル基の数とは無関係である。
【０１０２】
本発明の別の態様は、
（ｉ）有機ヒドロペルオキシドの存在下で、立体障害性アミンオキシドとＣ５−Ｃ１８アルカ−１−エンとを反応させることを含む調製方法によって得られる混合物並びに
（ｉｉ）（ｉ）の混合物を水素化する工程によって得られる混合物、
である。
【０１０３】
本発明方法から得られる混合物は全て、単一のアミンエーテル成分に分離弁別してもよく、単一のアミンエーテル成分は、従来方法、例えばクロマトグラフィー、蒸留、沈殿、又は分別再結晶によってもたらすことができる。しかし、実用目的からすると、分離の必要はなく、むしろ混合物は分離せずに使用するのが有利でさえある。
【０１０４】
したがって、本発明の別の態様は、光、酸素、及び／又は熱による分解に対する有機材料の安定化剤として、あるいは有機材料の難燃化剤として本発明混合物を使用すること、ならびに光、酸素、及び又は熱による分解に対して有機材料を難燃化し又は有機材料を安定化する方法であって、式（Ｙ）の基を少なくとも１個含有する立体障害性アミンエーテルの混合物又は式（Ｚａ）の立体障害性アミンエーテルの混合物を有機材料に適用するか又は該材料中に組み込むことを含む方法である。
【０１０５】
更に本発明は、
Ａ）酸化的、熱的及び／又は化学的分解に感応性の有機材料、ならびに
Ｂ）式（Ｙ）の基を少なくとも１個含有する立体障害性アミンエーテルの混合物の少なくとも１種又は式（Ｚａ）の立体障害性アミンエーテルの混合物の少なくとも１種、
を含む組成物に関する。
【０１０６】
光、酸素、及び／又は熱の損傷作用に対して、あるいは火炎に対して保護すべき有機材料は、特に有機性重合体、好ましくは合成有機性重合体である。本発明の立体障害性アミンエーテルの混合物は、組み込み又は適用した材料において高い熱的安定性、相容性及び良好な耐性を発揮する。
【０１０７】
上記の方法で保護可能な重合体の例は次のごとくである。
【０１０８】
１． モノオレフィン及びジオレフィンの重合体、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブタ−１−エン、ポリ−４−メチルペンタ−１−エン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、ならびにシクロオレフィン重合体、例えばシクロペンテンやノルボルネン、（場合により架橋できる）ポリエチレン、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度及び高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度及び超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、直鎖低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）。
【０１０９】
ポリオレフィン、すなわち、前段落で例示したモノオレフィンの重合体、好ましくはポリエチレン及びポリプロピレンは種々の方法で、特に次の方法で調製することができる。
【０１１０】
ａ）ラジカル重合（通常は高温高圧下で）
ｂ）触媒重合；使用する触媒は、通常は周期律表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ、又はＶＩＩＩ族の１種以上の金属を含有する。これらの金属は、通常は１以上のリガンドを含み、代表的にはオキシド、ハライド、アルコラート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル、及び／又はアリールがあり、これらはπ結合又はσ結合のいずれかをしていてよい。これらの金属錯体は遊離の形態でも、あるいは基材上、代表的には活性化された塩化マグネシウム、塩化チタン（ＩＩＩ）、アルミナ、又は酸化ケイ素上に固定化されていてもよい。これらの触媒は重合用媒質に可溶性であっても不溶性であってもよい。重合に際しこれらの触媒はそれら自体で使用可能であるが、あるいは更に活性化剤を使用してもよく、代表的には金属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシドあるいは金属アルキルオキサンがあり、該金属は周期律表のＩａ、ＩＩａ、及び／又はＩＩＩａ族の元素である。これら活性化剤は更にエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で簡便に修飾してもよい。これらの触媒系は、一般にPhillips、Standard Oil Indiana、Ziegler（-Natta）、TNZ（Du Pont）、メタロセン又はシングルサイト触媒（SSC）とよばれる。
【０１１１】
２． １）で述べた重合体の混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）及び種々のタイプのポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【０１１２】
３． モノオレフィンとジオレフィンとの相互共重合体又は更に他のビニルモノマーとの共重合体、例えば、エチレン／プロピレン共重合体、直鎖低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びそれと低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブタ−１−エン共重合体、プロピレン／イソブチレン共重合体、エチレン／ブタ−１−エン共重合体、エチレン／ヘキセン共重合体、エチレン／メチルペンテン共重合体、エチレン／ヘプテン共重合体、エチレン／オクテン共重合体、プロピレン／ブタジエン共重合体、イソブチレン／イソプレン共重合体、エチレン／アルキルアクリレート共重合体、エチレン／アルキルメタクリレート共重合体、エチレン／ビニルアセテート共重合体ならびにこれらの一酸化炭素との共重合体又はエチレン／アクリル酸共重合体及びそれらの塩（イオノマー）ならびにエチレンと、プロピレン及びジエン、例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンもしくはエチリデン−ノルボルネンとの三元重合体ならびにこれら共重合体と互いとの及び上記１）で述べた複数の重合体との混合物、例えば、ポリプロピレン／エチレン−プロピレン共重合体、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニルアセテート共重合体（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸共重合体（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ、及び交互又はランダムなポリアルキレン／一酸化炭素共重合体ならびにこれらと他の重合体、例えばポリアミドとの混合物。
【０１１３】
４． 炭化水素樹脂（例えばＣ５−Ｃ９）。それらの水素化修飾体（例えば粘着剤）及びポリアルキレンとデンプンの混合物を含む。
【０１１４】
５． ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。
【０１１５】
６． スチレン又はα−メチルスチレンとジエン又はアクリル誘導体との共重合体、例えば、スチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；高衝撃性スチレン共重合体と別の重合体、例えばポリアクリレート、ジエン重合体又はエチレン／プロピレン／ジエン三元共重合体との混合物；ならびにスチレンのブロック共重合体、例えばスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレン。
【０１１６】
７． スチレン又はα−メチルスチレンのグラフト共重合体、例えば、ポリブタジエン上にスチレン、ポリブタジエン−スチレン又はポリブタジエン−アクリロニトリル共重合体上にスチレン；ポリブタジエン上にスチレン及びアクリロニトリル（又はメタクリロニトリル）；ポリブタジエン上にスチレン、アクリロニトリル及びメチルメタクリレート；ポリブタジエン上にスチレン及び無水マレイン酸；ポリブタジエン上にスチレン、アクリロニトリル及び無水マレイン酸又はマレイミド；ポリブタジエン上にスチレン及びマレイミド；ポリブタジエン上にスチレン及びアルキルアクリレート又はメタクリレート；エチレン／プロピレン／ジエン三元共重合体上にスチレン及びアクリロニトリル；ポリアルキルアクリレート又はポリアルキルメタクリレート上にスチレン及びアクリロニトリル；アクリレート／ブタジエン共重合体上にスチレン及びアクリロニトリル、ならびにこれらと６）で挙げた共重合体との混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡ、又はＡＥＳ重合体として公知の共重合体混合物。
【０１１７】
８． ハロゲン含有重合体、例えば、ポリクロロプレン、塩素化ゴム、塩素化及び臭素化したイソブチレン−イソプレン共重合体（ハロブチルラバー）、塩素化又はスルフォ塩素化したポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンとの共重合体、エピクロロヒドリンホモ−及び共重合体、特にハロゲン含有ビニル化合物の重合体、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ならびにこれらの共重合体、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／ビニルアセテート又は塩化ビニリデン／ビニルアセテート共重合体。
【０１１８】
９． α，β−不飽和酸から誘導された重合体及びそれらの誘導体、例えば、ポリアクリレート及びポリメタクリレート；ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド、及びブチルアクリレートで耐衝撃性改変したポリアクリロニトリル。
【０１１９】
１０． ９）で述べたモノマーのモノマー同士の共重合体又は他の不飽和モノマーとの共重合体、例えばアクリロニトリル／ブタジエン共重合体、アクリロニトリル／アルキルアクリレート共重合体、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレート共重合体又はアクリロニトリル／ビニルハライド共重合体又はアクリロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエン三元重合体。
【０１２０】
１１． 不飽和のアルコール及びアミン又はこれらのアシル誘導体又はアセタールから誘導した重合体、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレアート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン、ならびにこれらと１）で述べたオレフィンとの共重合体。
【０１２１】
１２． 環状エーテルの単独重合体及び共重合体、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、又はビスグリシジルエーテルとこれらとの共重合体。
【０１２２】
１３． ポリアセタール、例えば、ポリオキシメチレン及び共単量体としてエチレンオキシドを含有するそれらのポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレート、又はＭＢＳで修飾したポリアセタール。
【０１２３】
１４． ポリフェニレンオキシド及びサルファイド、ならびにポリフェニレンオキシドとスチレン重合体又はポリアミドとの混合物。
【０１２４】
１５． 一端にヒドロキシ末端ポリエーテル、ポリエステル又はポリブタジエン、他端に脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートから誘導されたポリウレタン、ならびにこれらの前駆体。
【０１２５】
１６． ジアミンとジカルボン酸から及び／又はアミノカルボン酸もしくはその対応するラクタムから誘導されたポリアミド及び共ポリアミド、例えば、ポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン及びアジピン酸から出発する芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミン及びイソフタル酸及び／又はテレフタル酸から修飾剤としてのエラストマーの共存又は不共存で調製したポリアミド、例えば、ポリ−２，４，４、−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミドもしくはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド、さらに前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィン共重合体、イオノマー又は化学結合したもしくはグラフト結合したエラストマーとのブロック共重合体；ポリエーテルとの、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールもしくはポリテトラメチレングリコールとのブロック共重合体；ならびにＥＰＤＭもしくはＡＢＳで修飾したポリアミドもしくは共ポリアミド、及び製造中に縮合したポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
【０１２６】
１７． ポリウレア、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントイン及びポリベンゾイミダゾール。
【０１２７】
１８． ジカルボン酸とジオールとから及び／又はヒドロキシカルボン酸もしくは対応するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート及びポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシ末端ポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル；さらにポリカルボネート又はＭＢＳで修飾されたポリエステル。
【０１２８】
１９． ポリカルボネート及びポリエステルカルボネート。
【０１２９】
２０． ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン及びポリエーテルケトン。
【０１３０】
２１． 一端にアルデヒド、他端にフェノール、ウレア及びメラミンから誘導された架橋重合体、例えば、フェノール／ホルムアルデヒド樹脂、ウレア／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
【０１３１】
２２． 乾燥用及び非乾燥用アルキド樹脂。
【０１３２】
２３． 飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコール及び架橋剤としてのビニル化合物との共ポリエステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂、並びにまたそれの難燃性ハロゲン含有修飾体。
【０１３３】
２４． 飽和アクリレートから誘導された架橋可能アクリル樹脂、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート又はポリエステルアクリレート。
【０１３４】
２５． メラミン樹脂、ウレア樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネート又はエポキシ樹脂で架橋したアルキド樹脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。
【０１３５】
２６． 脂肪族、脂環式、複素環式、又は芳香族グリシジル化合物から誘導した架橋エポキシ樹脂、例えば、ビスフェノールＡ及びビスフェノールＦのジグリシジルエーテル生成物であって、常用の硬化剤、例えば無水物又はアミンで促進剤の共存又は不共存にて架橋した生成物。
【０１３６】
２７． 上記重合体のブレンド物（ポリブレンド）、例えば、ＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリ−アミド／ＥＰＤＭもしくはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６ならびに共重合体、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳ又はＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【０１３７】
特に興味があるのは、本発明の立体障害性アミンエーテルの使用であって、好ましくは、Ｅを式（Ｚａ）について定義した通りのＥ１又は式（Ｙ）について定義した通りのＥ２に置き換えた式（Ａ）〜（Ｏ）の立体障害性アミンエーテルの混合物を、合成有機重合体、例えばコーティング用重合体もしくはバルク重合体又はそれらから形成した物品、特に熱可塑性重合体及び対応する組成物ならびにコーティング用組成物、例えば酸又は金属で触媒されたコーティング用組成物中での安定化剤としての使用である。本発明組成物で最も重要な熱可塑性重合体は、ポリオレフィン（ＴＰＯ）とそれらの共重合体、例えば上の１〜３項で挙げたもの、熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）、ポリカーボネート、例えば上の１９項で挙げたもの、及びブレンド、例えば上の２７項で挙げたものである。最高に重要なのはポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、及びポリカーボネートブレンド、例えばＰＣ／ＡＢＳブレンドである。
【０１３８】
一般に、本発明の立体障害性アミンエーテルの混合物を安定化すべき材料に添加する量は、（安定化すべき材料に基づいて）０．０１〜１０％、好ましくは０．０１〜５％、特に０．０１〜２％である。新規な立体障害性アミンエーテルの混合物の使用は、０．０５〜１．５％、特に０．１〜０．５％の量が特に好ましい。本発明の立体障害性アミンエーテルの混合物を難燃化剤として使用する場合には、用量は通常高めであり、例えば、安定化しかつ燃焼防止すべき有機材料の０．１〜２５重量％、主として０．１〜１０重量％である。
【０１３９】
材料中への組込みは、例えば、当分野で常用の方法により、立体障害性アミンエーテルの混合物及び所望により追加の添加物を混入又は適用することによって実施できる。重合体、特に合成重合体を使用する場合には、組込みは、成形操作前又はその過程で行うことができ、あるいは化合物を溶解又は分散して重合体に適用し、続いて溶媒を気化して又は気化せずに行うことができる。エラストマーの場合には、これらは、また、ラテックスの形でも安定化することができる。また、重合体へ立体障害性アミンエーテルの混合物を組み込むための更なる可能性は、対応する単量体を重合する前に、間に又は直後に、あるいは架橋する前にそれらを添加することである。この関係で、立体障害性アミンエーテルの混合物は、そのままで、又は他に、（例えばワックス、油又はポリマー中に）カプセル化した形態で添加することができる。
【０１４０】
立体障害性アミンエーテルの混合物は、該化合物を含有するマスターバッチの形態で、例えば安定化すべき重合体に２．５〜２５重量％の濃度にて添加することもできる。
【０１４１】
立体障害性アミンエーテルの混合物は、次の方法で慎重に組み込むすることができる。
− （例えば、ラテックス又は乳化ポリマーに）乳化液又は分散液として、
− 追加の成分又は重合体混合物を混入する過程で乾燥混合物として、
− 加工装置（例えば、押出機、内部ミキサー等）中に直接導入することによって、
− 溶液又は溶融体として。
【０１４２】
新規重合体組成物は、種々の形態で使用することができ及び／又は種々の製品、例えばフィルム、繊維、テープ、成形用組成物、異形材を得るために、又は材料被覆用結合剤、接着剤あるいはパテとして加工できる。
【０１４３】
例えば、本組成物は成分Ｃとして更なる添加剤を含有する。
【０１４４】
例えば、さらに別の添加物には、抗酸化剤、ＵＶ吸収剤、光安定化剤、金属脱活性化剤、ホスファイト、ホスホナイト、ヒドロキシルアミン、ニトロン、チオ相乗剤、過酸化物捕捉剤、塩基性補助安定剤、核形成剤、充填剤、補強剤、ベンゾフラノン、インドリノン及び／又は防炎剤がある。
【０１４５】
立体障害性アミンエーテルの混合物の他に、新規組成物には追加成分Ｃとして一種以上の従来添加物、例えば以下に示すものを含有してもよい。
【０１４６】
１． 抗酸化剤
【０１４７】
１．１． アルキル化モノフェノール、例えば２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−ジ−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、側鎖が直鎖もしくは分枝状のノニルフェノール、例えば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチルウンデカ−１′−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチルヘプタデカ−１′−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチルトリデカ−１′−イル）フェノール、ならびにこれらの混合物。
【０１４８】
１．２． アルキルチオメチルフェノール、例えば２，４−ジオクチルチオメチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【０１４９】
１．３． ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、例えば２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【０１５０】
１．４． トコフェロール、例えばα−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びこれらの混合物（ビタミンＥ）
【０１５１】
１．５． ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば２，２′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オクチルフェノール）、４、４′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′−チオビス（３，６−ジ−ｓｅｃ−アミルフェノール）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【０１５２】
１．６． アルキリデンビスフェノール、例えば２，２′−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２′−エチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２′−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４′−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４′−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル−フェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチル−フェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【０１５３】
１．７． Ｏ−、Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物、例えば３，５，３′，５′−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルファイド、イソオクチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【０１５４】
１．８． ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば、ジオクタデシル−２，２−ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【０１５５】
１．９． 芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン，１，４−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【０１５６】
１．１０． トリアジン化合物、例えば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【０１５７】
１．１１． ベンジルホスホネート、例えば、ジメチル−２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート；３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【０１５８】
１．１２ アシルアミノフェノール、例えば、４−ヒドロキシラウルアニリド、４−ヒドロキシステアルアニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
【０１５９】
１．１３． β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１６０】
１．１４． β−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロール−プロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１６１】
１．１５． β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロール−プロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１６２】
１．１６ ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と一価又は多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロール−プロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１６３】
１．１７． β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ビス［２−（３−［３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（Naugard（登録商標）XL-1提供Uniroyal）
【０１６４】
１．１８． アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【０１６５】
１．１９． アミン系抗酸化剤、例えば、Ｎ．Ｎ′−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−エチル−３−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ．Ｎ′−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロ−ヘキシル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ′−ジメチル−Ｎ，Ｎ′−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルビフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えば、ｐ．ｐ′−ジ−ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４′−ジアミノジフェニルメタン、４，４′−ジアミノフェニルメタン、Ｎ．Ｎ．Ｎ′．Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１′，３′−ジメチルブチル）フェニル］アミン、ｔｅｒｔ−オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン；モノ−及びジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−及びジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−及びジアルキル化ｔｅｒｔ−オクチル−フェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−１，４−ジアミノブタ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリド−４−イル−ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリド−４−イル）−セバケート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール。
【０１６６】
２．紫外線吸収剤及び光安定化剤
【０１６７】
２．１． ２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、例えば、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｓｅｃ−ブチル−５′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−４′−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′−ビス−（α，α−ジメチルベンジル）−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−２′−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−オクチルオキシ−カルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−「２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ドデシル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２′−メチレン−ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−「３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）−２′−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；
【０１６８】
【化２９】
【０１６９】
［式中、Ｒは３′−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−ヒドロキシ−５′−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニルである］、２−［２′−ヒドロキシ−３′−（α，α−ジメチルベンジル）−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］ベンゾトリアゾール；２−［２′−ヒドロキシ−３′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５′−（α，α−ジメチルベンジル）−フェニル］ベンゾトリアゾールである］。
【０１７０】
２．２． ２−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２′，４−トリヒドロキシ及び２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。
【０１７１】
２．３． 置換及び非置換安息香酸のエステル、例えば、４−ｔｅｒｔブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【０１７２】
２．４． アクリレート、例えば、エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート及びＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
【０１７３】
２．５． ニッケル化合物、例えば、追加のリガンド、例えばｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン又はＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンの有無で、２，２′−チオ−ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、例えば、１：１もしくは１：２錯体；ニッケルジブチルジチオカルバメート；追加のリガンドの有無で、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエステル、例えばメチル又はエチルエステルのニッケル塩；ケトオキシム、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトオキシムのニッケル錯体，１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【０１７４】
２．６． 更に立体障害性アミン、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合体、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−ｔｅｒｔ−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの直鎖又は環状縮合体、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、１，１′−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアロイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート；Ｎ、Ｎ′−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの直鎖又は環状縮合体、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合体、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合体、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−及び４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合体、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン及び４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（CAS Reg. No.［136504-96-6］）との縮合生成物；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４，５］デカン；７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４，５］デカンとエピクロロヒドリンの反応生成物；１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ′−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシ−メチレン−マロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィン共重合体と２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジン又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物、２，４−ビス［Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ−ブチルアミノ］−６−（２−ヒドロキシエチル）アミノ−１，３，５−トリアジン。
【０１７５】
２．７． オキサミド、例えば、４，４′−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジエトキシオキサニリド、２，２′−ジオクチルオキシ−５，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド、２，２′−ジドデシルオキシ−５，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド、２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、Ｎ．Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−エトキシアニリド及びこれと２−エトキシ−２′−エチル−５，４′−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−ジ置換オキサニリドの混合物並びにｏ−及びp−エトキシ−ジ置換オキサニリドの混合物。
【０１７６】
２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス−（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ/トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプポキシ）−２−ヒドロキシ−フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−{２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル}−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−{２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニル−エトキシ］フェニル}−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン、ここでオクチル部分は異なる異性体の混合である。
【０１７７】
３． 金属脱活性化剤、例えば、Ｎ，Ｎ′−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラール−Ｎ′−サリチロールヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【０１７８】
４． ホスファイト及びホスホナイト、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、トリ（ノニルフェニル）ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジホスファイト、ジイソデシルオキシペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−トリス（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２Ｈ−ジ−ベンズ「ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスファイト、２，２′，２″−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３′，５，５′−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１′−ビフェニル−２，２′−ジイル）ホスファイト］、２−エチルヘキシル（３，３′，５，５′−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１′−ビフェニル−２，２′−ジ−イル）ホスファイト。
【０１７９】
次のホスファイトが特に好ましい。
【０１８０】
トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（lrgafos（登録商標）168，Ciba-Geigy）、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、
【０１８１】
【化３０】
【０１８２】
５． ヒドロキシルアミン、例えば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化した獣脂アミンから誘導したＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【０１８３】
６． ニトロン、例えば、Ｎ−ベンジル−α−フェニル−ニトロン、Ｎ−エチル−α−メチル−ニトロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチル−ニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシル−ニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタジエシル−ニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、水素化した獣脂アミンから誘導したＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導したニトロン。
【０１８４】
７． チオ協働剤、例えば、ジラウリルチオジプロピオネートやジステアリルチオジプロピオネート。
【０１８５】
８． 過酸化物捕捉剤、例えば、β−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、そのラウリル、ステアリル、ミリスチル、又はトリデシルエステル、メルカプトベンゾイミダゾール又は２−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミド酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリスリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【０１８６】
９． ポリアミド安定化剤、例えば、ヨウ化物及び／又はリン化合物と組み合わせた銅塩、及び二価マンガンの塩。
【０１８７】
１０． 塩基性安定化補助剤、例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えば、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウム、及びパルミチン酸カリウム、ピロカテコール酸アンチモンもしくはピロカテコール酸亜鉛。
【０１８８】
１１． 核形成剤、例えば、無機物質、例えばタルカム、金属酸化物、例えば二酸化チタン、又は酸化マグネシウム、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩又は硫酸塩；有機化合物、例えばモノ−又はポリカルボン酸及びそれらの塩、例えば４−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム、又は安息香酸ナトリウム、重合体化合物、例えばイオン性共重合体（イオノマー）。
【０１８９】
１２． 充填剤及び強化剤、例えば、炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、ガラスバルブ、アスベスト、タルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉及び他の自然物の粉もしくは繊維、合成繊維。
【０１９０】
１３． 他の添加剤、例えば、可塑剤、滑沢剤、乳化剤、顔料、粘弾性添加剤、触媒、流動制御剤、光沢剤、難燃剤、静電防止剤及び噴出剤。
【０１９１】
１４． ベンゾフラノン及びインドリノン、例えば、U.S. 4,325,863、U.S.4,338,244、U.S. 5,175,312、U.S. 5,216,052、U.S. 5,252,643、DE-A-4316611、DE-A-4316622、DE-A-4316876、EP-A-0589839又はEP-A-0591102に開示されたもの又は３−［４−（２−アセトキシエトキシ）−フェニル］−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンンゾフラン−２−オン、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラン−２−オン、３，３′−ビス［５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラン−２−オン］、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラン−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（２，３−ジ−メチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゾフラン−２−オン。
【０１９２】
従来添加剤の使用量は、安定化すべき材料を基準にして０．１〜１０重量％、例えば０．２〜５重量％が望ましい。
【０１９３】
以下の実施例は、単なる例示目的であって、本発明をいささかも限定すると解釈すべきでない。挙げるパーセンテージは、特に指示しない限り、通常は重量パーセントである。
【０１９４】
使用した略語：
Ｂｕ ブチル
ＤＥＰＴ 分極移動による歪のない増強
ＤＳＣ 示差走査熱量測定
ＨＳＱＣ 異核間一量子コヒーレンス
ＮＭＲ 核磁気共鳴
ＴＥＭＰＯ ２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシド
【０１９５】
ニトロキシドを１−オクテンでカップリングした後水素化した対ニトロキシドをオクタンでカップリング（実施例１〜７）
【０１９６】
実施例１
Ｏ−オクテニル立体障害性アミンエーテルを、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ／ＣｕＢｒ２触媒系を用いて、対応するニトロキシドと１−ｎ−オクテンとから調製。
【０１９７】
【化３１】
【０１９８】
７ｇ（４５mmol）のＴＥＭＰＯ、５２．１ｇ（４５０mmol）の１−ｎ−オクテン及び０．１ｇ（０．４５mmol）のＣｕＢｒ２の撹拌混合物に、１７．４ｇ（１３５mmol）のｔｅｒｔ−ブチル−ヒドロペルオキシド（７０％水溶液）を６０℃で６０分以内に加える。無色の反応混合物を２５℃に冷却し、過剰のｔｅｒｔ−ブチル−ヒドロペルオキシドが消失するまで、８５ｇの２０％Ｎａ２ＳＯ３水溶液と共に撹拌する。次に水性相を分離し、シクロヘキサンで洗浄する。一緒にされている有機相をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレータで溶媒を留去する。フラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル９／１）により精製すると、２，２，６，６−テトラメチル−１−ｎ−オクタ−２−エニルオキシ−ピペリジン（約４０mol％ １Ｈ−ＮＭＲによる）及び２，２，６，６−テトラメチル−１−（１−ビニル−ｎ−ヘキシルオキシ）−ピペリジン（約６０mol％ １Ｈ−ＮＭＲによる）の混合物が９．８ｇ（理論値の８１％）得られる。
【０１９９】
Ｃ１７Ｈ３３ＮＯ（２６７．４５）について要した分析：Ｃ７６．３４％， Ｈ１２．４４％， Ｎ５．２４％；実測：Ｃ７５．０１％， Ｈ１２．２７％， Ｎ４．８５％
【０２００】
【表１】
【０２０１】
実施例２
Ｏ−オクテニル立体障害性アミンエーテル（実施例１におけるのと同一物質）を、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ／Ｂｕ４ＮＩ触媒系を用いて、対応するニトロキシドと１−ｎ−オクテンとから調製。
【０２０２】
７．８ｇ（５０mmol）のＴＥＭＰＯ、５６．１ｇ（５００mmol）の１−ｎ−オクテン及び０．１８ｇ（０．５mmol）のヨウ化テトラブチルアンモニウムの撹拌混合物に、６．４ｇ（５０mmol）のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド（７０％水溶液）を５５℃で５０分以内に添加する。ＴＥＭＰＯが全て反応するまで温度を５５℃に５０分間維持する。反応混合物を２５℃に冷却し、過剰のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドが消失するまで、３１ｇの２０％ Ｎａ２ＳＯ３水溶液と共に撹拌する。次に、水性相を分離し、シクロヘキサンで洗浄する。一緒にされている有機相をシリカゲルプラグに通し、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレータで溶媒を留去すると１１ｇ（理論値の８２．３％）の生成物が得られる。これは上記と同じ１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示す。
【０２０３】
Ｃ１７Ｈ３３ＮＯ （２６７．４５）について要した分析：Ｃ７６．３４％， Ｈ１２．４４％， Ｎ５．２４％；実測：Ｃ７５．４８％， Ｈ１２．３０％， Ｎ５．２１％。
【０２０４】
実施例３
Ｏ−オクテニル立体障害性アミンエーテル（実施例１又は２の生成物）の水素化によって、Ｏ−オクチル立体障害性アミンエーテルを調製。
【０２０５】
【化３２】
【０２０６】
１０ｇ（３７．４mmol）の実施例１もしくは２の粗製物及び１．９ｇのＰｄ担持木炭（１０％）の混合物を１００mlメタノール中で２５℃、水素圧４バールにて水素化する。溶媒を濾過し蒸発すると、僅かに橙色の油として７ｇ（理論値の６９．５％）の２，２，６，６−テトラメチル−１−ｎ−オクチルオキシ−ピペリジン（約４０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）及び１−（１−エチル−ｎ−ヘキシルオキシ）−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン（約６０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）の混合物が得られる。
【０２０７】
Ｃ１７Ｈ３５ＮＯ （２６９．４８）について要した分析：Ｃ７５．７７％， Ｈ１３．０９％， Ｎ５．２０％；実測：Ｃ７４．７９％， Ｈ１２．７２％， Ｎ５．１９％
【０２０８】
【表２】
【０２０９】
１３Ｃ（ＤＥＰＴ）−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）、δ（ｐｐｍ，Ｏ−Ｃ（ｎ）Ｈｘのみ）：７６．９４（０−Ｃ（Ｉ）Ｈ２）， ８３．１２（Ｏ−Ｃ（３）Ｈ）
【０２１０】
実施例４（比較）
Ｏ−オクチル立体障害性アミンエーテルを、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ／ＣｕＢｒ２触媒系を用いて、対応するニトロキシドとｎ−オクタンとを直接カップリングすることによって調製。
【０２１１】
【化３３】
【０２１２】
４．７ｇ（３０mmol）のＴＥＭＰＯ、３４．３ｇ（３００mmol）のｎ−オクタン、及び０．０６７ｇ（０．３０mmol）のＣｕＢｒ２の撹拌混合物に、１１．６ｇ（９０mmol）のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド（７０％水溶液）を６０℃にて６０分以内に加える。反応混合物の温度を６０℃にて２５時間維持する。溶液が未だ赤味がかっているうちに０．３０mmolのＣｕＢｒ２／９０mmolのｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドを更に加えて、反応混合物を８０℃にて１．７時間撹拌する。緑色がかった乳化液を２５℃に冷却し、過剰のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドが消失するまで、７５ｇの２０％ Ｎａ２ＳＯ３水溶液と共に撹拌する。次に、水相を分離し、オクタンで洗浄する。一緒にされている有機相をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレータで溶媒を留去する。フラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル９／１）で精製すると、２，２，６，６−テトラメチル−１−（１−メチル−ｎ−ヘプチルオキシ）−ピペリジン（約４０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）、２，２，６，６−テトラメチル−１−（１−エチル−ｎ−ヘキシルオキシ）−ピペリジン（約３０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）、及び２，２，６，６−テトラメチル−１−（プロピル−ｎ−ペンチルオキシ）−ピペリジン（約３０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）の混合物４．９ｇ（理論値の６０％）が得られる。
【０２１３】
Ｃ１７Ｈ３５ＮＯ（２６９．４７）について要した分析：Ｃ７５．７７％， Ｈ１３．０９％， Ｎ５．２０％；実測：Ｃ７５．７２％， Ｈ１３．０６％， Ｎ５．０２％．
【０２１４】
【表３】
【０２１５】
ＨＳＱＣ−分光測定により１３Ｃ／１Ｈの相関が確立される。Ｏ−Ｃ（２）Ｈ 及び Ｏ−Ｃ（４）Ｈは、１３Ｃ化学シフトの経験的な計算について記載するグラント−ポールの法則に従って暫定的に割り当てる。
【０２１６】
実施例５
Ｏ−オクテニル立体障害性アミンエーテルを、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ／ＣｕＢｒ２触媒系を用いて、対応するニトロキシドと１−ｎ−オクテンとから調製。
【０２１７】
【化３４】
【０２１８】
７．７ｇ（４５mmol）の２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリドン−Ｎ−オキシド、５２．１ｇ（４５０mmol）の１−ｎ−オクテン及び０．１ｇ（０．４５mmol）のＣｕＢｒ２の撹拌混合物に、１７．４ｇ（１３５mmol）のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド（７０％水溶液）を６０℃にて滴下する。反応混合物の温度を全２．４時間６０℃に保持する。緑色の乳化液を２５℃に冷却し、過剰のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドが消失するまで、８５ｇの２０％Ｎａ２ＳＯ３水溶液と共に撹拌する。次に、水相を分離し、シクロヘキサンで洗浄する。一緒にされている有機相をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレータで溶媒を留去する。フラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル９／１）で精製すると、２，２，６，６−テトラメチル−１−ｎ−オクタ−２−エニルオキシ−ピペリジン−４−オン（約４０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）及び２，２，６，６−テトラメチル−１−（１−ビニル−ｎ−ヘキシルオキシ）−ピペリジン−４−オン（約６０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）の混合物７ｇ（理論値の５５％）が得られる。
【０２１９】
Ｃ１７Ｈ３ｉＮＯ２（２８１．４４）についての分析：Ｃ７２．５５％， Ｈ１１．１０％， Ｎ４．９８％；実測：Ｃ７２．５０％， Ｈ１０．８４％， Ｎ４．７７％
【０２２０】
【表４】
【０２２１】
実施例６
Ｏ−オクチル立体障害性アミンエーテルをＯ−オクテニル立体障害性アミンエーテル（実施例５の生成物）の水素化によって調製。
【０２２２】
【化３５】
【０２２３】
１２．３ｇ（４３．７mmol）の実施例５の生成物及び０．８ｇのＰｔ担持木炭（１０％）の、１２０mlの酢酸エチルの混合物を２５℃、水素圧４バールにて水素化する。溶媒を濾過し留去すると、２，２，６，６−テトラメチル−１−ｎ−オクチルオキシ−ピペリジン−４−オン（約４０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）及び１−（１−エチル−ｎ−ヘキシルオキシ）−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−オン（約６０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）の混合物からなる無色油９．１５ｇ（理論値の７３．９％）が得られる。
【０２２４】
Ｃ１７Ｈ３３ＮＯ２（２８３．４５）について要する分析：Ｃ７２．０４％， Ｈ１１．７３％， Ｎ４．９４％；実測：Ｃ７１．６５％， Ｈ１１．３６％， Ｎ４．８６％
【０２２５】
【表５】
【０２２６】
実施例７（比較）
Ｏ−オクチル立体障害性アミンエーテルを、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ／ＣｕＢｒ２触媒系を用いて、対応するニトロキシドとｎ−オクタンとを直接にカップリングさせることによって調製。
【０２２７】
【化３６】
【０２２８】
１５．３ｇ（９０mmol）の２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリドン−Ｎ−オキシド、１０２．９ｇ（９００mmol）のｎ−オクタン及び０．２ｇ（０．９０mmol）のＣｕＢｒ２の撹拌混合物に、３４．８ｇ（２７０mmol）のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド（７０％水溶液）を８０℃にて６０分以内に加える。反応混合物の温度を８０℃にて１．５時間保持する。緑色乳化液を２５℃に冷却し、過剰のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドが消失するまで、１７０ｇの２０％Ｎａ２ＳＯ３水溶液と共に撹拌する。次に、水相を分離し、シクロへキサンで洗浄する。一緒にされている有機相をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレータで溶媒を留去する。フラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル８．５／１．５）で精製すると、２，２，６，６−テトラメチル−１−（１−メチル−ｎ−ヘプチルオキシ）−ピペリジン−４−オン（約４０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）、２，２，６，６−テトラメチル−１−（１−エチル−ｎ−ヘキシルオキシ）−ピペリジン−４−オン（約３０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）及び２，２，６，６−テトラメチル−１−（プロピル−ｎ−ペンチルオキシ）−ピペリジン−４−オン（約３０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）の混合物７．５ｇ（理論値の２９％）が得られる。
【０２２９】
Ｃ１７Ｈ３３ＮＯ２（２８３．４５）について要した分析：Ｃ７２．０４％， Ｈ１１．７３％， Ｎ４．９４％；実測：Ｃ７１．８０％， Ｈ１１．５７％， Ｎ４．６８％
【０２３０】
【表６】
【０２３１】
ＨＳＱＣ−分光測定により１３Ｃ／１Ｈの相関が確立される。Ｏ−Ｃ（２）Ｈ及びＯ−Ｃ（４）Ｈは、１３Ｃ化学シフトの経験的な計算について記載するグラント−ポールの法則に従って暫定的に割り当てる。
【０２３２】
実施例８
Ｏ−オクテニル立体障害性アミンエーテルを、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ／ＣｕＢｒ２触媒系を用いて、対応するニトロキシドと１−ｎ−オクテンとをカップリングさせて調製。
【０２３３】
【化３７】
【０２３４】
１０．２ｇ（２０mmol）のビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート（Prostab（登録商標）5415, Ciba Specialty Chemicals Inc）、４６．３ｇ（４００mmol）の１−ｎ−オクテン及び０．０９ｇ（０．４mmol）のＣｕＢｒ２の撹拌混合物に、７．７ｇ（６０mmol）のｔｅｒｔ−テトラヒドロペルオキシド（７０％水溶液）を６０℃で３０分以内に加える。緑色乳化液を２５℃に冷却し、過剰のｔｅｒｔ−テトラヒドロペルオキシドが消失するまで、１９ｇの２０％Ｎａ２ＳＯ３水溶液と共に撹拌する。有機相を分離し、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレータで溶媒を留去する。フラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル８．５／１．５）により精製すると、僅かに黄色の油が８．６ｇ（理論値の５９％）得られる。Ｒ，Ｒ′＝ｎ−オクタ−２−エン−１−イル対Ｒ，Ｒ′＝１−ビニル−ｎ−ヘキシルの総量の比は、約４０mol％対６０mol％である（１Ｈ−ＮＭＲによる）。
【０２３５】
Ｃ４４Ｈ８０Ｎ２Ｏ６（７３３．１３）について要する分析：Ｃ７２．０９％， Ｈ１１．００％， Ｎ３．８２％；実測：Ｃ７１．２４％， Ｈ１０．６６％， Ｎ３．６０％．
【０２３６】
【表７】
【０２３７】
実施例９
ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ／Ｂｕ４ＮＩ触媒系を用いて、対応するニトロキシドと１−ｎ−オクテンとをカップリングさせることによって、Ｏ−オクテニル立体障害性アミンエーテル（実施例８におけると同一の化合物）を調製。
【０２３８】
１２．８ｇ（２５mmol）のビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート（Prostab（登録商標）5415, Ciba Specialty Chemicals Inc．）、５６．１１ｇ（５００mmol）の１−ｎ−オクテン及び０．1８５ｇ（０．５mmol）のヨウ化テトラブチルアンモニウムの撹拌混合物に、９．６６ｇ（７５mmol）のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド（７０％水溶液）を６０℃にて３０分以内に加える。反応混合物の温度を６０℃に２時間保持する。黄色乳化液を２５℃に冷却し、過剰のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドが消失するまで、４７ｇの２０％Ｎａ２ＳＯ３水溶液と共に撹拌する。次に、水相を分離し、ペンタンで洗浄する。一緒にされている有機相をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレータで溶媒を留去すると、１４．４９ｇ（理論値の７９％）の黄味がかった油が得られる。これは、実施例８の混合物と同一の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示す。
【０２３９】
実施例１０
Ｏ−オクチル立体障害性アミンエーテルを、Ｏ−オクテニル立体障害性アミンエーテル（実施例８の生成物）の水素化によって調製。
【０２４０】
【化３８】
【０２４１】
３．９５ｇ（５．４mmol）の実施例８からの生成物及び０．３ｇのＰｄ担持木炭（１０％）の、５０mlのヘキサンの混合物を５０℃、水素圧４バールにて水素化する。溶媒を濾過し蒸発すると、３．３ｇ（理論値の８３％）の僅かに橙色の油が得られる。Ｒ，Ｒ′=１−ｎ−オクチル対Ｒ，Ｒ′＝１−エチル−ｎ−ヘキシルの総量の比は、約４０mol％対６０mol％（１Ｈ−ＮＭＲによる）である。
【０２４２】
Ｃ４４Ｈ８４Ｎ２Ｏ６（７３７．１６）についての分析：Ｃ７１．６９％， Ｈ１１．４９％， Ｎ３．８０％；実測：Ｃ７０．６８％， Ｈ１１．６４％， Ｎ３．７０％
【０２４３】
【表８】
【０２４４】
実施例１１
Ｏ−オクチル立体障害性アミンエーテルを、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ／ＣｕＣｌ２触媒系を用いて、対応するニトロキシドと１−ｎ−オクテンとをカップリングさせ、続いて水素化させることにより調製する（実施例１０におけると同一の生成物）。
【０２４５】
操作では１．６当量のｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨが使用される（ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨの量を減らすと生成物に残留するジアルキルペルオキシドの量が減少することがＤＳＣにより明らかにされている）。
【０２４６】
１７．９ｇ（３５mmol）のビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート（Prostab（登録商標）5415, Ciba Specialty Chemicals Inc）、８１ｇ（７００mmol）の１−ｎ−オクテン及び０．１ｇ（０．７mmol）のＣｕＣl２の撹拌混合物に、７．２ｇ（５６mmol）のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド（７０％水溶液）を６０℃で３０分以内に加える。反応混合物の温度を６０℃に全２．５時間保持する。緑色乳化液を２５℃に冷却し、過剰のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドが消失するまで、２２ｇの２０％Ｎａ２ＳＯ３水溶液と共に撹拌する。有機相を分離し、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレータで溶媒を留去すると黄色油が得られる。
【０２４７】
３００mlの酢酸エチル及び０．７ｇの１０％Ｐｔ担持炭素（０．３５mmol）を加えた後に、混合物を２５℃／水素圧４バールで水素化する。溶媒を濾過し蒸発すると、２３ｇ（理論値の８９％）の極めて僅かに褐色の油が得られる。これは、実施例１０におけると同一の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示す。
【０２４８】
Ｃ４４Ｈ８４Ｎ２Ｏ６（７３７．１６）について要した分析：Ｃ７１．６９％， Ｈ１１．４９％， Ｎ３．８０％；実測：Ｃ７０．９９％， Ｈ１１．２０％， Ｎ３．８０％
【０２４９】
実施例１２
Ｏ−オクチル立体障害性アミンエーテル（実施例１０及び１１と同一の生成物）を、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ／Ｂｕ４ＮＩ触媒系を用いて、対応するニトロキシドと１−ｎ−オクテンとをカップリングさせ、続いて水素化させることにより調製。
【０２５０】
操作では１．６当量のｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨが使用される。（ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨの量を減らすと生成物に残留するジアルキルペルオキシドの量が減少することがDSCにより明らかにされている）。
【０２５１】
１７．９ｇ（３５mmol）のビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート（Prostab（登録商標）5415, Ciba Specialty Chemicals Inc．）、８１ｇ（７００mmol）の１−ｎ−オクテン及び０．２６ｇ（０．７mmol）のＢｕ４ＮＩの撹拌混合物に、７．２ｇ（５６mmol）のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド（７０％水溶液）を６０℃で３０分以内に加える。反応混合物を全４．７５時間温度を６０℃に保持する。０．９ｇ（７mmol）のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドを更に加えて更に３０分間撹拌した後に、黄色乳化液を２５℃に冷却し、過剰のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドが消失するまで、２２ｇの２０％Ｎａ２ＳＯ３水溶液と共に撹拌する。有機相を分離し、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレータで溶媒を留去すると黄色油が得られる。
【０２５２】
３００mlの酢酸エチル及び０．７ｇの１０％Ｐｔ担持炭素（０．３５mmol）を加えた後に、混合物を２５℃／水素圧４バールにて水素化する。溶媒を濾過し蒸発すると、２３．９ｇ（理論値の９３％）の僅かに黄味がかった油が得られる。これは、実施例１０におけると同一の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示す。
【０２５３】
Ｃ４４Ｈ８４Ｎ２Ｏ６（７３７．１６）について要する分析：Ｃ７１．６９％， Ｈ１１．４９％， Ｎ３．８０％；実測：Ｃ７０．８５％， Ｈ１１．１１％， Ｎ３．８１％．
【０２５４】
実施例１２ａ
Ｏ−オクチル立体障害性アミンエーテル（実施例１０〜１２におけると同一の生成物）を中間体を単離せずに、すなわち、溶媒を換えずに調製。
【０２５５】
ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペラジン−４−イル）セバケート（Prostab（登録商標）5415, Ciba Specialty Chemicals Inc.；４．６ｇ，９．０mmol）、１−オクテン（９７％；２０．８ｇ、１７９．８mmol）及びＢｕ４ＮＩ（０．０６７ｇ，０．１８mmol）の撹拌混合物に、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド（水に７０％；２．１ｇ，１６．３mmol）を６０℃で１５分以内に加える。反応混合物の温度を全４．５時間６０℃に保持する。黄色乳化液を２５℃に冷却し、水相を分離する。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、Ｐｔ（炭素上１０％、０．１８ｇ、０．０９mmol）上で５０℃／８バールにて水素化する。濾過し、揮発分を蒸発すると黄味がかった油が得られる。これは、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルが実施例１０におけると同一である。
【０２５６】
Ｃ４４Ｈ８４Ｎ２Ｏ６（７３７．１６）について計算した分析：Ｃ７１．６９％， Ｈ１１．４９％， Ｎ３．８０％；実測：Ｃ７０．７８％， Ｈ１１．１０％， Ｎ３．７１％
【０２５７】
実施例１３
Ｏ−ヘキセニル立体障害性アミンエーテルを、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ／ＣｕＢｒ２触媒系を用いて、対応するニトロキシドと１−ｎ−ヘキセンとから調製。
【０２５８】
【化３９】
【０２５９】
１３．６２ｇ（８０mmol）の２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリドン−Ｎ−オキシド、６７．３ｇ（８００mmol）の１−ｎ−ヘキセン及び０．１７９ｇ（０．８mmol）のＣｕＢｒ２の撹拌混合物に、１５．４５ｇ（１２０mmol）のｔｅｒｔ−ブチルヒドロキシド（７０％水溶液）を還流（約６０℃）で１．１時間以内に加える。反応混合物の温度を全２．８時間還流に保持する。緑色乳化液を２５℃に冷却し、過剰のｔｅｒｔ−ブチルヒドロキシドが消失するまで、７５ｇの２０％Ｎａ２ＳＯ３水溶液と共に撹拌する。次に、水相を分離し、ペンタンで洗浄する。一緒にされている有機相を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレータで溶媒を留去すると１７．７５ｇ（理論値の８８％）の黄色液体が得られる。フラッシュ−クロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキセン／酢酸エチル９／１）で精製すると、２，２，６，６−テトラメチル−１−ｎ−ヘキサ−２−エニルオキシ−ピペリジン−４−オン（約４０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）及び２，２，６，６−テトラメチル−１−（１−エチル−ｎ−ブチルオキシ）−ピペリジン−４−オン（約６０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）の混合物が１２．８ｇ（理論値の６３％）得られる。
【０２６０】
Ｃ１５Ｈ２７ＮＯ２（２５３．３８）について要した分析：Ｃ７１．１０％， Ｈ１０．７４％， Ｎ５．５３％；実測：Ｃ６９．８２％， Ｈ１０．５３％， Ｎ５．２５％
【０２６１】
【表９】
【０２６２】
実施例１４
Ｏ−ヘキセニル立体障害性アミンエーテル（実施例１３の生成物）の水素化によって、Ｏ−ヘキシル立体障害性アミンエーテルを調製。
【０２６３】
【化４０】
【０２６４】
１２．８ｇ（５０．５mmol）の実施例１３の生成物及び０．９ｇのＰｔ担持木炭（１０％）の、酢酸エチル１２０mlの混合物を２５℃、水素圧４バールにて水素化する。溶媒を濾過し蒸発すると、２，２，６，６−テトラメチル−１−ｎ−ヘキシルオキシ−ピペリジン−４−オン（約４０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）及び１−（１−エチル−ｎ−ブチルオキシ）−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−オン（約６０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）の混合物からなる僅かに赤味がかった油１０．４８ｇ（理論値の８１．２％）が得られる。
【０２６５】
Ｃｉ５Ｈ２９ＮＯ２（２５５．４０）について要した分析：Ｃ７０．５４％， Ｈ１１．４４％， Ｎ５．４８％；実測：Ｃ７０．３３％， Ｈ１１．１０％， Ｎ５．３７％
【０２６６】
【表１０】
【０２６７】
実施例１５
【０２６８】
【化４１】
【０２６９】
本発明アミノエーテルを、熱硬化性アクリル／メラミンクリアコート（Viacryl（登録商標）SC 303／Viacryl（登録商標）SC 370／Maprenal（登録商標）MF 650をベースとする）中に、配合物の固形物含量（５０．４％）を基準にして１％の濃度で組み込む。このクリアコートをシルバーメタリックのベースコートの上に噴霧し、硬化（１３０℃／３０分）させてクリアコートの乾燥膜の厚さを４０μｍとする。基材としては、ＡＣＴラボラトリー（ACT Laboratories, Inc, Southfield, Michigan 48 075, USA）から市販されているままの、電子コーテッドアルミニウムパネル（１０ｘ３０ｃｍ）を使用している。続いて、パネルをＸｅｎｏｎ−ＷＯＭ耐候性試験機（Atlas Corp）にSAE J 1960に従って曝露する。規定の時間間隔で２０°の光沢を記録する。試験結果を表１１にまとめてある：
【０２７０】
【表１１】
【０２７１】
実施例１６
実施例１５に記載と同様な実験を行うが、本発明のアミノエーテルを１．５％紫外線吸収剤１（TINUVIN（登録商標）384）（濃度はクリアコート配合物の固形物含量を基準にする）と組み合わせて試験する。結果を表１２にまとめてある：
【０２７２】
【化４２】
【０２７３】
【表１２】
【０２７４】
クリアコート配合
ａ）Viacryl SC 303：アクリル樹脂（Solutia、前Vianova Resins）（キシレン／ブタノール２６：９ ｗｔ／ｗｔ中に６５％溶液） ７．５１ｇ
ｂ）Viacryl SC 370：アクリル樹脂 （Solutia、前Vianova Resins）（Solvesso 100（芳香族炭化水素 ｂｐ．１６３〜１８０℃（Exxon Corp））中に７５％） ２３．３４ｇ
ｃ）Maprenal MF 650：メラミン樹脂（Solutia、前Vianova Resins）（イソブタノール中５５％） ２７．２９ｇ
ｄ）ブチルアカエテート／ブタノール（３７：８ｗｔ／ｗｔ） ４．３３ｇ
ｅ）イソブタノール ４．８７ｇ
ｆ）Solvesso 150：芳香族炭化水素 ｂｐ．１８０〜２０３℃（Exxon Corp） ２．７２ｇ
ｇ）Crystal oil 30：脂肪族炭化水素 ｂｐ．１４５〜２００℃（Shell Corp)８．７４ｇ
ｈ）Baysilone MA：レベリング剤（Bayer AG）（Solvesso 150中に１％） １．２０ｇ
全量 １００．００ｇ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、立体障害性アミンエーテル、例えばＮ−ヒドロカルビルオキシ置換立体障害性アミン化合物及びそれらの混合物を調製する方法であって、有機ヒドロペルオキシドの存在下で、対応するＮ−オキシル中間体と１−アルケンとを任意に更なる触媒と共に反応させて調製する方法、及びこの方法によって取得可能な数種の新規化合物の混合物に関する。また本発明は不飽和アミンエーテルを水素化する方法、及びこの方法によって取得可能な数種の新規化合物の混合物に関する。この方法によって製造される化合物は、光、酸素、及び／又は熱の有害な作用に対して重合体化合物を安定化することに、及び重合体用の難燃剤として特に有効である。
【０００２】
ＷＯ ０１／９２２２８には、アミンエーテル、例えばＮ−ヒドロカルビルオキシ置換立体障害性アミン化合物を調製する方法であって、対応するＮ−オキシル中間体と炭化水素とを有機ヒドロペルオキシド及び銅触媒の存在下で、反応させて調製する方法が記述されている。
【０００３】
ＷＯ ０３／０４５９１９には、アミンエーテル、例えばＮ−ヒドロカルビルオキシ置換立体障害性アミン化合物を調製する方法であって、対応するＮ−オキシル中間体と炭化水素とを有機ヒドロペルオキシド及びヨウ化物触媒の存在下で、反応させて調製する方法が記述されている。
【０００４】
Ｎ−アルカ−２−エニルオキシ置換立体障害性アミンエーテル及びそれらの混合物は、有機ヒドロペルオキシド及び任意の更なる触媒の存在下で、Ｎ−オキシル中間体と１−アルケンから最も適切に製造できることを今見出した。本発明の方法は、高い反応温度を要しない。対応するＮ−アルコキシ置換立体障害性アミンは、Ｎ−アルカ−２−エニルオキシ置換立体障害性アミンから水素化によって調製することができる。本発明方法によれば、一層純な生成物が得られる。得られた生成混合物が含有する異性体を少なくし得る。
【０００５】
したがって、本発明は、立体障害性アミンエーテルの調製方法であって、有機ヒドロペルオキシドの存在下で、対応する立体障害性アミンオキシドとＣ５〜Ｃ１８アルカ−１−エンとを反応させることを含む調製方法に関する。
【０００６】
更に本発明は、有機ヒドロペルオキシドの存在下で、対応する立体障害性アミンオキシドとＣ５〜Ｃ１８アルカ−１−エンとを反応させ、得られた立体障害性アミンエーテルを引き続き水素化する方法に関する。
【０００７】
本発明方法で好ましく使用される立体障害性アミンオキシドは、式（ＩＩ）の基を少なくとも１個含有する：
【０００８】
【化１２】
【０００９】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は、独立に炭素原子１〜４のアルキルであり、あるいはＧ１とＧ２及び／又はＧ３とＧ４が一緒になってテトラメチレン又はペンタメチレンである］
【００１０】
【化１３】
【００１１】
は、化学基の境界を特定しており、それ自体には化学的意味を持たない。
【００１２】
本発明方法で使用される立体障害性アミンオキシドは、式（ＩＩａ）の化合物であるのが有利である：
【００１３】
【化１４】
【００１４】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は式（ＩＩ）で定義した通りであり、
Ｅ１０は、非置換、あるいは−ＯＨ、＝Ｏにより、又は総炭素原子１〜５００を含有する１個又は２個の有機残基により置換された炭素原子である］。
【００１５】
本発明方法で取得される立体障害性アミンエーテルが、式（ＩＩＩ）の基を少なくとも１個含有するのが有利である：
【００１６】
【化１５】
【００１７】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は式（ＩＩ）で定義した通りであり、
ＥはＣ５〜Ｃ１８アルキル又はＣ５〜Ｃ１８アルカ−２−エニルである］。
【００１８】
置換基ＥとしてのＣ５〜Ｃ１８アルキルは、好ましくはラジカル：
【化１６】
【００１９】
（式中、Ｑ１は、Ｃ２〜Ｃ１５アルキルである）の混合物であり、
置換基ＥとしてのＣ５〜Ｃ１８アルカ−２−エニルは、好ましくはラジカル：
【００２０】
【化１７】
【００２１】
（式中、Ｑ１は、Ｃ２〜Ｃ１５アルキルである）の混合物である。
【００２２】
本発明の記載の関係で、Ｃ５〜Ｃ１８アルキルの語にはペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、及びオクタデシルの分枝状及び非分枝状の異性体が包含されており、ならびにＣ２〜Ｃ１５アルキルの語にはエチル並びにプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシルの分枝状及び非分枝状の異性体が包含される。
【００２３】
得られた立体障害性アミンエーテルは好ましくは式（ＩＩＩａ）の化合物である：
【００２４】
【化１８】
【００２５】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は式（ＩＩ）について定義した通りであり、
Ｅは式（ＩＩＩ）について定義した通りであり、
Ｅ１０は式（ＩＩａ）について定義した通りである］。
【００２６】
好ましくは、Ｇ１及びＧ３はメチル、Ｇ２及びＧ４は独立にメチル又はエチルである。
【００２７】
得られた立体障害性アミンエーテルは好ましくは式（Ａ）〜（Ｏ）の一種である：
【００２８】
【化１９】
【００２９】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は式（ＩＩ）について定義した通りであり、Ｅは式（ＩIＩ）について定義した通りであり、
ｍは０又は１であり、
Ｒ１は水素、ヒドロキシル、又はヒドロキシメチルであり、
Ｒ２は水素、炭素原子１〜１２のアルキル又は炭素原子２〜１２のアルケニルであり、
ｎは１〜４であり、
ｎが１である場合には、
Ｒ３は、水素、炭素原子１〜１８のアルキル、炭素原子４〜１８のアルコキシカルボニルアルキレンカルボニル、炭素原子２〜１８のアルケニル、グリシジル、２，３−ジヒドロキシプロピル、炭素原子３〜１２の２−ヒドロキシもしくは２−（ヒドロキシメチル）置換アルキルであって、アルキルが酸素によって中断されているもの、炭素原子２〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のカルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、炭素原子７〜１２を含有する脂環式カルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、あるいは炭素原子７〜１５を含有する芳香族酸のアシルラジカルであり、
ｎが２である場合には、
Ｒ３は、炭素原子２〜１８のアルキレン、炭素原子２〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のジカルボン酸又はジカルバミン酸の２価アシルラジカル、炭素原子７〜１２を含有する脂環式ジカルボン酸又はジカルバミン酸の２価アシルラジカル、あるいは炭素原子８〜１５を含有する芳香族ジカルボン酸の２価アシルラジカルであり、
ｎが３である場合には、
Ｒ３は、炭素原子６〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のジカルボン酸の３価アシルラジカル、あるいは炭素原子９〜１５を含有する芳香族トリカルボン酸の３価アシルラジカルであり、
ｎが４である場合には、
Ｒ３は、脂肪族もしくは不飽和脂肪族のテトラカルボン酸、特に１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸、１，２，３，４−ブタ−２−エンテトラカルボン酸、１，２，３，５−ペンタンテトラカルボン酸及び１，２，４，５−ペンタンテトラカルボン酸の４価アシルラジカル、あるいはＲ３は炭素原子１０〜１８を含有する芳香族テトラカルボン酸の４価アシルラジカルであり、
ｐは１〜３であり、
Ｒ４は、水素、炭素原子１〜１８のアルキル又は炭素原子２〜６のアシル又はフェニルであり、
ｐが１の場合には、
Ｒ５は、水素、フェニル、炭素原子１〜１８のアルキル、炭素原子２〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のカルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、炭素原子７〜１２を含有する脂環式カルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、又は炭素原子７〜１５を含有する芳香族カルボン酸のアシルラジカルであり、あるいはＲ４及びＲ５が一緒になって−（ＣＨ２）５ＣＯ−、フタロイル、又はマレイン酸の２価アシルラジカルであり、
ｐが２の場合には、
Ｒ５は、炭素原子２〜１２のアルキレン、炭素原子２〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のジカルボン酸又はジカルバミン酸の２価アシルラジカル、炭素原子７〜１２を含有する脂環式ジカルボン酸又はジカルバミン酸の２価アシルラジカル、あるいは炭素原子８〜１５を含有する芳香族ジカルボン酸の２価アシルラジカルであり、
ｐが３である場合には、
Ｒ５は、炭素原子６〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のトリカルボン酸の３価アシルラジカル、又は炭素原子９〜１５を含有する芳香族トリカルボン酸の３価アシルラジカルであり、
ｒは１〜４であり、
ｒが１の場合には、
Ｒ６は、炭素原子１〜１８のアルコキシ、炭素原子２〜１８のアルケニルオキシ、炭素原子１〜１８の−ＮＨアルキル又は炭素原子２〜３６の−Ｎ（アルキル）２であり、
ｒが２の場合には、
Ｒ６は、炭素原子２〜１８のアルキレンジオキシ、炭素原子２〜１８のアルケニレンジオキシ、炭素原子２〜１８の−ＮＨ−アルキレン−ＮＨ−又は炭素原子２〜１８の−Ｎ（アルキル）−アルキレン−Ｎ（アルキル）−であり、あるいはＲ６は４−メチル−１，３−フェニレンジアミノであり、
ｒが３の場合には、
Ｒ６は、炭素原子３〜１８を含有する飽和又は不飽和脂肪族トリオールの３価アルコキシラジカルであり、
ｒが４の場合には、
Ｒ６は、炭素原子４〜１８を含有する飽和又は不飽和脂肪族テトラオールの４価アルコキシラジカルであり、
Ｒ７及びＲ８は、独立に塩素、炭素原子１〜１８のアルコキシ、−Ｏ−Ｔ１、２−ヒドロキシエチルで置換されたアミノ、炭素原子１〜１８の−ＮＨ（アルキル）、炭素原子１〜１８のアルキルを有する−Ｎ（アルキル）Ｔ１、又は炭素原子２〜３６の−Ｎ（アルキル）２であり、
Ｒ９は酸素であり、あるいはＲ９は、水素、炭素原子１〜１２のアルキル又はＴ１のいずれかによって置換された窒素であり、
Ｔ１は
【００３０】
【化２０】
【００３１】
であり、
Ｒ１０は、水素又はメチルであり、
ｑは２〜８であり、
Ｒ１１及びＲ１２は独立に水素又は基Ｔ２であり、
Ｔ２は
【００３２】
【化２１】
【００３３】
であり、
Ｒ１３は、水素、フェニル、炭素原子１〜１２の直鎖もしくは分枝状のアルキル、炭素原子１〜１２のアルコキシ、フェニルにより置換された炭素原子１〜４の直鎖もしくは分枝状のアルキル、炭素原子５〜８のシクロアルキル、炭素原子５〜８のシクロアルケニル、炭素原子２〜１２のアルケニル、グリシジル、アリルオキシ、炭素原子１〜４の直鎖もしくは分枝状のヒドロキシアルキル、あるいは水素により、フェニルにより炭素原子１〜４のアルキルにより又は炭素原子１〜４のアルコキシにより独立に３回置換されたシリルもしくはシリルオキシであり、
Ｒ１４は、水素、あるいは水素により、フェニルにより、炭素原子１〜４のアルキルにより又は炭素原子１〜４のアルコキシにより独立に３回置換されたシリルであり、
ｄは０又は１であり、
ｈは０〜４であり、
ｋは０〜５であり、
ｘは３〜６であり、
ｙは１〜１０であり、
ｚは化合物の分子量が１０００〜４０００ａｍｕとなるような整数であり、例えばｚは３〜１０の範囲であってよく、
Ｒ１５は、モルホリノ、ピペリジノ、１−ピペリジニル、炭素原子１〜８のアルキルアミノ、特に炭素原子３〜８の分枝状のアルキルアミノ、例えばｔｅｒｔ−オクチルアミノ、炭素原子１〜８のアルキルを有する−Ｎ（アルキル）Ｔ１、又は炭素原子２〜１６の−Ｎ（アルキル）２であり、
Ｒ１６は、水素、炭素原子２〜４のアシル、炭素原子１〜４のアルキルにより置換されたカルバモイル、塩素により１回及びＲ１５により１回置換されたｓ−トリアジニル、あるいはＲ１５により２回置換されたｓ−トリアジニルであり、ただし２個のＲ１５置換基は異なりうるものであり、
Ｒ１７は、塩素；炭素原子１〜８のアルキルによりもしくはＴ１により置換されたアミノ、炭素原子１〜８のアルキルを有する−Ｎ（アルキル）Ｔ１、炭素原子２〜１６の−Ｎ（アルキル）２、又は基Ｔ３であり、
Ｔ３は
【００３４】
【化２２】
【００３５】
であり、
Ｒ１８は、水素、炭素原子２〜４のアシル、炭素原子１〜４のアルキルにより置換されたカルバモイル、炭素原子２〜１６の−Ｎ（アルキル）２により２回置換されたｓ−トリアジニル又は炭素原子１〜８のアルキルを有する−Ｎ（アルキル）Ｔ１により２回置換されたｓ−トリアジニルであり、
Ｒ３０は、水素、炭素原子１〜１８のアルキル、炭素原子４〜１８のアルコキシカルボニルアルキレンカルボニル、炭素原子２〜１８のアルケニル、グリシジル、２，３−ジヒドロキシプロピル、炭素原子３〜１２の２−ヒドロキシもしくは２−（ヒドロキシメチル）置換アルキルであって、アルキルが酸素によって中断されているもの、炭素原子２〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のカルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、炭素原子７〜１２を含有する脂環式カルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、あるいは炭素原子７〜１５を含有する芳香族酸のアシルラジカルである］。
【００３６】
上の式（Ａ）〜（Ｏ）の定義において、アルキルの語には例えばメチル、エチル並びにプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル及びドデシルの異性体が包含される。アルコキシの例は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、オクチルオキシ等がある。アルケニルの例は、ビニル、特にアリルがある。
【００３７】
シクロアルキルのいくつかの例は、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロペンチル、ジメチルシクロペンチル及びメチルシクロヘキシルである。
【００３８】
脂肪族カルボン酸のいくつかの例は、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ステアリン酸である。脂環式カルボン酸の例は、シクロヘキサン酸である。芳香族カルボン酸の例は安息香酸である。脂肪族ジカルボンの例は、マロニル、マレオイル、コハク酸、又はセバシン酸である。芳香族ジカルボン酸の残基の例はフタロイルである。
【００３９】
１価のシリルラジカルの例はトリメチルシリルである。
【００４０】
アリールの例はフェニル及びナフチルである。置換アリールの例は、メチル−、ジメチル−、トリメチル−、メトキシ−又はフェニル−置換フェニルである。
【００４１】
モノカルボン酸のアシルラジカルは、その定義域内で言えば、式−ＣＯ−Ｒ″の残基であり、ここでＲ″は、中でも、定義した通りのアルキル、アルケニル、シクロアルキル又はアリールのラジカルを表すことができる。好ましいアシルラジカルには、アセチル、ベンゾイル、アクリロイル、メタクリロイル、プロピオニル、ブチリル、バレロイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、ペンタデカノイル、ステアロイルが挙げられる。多価酸のポリアシルラジカルは、式（−ＣＯ）ｎ−Ｒ″のラジカルであり、ここでｎは価数、例えば２，３，４，５、又は６である。
【００４２】
Ｃ５〜Ｃ１８アルカ−１−エンは、非分枝アルケンであるのが有利である。
【００４３】
Ｃ５〜Ｃ１８アルカ−１−エンは、好ましくはＣ６〜Ｃ１２アルカ−１−エン、特にＣ６〜Ｃ８アルカ−１−エン、例えば１−オクテンである。
【００４４】
本発明のアルキル化プロセスは更なる触媒の存在下で行われるのが好ましい。
【００４５】
更なる触媒は、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ガリウム、ゲルマニウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、カドミウム、インジウム、錫、アンチモン、ランタン、セリウム、ハフニウム、タンタル、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金、金、水銀、タリウム、鉛、ビスマス；これらの化合物；置換及び非置換のヨウ化アンモニウム及びヨウ化ホスホニウムからなる群から選択されるのが好ましい。
【００４６】
また、更なる触媒は４級のアンモニウム又はホスホニウムのハロゲン化物、例えば塩化物又は臭化物であってもよい。アンモニウム又はホスホニウムカチオンの構造は、それ程重要なものではなく、通常、４級のアンモニウム又はホスホニウムカチオンには、中心の窒素原子又はリン原子に結合する４個の炭化水素残基、例えばアルキル、フェニルアルキル、又はフェニルの基であってよいものが含有されている。いく種かの容易に入手可能な物質には、テトラ−Ｃ１−Ｃ１２アルキル化されたものがある。
【００４７】
更なる触媒は、また、任意の他のヨウ化物化合物であってもよく、例えば有機及び無機のヨウ化物化合物を含む。例は、アルカリ金属又はアルカリ土属金属のヨウ化物、あるいはオニウムヨウ化物、例えばスルホニウムヨウ化物、特に４級スルホニウムヨウ化物が挙げられる。適切な金属ヨウ化物は、中でも、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム又はカルシウムのものである。
【００４８】
更なる触媒は、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、セリウム；これらのハロゲン化物及び酸化物；置換及び非置換のヨウ化アンモニウム及びヨウ化ホスホニウムからなる群から選択されるのが更に好ましい。
【００４９】
更なる触媒は、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅；これらのハロゲン化物；置換及び非置換のヨウ化アンモニウム及びヨウ化ホスホニウム、例えば置換及び非置換の４級ヨウ化アンモニウム又はヨウ化ホスホニウム、特にヨウ化テトラアルキルアンモニウム又はヨウ化テトラフェニルホスホニウム及びヨウ化トリフェニルアルキルホスホニウムからなる群から選択されるのが最も好ましい。
【００５０】
更なる触媒は有機又は無機の重合体主鎖に結合させ、触媒系を均一又は不均一にすることができる。
【００５１】
上記更なる触媒には、遷移金属の錯体化学において一般公知の陰イオンリガンド、例えば水素化物イオン（Ｈ−）あるいは無機酸又は有機酸から誘導した陰イオン、例えばハロゲン化物イオン、例えばＦ−、Ｃｌ−、Ｂｒ−、又はＩ−；ならびにＢＦ４−、ＰＦ６−、ＳｂＦ６−又はＡｓＦ６−型のフルオロ錯体；酸素酸、アルコラート又はアセチライドの陰イオン；あるいはシクロペンタジエン又は酸化物の陰イオンが含有されていてもよい。
【００５２】
酸素酸の陰イオンは、例えば、硫酸イオン、リン酸イオン、過塩素酸イオン、過臭素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、アンチモン酸イオン、ヒ酸イオン、硝酸イオン、炭酸イオン；Ｃ１〜Ｃ８カルボン酸の陰イオン、例えばギ酸イオン、酢酸イオン、プロピオン酸イオン、酪酸イオン、安息香酸イオン、フェニル酢酸イオン、モノ−、ジ−、又はトリクロロ−又はフルオロ酢酸イオン；スルホン酸イオン、例えばメチルスルホン酸イオン、エチルスルホン酸イオン、プロピルスルホン酸イオン、ブチルスルホン酸イオン、トリフルオロメチルスルホン酸イオン（トリフレート）；非置換又はＣ１〜Ｃ４アルキル−、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ−、もしくはハロ−、特にフルオロ−、クロロ−、もしくはブロモ−置換フェニルスルホン酸イオンもしくはベンジルスルホン酸イオン、例えばトシル酸イオン、メシル酸イオン、ブロシル酸イオン（brosylate）、ｐ−メトキシ−又はｐ−エトキシフェニルスルホン酸イオン、ペンタフルオロフェニルスルホン酸イオン、又は２，４，６−トリイソプロピルスルホン酸イオン；ホスホン酸イオン、例えばメチルホスホン酸イオン、エチルホスホン酸イオン、プロピルホスホン酸イオン、ブチルホスホン酸イオン、フェニルホスホン酸イオン、ｐ−メチルフェニルホスホン酸イオン、又はベンジルホスホン酸イオン；Ｃ１〜Ｃ８カルボン酸から誘導されたカルボン酸イオン、例えばギ酸イオン、酢酸イオン、プロピオン酸イオン、酪酸イオン、安息香酸イオン、フェニル酢酸イオン、モノ−、ジ−、もしくはトリクロロ−又はフルオロ酢酸イオン；さらにＣ１〜Ｃ１２アルコラート、例えば直鎖もしくは分枝状のＣ１〜Ｃ１２アルコラート、例えばメタノラート又はエタノラートである。また酸化物も可能である。
【００５３】
陰イオンリガンド及び中性リガンドは、また、更なる触媒の錯体陽イオンの好ましい配位数まで、特に４、５、又は６まで存在しても良い。追加の負電荷は、陽イオン、特に１価陽イオン、例えばＮａ＋、Ｋ＋、ＮＨ４＋又は（Ｃ１−Ｃ４アルキル）４Ｎ＋によって均衡化される。
【００５４】
上記更なる触媒にはまた、中性リガンド、例えば遷移金属の錯体化学において一般に公知の無機又は有機中性リガンドを含めてもよい。適切な無機リガンドは、アクオ（Ｈ２Ｏ）、アミノ、窒素、一酸化炭素、及びニトロキシルからなる群から選択される。適切な有機リガンドは、フォスフィン、例えば（Ｃ６Ｈ５）３Ｐ、（ｉ−Ｃ３Ｈ７）３Ｐ、（Ｃ５Ｈ９）３Ｐ又は（Ｃ６Ｈ１１）３Ｐ、ジ−、トリ−、テトラ−及びヒドロキシアミン、例えばエチレンジアミン、エチレンジアミノテトラアセテート（ＥＤＴＡ）、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ′，Ｎ′−ビス（２−ジメチルアミノエチル）−エチレンジアミン（Ｍｅ６ＴＲＥＮ）、カテコール、Ｎ，Ｎ′−ジメチル−１，２−ベンゼンジアミン、２−（メチルアミノ）フェノール、３−（メチルアミノ）−２−ブタノール、あるいはＮ、Ｎ′−ビス（１，１−ジメチルエチル）−１，２−エタンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ″，Ｎ″−ペンタメチルジエチルトリアミン（ＰＭＤＥＴＡ）、Ｃ１〜Ｃ８−グリコールもしくはグリセライド、例えばエチレンもしくはプロピレングリコール又はそれらの誘導体、例えばジ−、トリ−、もしくはテトラグリム（tetraglyme）、及び単座もしくは二座複素環状ｅ−供与リガンドからなる群から選択される。
【００５５】
更なる触媒には、複素環状ｅ−供与リガンドを更に含有させることができ、これらのリガンドは、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピリジン、ビス−ピリジン、ピコリルイミン、ｇ−ピラン、ｇ−チオピラン、フェナントロリン、ピリミジン、ビス−ピリミジン、ピラジン、インドール、クマロン、チオナフテン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ピラゾール、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、オキサゾール、チアゾール、ビス−チアゾール、イソオキサゾール、イソチアゾール、キノリン、ビス−キノリン、イソキノリン、ビス−イソキノリン、アクリジン、クロメン、フェナジン、フェノキサジン、フェノチアジン、トリアジン、チアントレン、プリン、ビス−イミダゾール及びビス−オキサゾールからなる群から選択した非置換又は置換ヘテロアレーンから誘導される。
【００５６】
立体障害性アミンオキシドはまた、例えば式（ＩＩ）の基を少なくとも１個有する化合物又は式（ＩＩａ）の化合物を含む本プロセスについてＮ−オキシル抽出物とも呼ばれ、当該分野では広く公知である；それらを調製するには、対応するＮ−Ｈ障害性アミンを適切な酸素供与体で酸化する、例えば対応するＮ−Ｈ障害性アミンを過酸化水素及びタングステン酸ナトリウム（E. G. Rozantsev et al., in Synthesis, 1971, 192に記載;）と、あるいはｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド及びモリブデン（Ｖｌ）（United States Patent No. 4,691,015に教示）と反応させ、あるいは類似の手段で得ることができる。
【００５７】
本方法についてＣ５−Ｃ１８アルカ−１−エンの好ましい量は、出発物質アミンオキシド中の反応性で障害のあるアミンであるニトロキシル部分の相対的な数に当然依存するのはもちろんである。反応が行われるためのＣ５−Ｃ１８アルカ−１−エンのモル比は、代表的にはニトロキシル部分の１モル当たり１〜１００モルであり、好ましくはニトロキシル部分の１モル当たり１〜５０モルであり、最も好ましくニトロキシル部分の１モル当たり１〜３０モルである。
【００５８】
有機ヒドロペルオキシドの好ましい量は、ニトロキシル部分の１モル当たり０．５〜２０モルであり、更に好ましい量はニトロキシル部分の１モル当たり０．５〜５モルであり、最も好ましい量はニトロキシル部分の１モル当たり０．５〜３モルである。
【００５９】
本発明で使用される有機ヒドロペルオキシドは、式Ｒ−ＯＯＨのものにすることができ、式中、Ｒは通常は炭素原子１〜１８、好ましくは３〜１８を含有する炭化水素である。Ｒは、脂肪族であるのが有利であり、例えばアルキル基、好ましくはＣ１〜Ｃ１２アルキルである。最も好ましくは、有機ヒドロペルオキシドは、ｔｅｒｔ−ブチル−ヒドロペルオキシド又はクミルヒドロペルオキシドである。
【００６０】
更なる触媒の好ましい量は、ニトロキシル部分１モル当たり約０．０００１〜０．５、特に約０．０００５〜０．１モル等量であり、更なる触媒の最も好ましい比は、ニトロキシル部分の１モル当たり０．００１〜０．０５モルである。
【００６１】
反応は、好ましくは０℃〜１００℃、更に好ましくは２０℃〜１００℃、特に２０〜８０℃の範囲で行う。
【００６２】
Ｃ５−Ｃ１８アルカ−１−エンは、反応物として及び反応の溶媒として二つの機能を果たしうる。また、反応は、また、不活性な有機性又は無機性の溶媒を用いて行うこともできる。
【００６３】
そのような溶媒は、特に更なる触媒がＣ５−Ｃ１８アルカ−１−エンにあまり易溶性でない場合に、使用してよい。代表的な不活性溶媒は、アセトニトリル、ベンゼンやクロロベンゼンのような芳香族炭化水素、ＣＣｌ４、アルコール（例えばメタノール、エタノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル）、又はヘキサン、デカン等のようなアルカン、あるいはこれらの混合物である。無機性溶媒、例えば水も同様に可能である。
【００６４】
本方法は空気中又は不活性雰囲気、例えば窒素やアルゴン中で行うことができる。本方法は大気圧下ならびに減圧又は高圧下で行うことができる。
【００６５】
本方法を変形した方法が数種ある。一つの変形では、Ｎ−オキシル障害性アミン、Ｃ５−Ｃ１８アルカ−１−エン、及び（必要であれば）溶媒、ならびに場合により更なる触媒の混合物を所望の反応温度にしてから有機ヒドロペルオキシド溶液を添加する。その適切な温度を維持するために、ペルオキシドの添加速度を制御し、及び／又は加熱浴もしくは冷却浴を使用する。ヒドロペルオキシドを添加した後、反応混合物を簡便に撹拌すると、出発物質アミンオキシドが消失したか又は所望の生成物、例えば式（Ａ）〜（Ｏ）の化合物への変換がもはや行われなくなる。反応は、当分野で公知の方法、例えばＵＶ−ＶＩＳ分光学、薄層クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー又は液体クロマトグラフィーによって監視することができる。触媒の追加分は反応の進行中に添加することができる。ヒドロペルオキシドの最初の投入量を反応混合物に添加した後、更にヒドロペルオキシドを滴下して反応を完結することができる。
【００６６】
本方法の第二の変形は、Ｃ５−Ｃ１８アルカ−１−エン、（必要であれば）溶媒及び場合により更なる触媒の混合物に、ヒドロペルオキシドの分離溶液とニトロキシル化合物を同時に添加する。ニトロキシル化合物は水又は反応で使用する溶媒、例えばアルコールに溶解してよい。ニトロキシル化合物のいくらかを反応混合物に投入してからペルオキシドの追加を開始してもよく、そしてニトロキシル化合物を全部添加してから、ペルオキシドの追加を完了すべきである。
【００６７】
本方法の別の変形では、ニトロキシル化合物、Ｃ５−Ｃ１８アルカ−１−エン、及び（必要であれば）溶媒の混合物に、ヒドロペルオキシドの分離溶液と、更なる触媒の水溶液又は溶媒溶液の分離溶液とを同時に添加する。更なる触媒のいくらかを反応混合物に投入してからペルオキシドの追加を開始してもよい。
【００６８】
本方法の更なる変形では、Ｃ５−Ｃ１８アルカ−１−エン及び（必要であれば）溶媒に、ヒドロペルオキシドの分離溶液、ニトロキシル化合物の水溶液もしくは溶媒溶液の分離溶液、及び更なる触媒の水溶液もしくは溶媒溶液の分離溶液を同時に添加する。ニトロキシル化合物の一部及び／又は触媒を反応混合物に投入してからヒドロペルオキシドの追加を開始してよい。ニトロキシル化合物を全部添加してから、ヒドロペルオキシドの追加を完了すべきである。
【００６９】
反応が終了したら、残余のヒドロペルオキシドを注意深く分解してから、全ての生成物を単離するのがよい。
【００７０】
また、本発明は、有機ヒドロペルオキシドの存在下で、対応する立体障害性アミンオキシドとＣ５−Ｃ１８アルカ−１−エンとを反応させ、得られた立体障害性アミンエーテルを引き続き水素化する方法にも関する。水素化を行うにあたって、中間体を早々に単離しなくても、洗浄して（過剰の）ペルオキシドを分解しなくても、また溶媒を変更して過剰のオレフィンを一緒に水素化しなくてもよい。
【００７１】
水素化は水素化触媒の存在下で行うのが有利である。
【００７２】
水素化触媒は、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、リンドラー触媒、白金化合物、パラジウム化合物、ルテニウム化合物、ロジウム化合物、イリジウム化合物、ニッケル化合物、亜鉛化合物及びコバルト化合物からなる群から選択されるのが好ましい。
【００７３】
水素化触媒は、有機又は無機の重合体主鎖に結合させることによって、触媒系を均一あるいは不均一にすることができる。また、水素化は、転移水素化（例えばS Murashi et al., Chem. Rev. (1998), 98, 2599-2660に記載）として、あるいは更なる水素化方法、例えばLarock, 「包括的有機変換（comprehensive organic transformations）」に記載されるようにして行うこともできる。
【００７４】
水素化触媒は、白金、パラジウム、ルテニウム、白金化合物、パラジウム化合物及びルテニウム化合物からなる群から選択されるのが更に好ましい。
【００７５】
水素化触媒は、白金、パラジウム及びルテニウム；炭素に固定された白金、パラジウム及びルテニウム；ＰｔＯ２、Ｐｄ−ＣａＣＯ３−ＰｂＯ、ＲｕＣｌＨ［ＰＰｈ３］３、ＲｈＣｌ［ＰＰｈ３］３及びＲｕＨ２［Ｐ（Ｐｈ）３］４からなる群から選択されるのが最も好ましい。
【００７６】
水素化触媒の好ましい量は、不飽和アミンエーテル部分の１モル当たり０．０００１〜０．２モルである。水素化反応は、好ましくは０℃〜８０℃、特に２０〜６０℃の範囲で行う。水素圧は、好ましくは１〜２０気圧である。
【００７７】
立体障害性アミンエーテルの調製方法は、有機ヒドロペルオキシドの存在下で、対応する立体障害性アミンオキシドとＣ５〜Ｃ１８アルカ−１−エンとを反応させ及び場合によりその反応生成物を水素化することを含み、その結果、立体障害性アミンエーテルの混合物が得られる。したがって、本発明は以下に規定される立体障害性アミンエーテルの混合物にも関する。
【００７８】
例えば、本発明の第一の混合物は式（Ｚａ）である：
【００７９】
【化２３】
【００８０】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は式（ＩＩ）について定義した通りであり、
Ｅ１０は、式（ＩＩａ）について定義した通りであり、
Ｅ１は、ラジカル
【００８１】
【化２４】
【００８２】
（式中、Ｑ１はＣ２〜Ｃ１５アルキルである）の混合物であり、
ただし、立体障害性アミンエーテルの混合物は、式（１００）及び（１０１）の化合物：
【００８３】
【化２５】
【００８４】
の混合物ではない］。
例えばＱ１はＣ３〜Ｃ１５アルキルである。
【００８５】
例えば、Ｅ１０は、−ＯＨ、＝Ｏにより、又は総炭素原子１〜５００を含有する１個又は２個の有機残基により置換された炭素原子であり、特にＥ１０は、＝Ｏにより又は総炭素原子１〜５００を含有する１個又は２個の有機残基により置換された炭素原子である。
【００８６】
好ましくは、このような混合物は、式（Ａ）〜（Ｏ）によって表され、各ＥがＥ１に置き換えられている。
【００８７】
最も好ましくは、このような混合物は、式（Ｃ）によって表され、各ＥがＥ１に置き換えられている。
【００８８】
更に興味があるのは、本発明の第一の混合物が式（Ｚａ）の基を含有する化合物からなることである。
【００８９】
本発明の第二の混合物は、式（Ｙ）の基を少なくとも１個含有する：
【００９０】
【化２６】
【００９１】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は式（ＩＩ）について定義した通りであり、
Ｅ２は、ラジカル：
【００９２】
【化２７】
【００９３】
（式中、Ｑ１はＣ２〜Ｃ１５アルキルである）の混合物である］。
【００９４】
このような混合物は式（Ｙａ）であれば有利である：
【００９５】
【化２８】
【００９６】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は、式（ＩＩ）について定義した通りであり、
Ｅ１０は、式（ＩＩａ）について定義した通りであり、Ｅ２は式（Ｙ）について定義した通りである］。
【００９７】
好ましくは、このような混合物は、式（Ａ）〜（Ｏ）によって表され、各ＥがＥ２に置き換えられている。
【００９８】
最も好ましくは、このような混合物は、式（Ｃ）によって表され、各ＥがＥ２に置き換えられている。
【００９９】
更に興味があるのは、本発明の第二の混合物が式（Ｙ）の基を含有する化合物からなることである。
【０１００】
立体障害性アミンエーテルの好ましい混合物においては、Ｅ１ａ：Ｅ１ｂの比及びＥ２ａ：Ｅ２ｂの比がそれぞれ独立に１：９〜７：３であり、特に１：４〜３：２であり、例えば３：７〜１：１であり、最も好ましくは７：１３〜９：１１である。
【０１０１】
アミンエーテル部分を１個より多く含有する分子について、基Ｅ１ａとＥ１ｂ及び独立にＥ２ａとＥ２ｂは分子中に統計学的に分布している。本発明混合物におけるＥ１ａ：Ｅ１ｂの比及びＥ２ａ：Ｅ２ｂの比は、それぞれ１分子当たりのアミンエーテル基の数とは無関係である。
【０１０２】
本発明の別の態様は、
（ｉ）有機ヒドロペルオキシドの存在下で、立体障害性アミンオキシドとＣ５−Ｃ１８アルカ−１−エンとを反応させることを含む調製方法によって得られる混合物並びに
（ｉｉ）（ｉ）の混合物を水素化する工程によって得られる混合物、
である。
【０１０３】
本発明方法から得られる混合物は全て、単一のアミンエーテル成分に分離弁別してもよく、単一のアミンエーテル成分は、従来方法、例えばクロマトグラフィー、蒸留、沈殿、又は分別再結晶によってもたらすことができる。しかし、実用目的からすると、分離の必要はなく、むしろ混合物は分離せずに使用するのが有利でさえある。
【０１０４】
したがって、本発明の別の態様は、光、酸素、及び／又は熱による分解に対する有機材料の安定化剤として、あるいは有機材料の難燃化剤として本発明混合物を使用すること、ならびに光、酸素、及び又は熱による分解に対して有機材料を難燃化し又は有機材料を安定化する方法であって、式（Ｙ）の基を少なくとも１個含有する立体障害性アミンエーテルの混合物又は式（Ｚａ）の立体障害性アミンエーテルの混合物を有機材料に適用するか又は該材料中に組み込むことを含む方法である。
【０１０５】
更に本発明は、
Ａ）酸化的、熱的及び／又は化学的分解に感応性の有機材料、ならびに
Ｂ）式（Ｙ）の基を少なくとも１個含有する立体障害性アミンエーテルの混合物の少なくとも１種又は式（Ｚａ）の立体障害性アミンエーテルの混合物の少なくとも１種、
を含む組成物に関する。
【０１０６】
光、酸素、及び／又は熱の損傷作用に対して、あるいは火炎に対して保護すべき有機材料は、特に有機性重合体、好ましくは合成有機性重合体である。本発明の立体障害性アミンエーテルの混合物は、組み込み又は適用した材料において高い熱的安定性、相容性及び良好な耐性を発揮する。
【０１０７】
上記の方法で保護可能な重合体の例は次のごとくである。
【０１０８】
１． モノオレフィン及びジオレフィンの重合体、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブタ−１−エン、ポリ−４−メチルペンタ−１−エン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、ならびにシクロオレフィン重合体、例えばシクロペンテンやノルボルネン、（場合により架橋できる）ポリエチレン、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度及び高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度及び超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、直鎖低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）。
【０１０９】
ポリオレフィン、すなわち、前段落で例示したモノオレフィンの重合体、好ましくはポリエチレン及びポリプロピレンは種々の方法で、特に次の方法で調製することができる。
【０１１０】
ａ）ラジカル重合（通常は高温高圧下で）
ｂ）触媒重合；使用する触媒は、通常は周期律表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ、又はＶＩＩＩ族の１種以上の金属を含有する。これらの金属は、通常は１以上のリガンドを含み、代表的にはオキシド、ハライド、アルコラート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル、及び／又はアリールがあり、これらはπ結合又はσ結合のいずれかをしていてよい。これらの金属錯体は遊離の形態でも、あるいは基材上、代表的には活性化された塩化マグネシウム、塩化チタン（ＩＩＩ）、アルミナ、又は酸化ケイ素上に固定化されていてもよい。これらの触媒は重合用媒質に可溶性であっても不溶性であってもよい。重合に際しこれらの触媒はそれら自体で使用可能であるが、あるいは更に活性化剤を使用してもよく、代表的には金属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシドあるいは金属アルキルオキサンがあり、該金属は周期律表のＩａ、ＩＩａ、及び／又はＩＩＩａ族の元素である。これら活性化剤は更にエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で簡便に修飾してもよい。これらの触媒系は、一般にPhillips、Standard Oil Indiana、Ziegler（-Natta）、TNZ（Du Pont）、メタロセン又はシングルサイト触媒（SSC）とよばれる。
【０１１１】
２． １）で述べた重合体の混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）及び種々のタイプのポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【０１１２】
３． モノオレフィンとジオレフィンとの相互共重合体又は更に他のビニルモノマーとの共重合体、例えば、エチレン／プロピレン共重合体、直鎖低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びそれと低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブタ−１−エン共重合体、プロピレン／イソブチレン共重合体、エチレン／ブタ−１−エン共重合体、エチレン／ヘキセン共重合体、エチレン／メチルペンテン共重合体、エチレン／ヘプテン共重合体、エチレン／オクテン共重合体、プロピレン／ブタジエン共重合体、イソブチレン／イソプレン共重合体、エチレン／アルキルアクリレート共重合体、エチレン／アルキルメタクリレート共重合体、エチレン／ビニルアセテート共重合体ならびにこれらの一酸化炭素との共重合体又はエチレン／アクリル酸共重合体及びそれらの塩（イオノマー）ならびにエチレンと、プロピレン及びジエン、例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンもしくはエチリデン−ノルボルネンとの三元重合体ならびにこれら共重合体と互いとの及び上記１）で述べた複数の重合体との混合物、例えば、ポリプロピレン／エチレン−プロピレン共重合体、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニルアセテート共重合体（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸共重合体（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ、及び交互又はランダムなポリアルキレン／一酸化炭素共重合体ならびにこれらと他の重合体、例えばポリアミドとの混合物。
【０１１３】
４． 炭化水素樹脂（例えばＣ５−Ｃ９）。それらの水素化修飾体（例えば粘着剤）及びポリアルキレンとデンプンの混合物を含む。
【０１１４】
５． ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。
【０１１５】
６． スチレン又はα−メチルスチレンとジエン又はアクリル誘導体との共重合体、例えば、スチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；高衝撃性スチレン共重合体と別の重合体、例えばポリアクリレート、ジエン重合体又はエチレン／プロピレン／ジエン三元共重合体との混合物；ならびにスチレンのブロック共重合体、例えばスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレン。
【０１１６】
７． スチレン又はα−メチルスチレンのグラフト共重合体、例えば、ポリブタジエン上にスチレン、ポリブタジエン−スチレン又はポリブタジエン−アクリロニトリル共重合体上にスチレン；ポリブタジエン上にスチレン及びアクリロニトリル（又はメタクリロニトリル）；ポリブタジエン上にスチレン、アクリロニトリル及びメチルメタクリレート；ポリブタジエン上にスチレン及び無水マレイン酸；ポリブタジエン上にスチレン、アクリロニトリル及び無水マレイン酸又はマレイミド；ポリブタジエン上にスチレン及びマレイミド；ポリブタジエン上にスチレン及びアルキルアクリレート又はメタクリレート；エチレン／プロピレン／ジエン三元共重合体上にスチレン及びアクリロニトリル；ポリアルキルアクリレート又はポリアルキルメタクリレート上にスチレン及びアクリロニトリル；アクリレート／ブタジエン共重合体上にスチレン及びアクリロニトリル、ならびにこれらと６）で挙げた共重合体との混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡ、又はＡＥＳ重合体として公知の共重合体混合物。
【０１１７】
８． ハロゲン含有重合体、例えば、ポリクロロプレン、塩素化ゴム、塩素化及び臭素化したイソブチレン−イソプレン共重合体（ハロブチルラバー）、塩素化又はスルフォ塩素化したポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンとの共重合体、エピクロロヒドリンホモ−及び共重合体、特にハロゲン含有ビニル化合物の重合体、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ならびにこれらの共重合体、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／ビニルアセテート又は塩化ビニリデン／ビニルアセテート共重合体。
【０１１８】
９． α，β−不飽和酸から誘導された重合体及びそれらの誘導体、例えば、ポリアクリレート及びポリメタクリレート；ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド、及びブチルアクリレートで耐衝撃性改変したポリアクリロニトリル。
【０１１９】
１０． ９）で述べたモノマーのモノマー同士の共重合体又は他の不飽和モノマーとの共重合体、例えばアクリロニトリル／ブタジエン共重合体、アクリロニトリル／アルキルアクリレート共重合体、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレート共重合体又はアクリロニトリル／ビニルハライド共重合体又はアクリロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエン三元重合体。
【０１２０】
１１． 不飽和のアルコール及びアミン又はこれらのアシル誘導体又はアセタールから誘導した重合体、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレアート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン、ならびにこれらと１）で述べたオレフィンとの共重合体。
【０１２１】
１２． 環状エーテルの単独重合体及び共重合体、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、又はビスグリシジルエーテルとこれらとの共重合体。
【０１２２】
１３． ポリアセタール、例えば、ポリオキシメチレン及び共単量体としてエチレンオキシドを含有するそれらのポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレート、又はＭＢＳで修飾したポリアセタール。
【０１２３】
１４． ポリフェニレンオキシド及びサルファイド、ならびにポリフェニレンオキシドとスチレン重合体又はポリアミドとの混合物。
【０１２４】
１５． 一端にヒドロキシ末端ポリエーテル、ポリエステル又はポリブタジエン、他端に脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートから誘導されたポリウレタン、ならびにこれらの前駆体。
【０１２５】
１６． ジアミンとジカルボン酸から及び／又はアミノカルボン酸もしくはその対応するラクタムから誘導されたポリアミド及び共ポリアミド、例えば、ポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン及びアジピン酸から出発する芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミン及びイソフタル酸及び／又はテレフタル酸から修飾剤としてのエラストマーの共存又は不共存で調製したポリアミド、例えば、ポリ−２，４，４、−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミドもしくはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド、さらに前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィン共重合体、イオノマー又は化学結合したもしくはグラフト結合したエラストマーとのブロック共重合体；ポリエーテルとの、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールもしくはポリテトラメチレングリコールとのブロック共重合体；ならびにＥＰＤＭもしくはＡＢＳで修飾したポリアミドもしくは共ポリアミド、及び製造中に縮合したポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
【０１２６】
１７． ポリウレア、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントイン及びポリベンゾイミダゾール。
【０１２７】
１８． ジカルボン酸とジオールとから及び／又はヒドロキシカルボン酸もしくは対応するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート及びポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシ末端ポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル；さらにポリカルボネート又はＭＢＳで修飾されたポリエステル。
【０１２８】
１９． ポリカルボネート及びポリエステルカルボネート。
【０１２９】
２０． ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン及びポリエーテルケトン。
【０１３０】
２１． 一端にアルデヒド、他端にフェノール、ウレア及びメラミンから誘導された架橋重合体、例えば、フェノール／ホルムアルデヒド樹脂、ウレア／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
【０１３１】
２２． 乾燥用及び非乾燥用アルキド樹脂。
【０１３２】
２３． 飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコール及び架橋剤としてのビニル化合物との共ポリエステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂、並びにまたそれの難燃性ハロゲン含有修飾体。
【０１３３】
２４． 飽和アクリレートから誘導された架橋可能アクリル樹脂、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート又はポリエステルアクリレート。
【０１３４】
２５． メラミン樹脂、ウレア樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネート又はエポキシ樹脂で架橋したアルキド樹脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。
【０１３５】
２６． 脂肪族、脂環式、複素環式、又は芳香族グリシジル化合物から誘導した架橋エポキシ樹脂、例えば、ビスフェノールＡ及びビスフェノールＦのジグリシジルエーテル生成物であって、常用の硬化剤、例えば無水物又はアミンで促進剤の共存又は不共存にて架橋した生成物。
【０１３６】
２７． 上記重合体のブレンド物（ポリブレンド）、例えば、ＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリ−アミド／ＥＰＤＭもしくはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６ならびに共重合体、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳ又はＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【０１３７】
特に興味があるのは、本発明の立体障害性アミンエーテルの使用であって、好ましくは、Ｅを式（Ｚａ）について定義した通りのＥ１又は式（Ｙ）について定義した通りのＥ２に置き換えた式（Ａ）〜（Ｏ）の立体障害性アミンエーテルの混合物を、合成有機重合体、例えばコーティング用重合体もしくはバルク重合体又はそれらから形成した物品、特に熱可塑性重合体及び対応する組成物ならびにコーティング用組成物、例えば酸又は金属で触媒されたコーティング用組成物中での安定化剤としての使用である。本発明組成物で最も重要な熱可塑性重合体は、ポリオレフィン（ＴＰＯ）とそれらの共重合体、例えば上の１〜３項で挙げたもの、熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）、ポリカーボネート、例えば上の１９項で挙げたもの、及びブレンド、例えば上の２７項で挙げたものである。最高に重要なのはポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、及びポリカーボネートブレンド、例えばＰＣ／ＡＢＳブレンドである。
【０１３８】
一般に、本発明の立体障害性アミンエーテルの混合物を安定化すべき材料に添加する量は、（安定化すべき材料に基づいて）０．０１〜１０％、好ましくは０．０１〜５％、特に０．０１〜２％である。新規な立体障害性アミンエーテルの混合物の使用は、０．０５〜１．５％、特に０．１〜０．５％の量が特に好ましい。本発明の立体障害性アミンエーテルの混合物を難燃化剤として使用する場合には、用量は通常高めであり、例えば、安定化しかつ燃焼防止すべき有機材料の０．１〜２５重量％、主として０．１〜１０重量％である。
【０１３９】
材料中への組込みは、例えば、当分野で常用の方法により、立体障害性アミンエーテルの混合物及び所望により追加の添加物を混入又は適用することによって実施できる。重合体、特に合成重合体を使用する場合には、組込みは、成形操作前又はその過程で行うことができ、あるいは化合物を溶解又は分散して重合体に適用し、続いて溶媒を気化して又は気化せずに行うことができる。エラストマーの場合には、これらは、また、ラテックスの形でも安定化することができる。また、重合体へ立体障害性アミンエーテルの混合物を組み込むための更なる可能性は、対応する単量体を重合する前に、間に又は直後に、あるいは架橋する前にそれらを添加することである。この関係で、立体障害性アミンエーテルの混合物は、そのままで、又は他に、（例えばワックス、油又はポリマー中に）カプセル化した形態で添加することができる。
【０１４０】
立体障害性アミンエーテルの混合物は、該化合物を含有するマスターバッチの形態で、例えば安定化すべき重合体に２．５〜２５重量％の濃度にて添加することもできる。
【０１４１】
立体障害性アミンエーテルの混合物は、次の方法で慎重に組み込むすることができる。
− （例えば、ラテックス又は乳化ポリマーに）乳化液又は分散液として、
− 追加の成分又は重合体混合物を混入する過程で乾燥混合物として、
− 加工装置（例えば、押出機、内部ミキサー等）中に直接導入することによって、
− 溶液又は溶融体として。
【０１４２】
新規重合体組成物は、種々の形態で使用することができ及び／又は種々の製品、例えばフィルム、繊維、テープ、成形用組成物、異形材を得るために、又は材料被覆用結合剤、接着剤あるいはパテとして加工できる。
【０１４３】
例えば、本組成物は成分Ｃとして更なる添加剤を含有する。
【０１４４】
例えば、さらに別の添加物には、抗酸化剤、ＵＶ吸収剤、光安定化剤、金属脱活性化剤、ホスファイト、ホスホナイト、ヒドロキシルアミン、ニトロン、チオ相乗剤、過酸化物捕捉剤、塩基性補助安定剤、核形成剤、充填剤、補強剤、ベンゾフラノン、インドリノン及び／又は防炎剤がある。
【０１４５】
立体障害性アミンエーテルの混合物の他に、新規組成物には追加成分Ｃとして一種以上の従来添加物、例えば以下に示すものを含有してもよい。
【０１４６】
１． 抗酸化剤
【０１４７】
１．１． アルキル化モノフェノール、例えば２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−ジ−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、側鎖が直鎖もしくは分枝状のノニルフェノール、例えば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチルウンデカ−１′−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチルヘプタデカ−１′−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチルトリデカ−１′−イル）フェノール、ならびにこれらの混合物。
【０１４８】
１．２． アルキルチオメチルフェノール、例えば２，４−ジオクチルチオメチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【０１４９】
１．３． ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、例えば２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【０１５０】
１．４． トコフェロール、例えばα−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びこれらの混合物（ビタミンＥ）
【０１５１】
１．５． ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば２，２′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オクチルフェノール）、４、４′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′−チオビス（３，６−ジ−ｓｅｃ−アミルフェノール）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【０１５２】
１．６． アルキリデンビスフェノール、例えば２，２′−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２′−エチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２′−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４′−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４′−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル−フェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチル−フェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【０１５３】
１．７． Ｏ−、Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物、例えば３，５，３′，５′−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルファイド、イソオクチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【０１５４】
１．８． ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば、ジオクタデシル−２，２−ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【０１５５】
１．９． 芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン，１，４−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【０１５６】
１．１０． トリアジン化合物、例えば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【０１５７】
１．１１． ベンジルホスホネート、例えば、ジメチル−２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート；３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【０１５８】
１．１２ アシルアミノフェノール、例えば、４−ヒドロキシラウルアニリド、４−ヒドロキシステアルアニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
【０１５９】
１．１３． β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１６０】
１．１４． β−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロール−プロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１６１】
１．１５． β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロール−プロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１６２】
１．１６ ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と一価又は多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロール−プロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１６３】
１．１７． β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ビス［２−（３−［３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（Naugard（登録商標）XL-1提供Uniroyal）
【０１６４】
１．１８． アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【０１６５】
１．１９． アミン系抗酸化剤、例えば、Ｎ．Ｎ′−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−エチル−３−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ．Ｎ′−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロ−ヘキシル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ′−ジメチル−Ｎ，Ｎ′−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルビフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えば、ｐ．ｐ′−ジ−ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４′−ジアミノジフェニルメタン、４，４′−ジアミノフェニルメタン、Ｎ．Ｎ．Ｎ′．Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１′，３′−ジメチルブチル）フェニル］アミン、ｔｅｒｔ−オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン；モノ−及びジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−及びジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−及びジアルキル化ｔｅｒｔ−オクチル−フェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−１，４−ジアミノブタ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリド−４−イル−ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリド−４−イル）−セバケート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール。
【０１６６】
２．紫外線吸収剤及び光安定化剤
【０１６７】
２．１． ２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、例えば、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｓｅｃ−ブチル−５′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−４′−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′−ビス−（α，α−ジメチルベンジル）−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−２′−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−オクチルオキシ−カルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−「２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ドデシル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２′−メチレン−ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−「３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）−２′−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；
【０１６８】
【化２９】
【０１６９】
［式中、Ｒは３′−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−ヒドロキシ−５′−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニルである］、２−［２′−ヒドロキシ−３′−（α，α−ジメチルベンジル）−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］ベンゾトリアゾール；２−［２′−ヒドロキシ−３′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５′−（α，α−ジメチルベンジル）−フェニル］ベンゾトリアゾールである］。
【０１７０】
２．２． ２−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２′，４−トリヒドロキシ及び２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。
【０１７１】
２．３． 置換及び非置換安息香酸のエステル、例えば、４−ｔｅｒｔブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【０１７２】
２．４． アクリレート、例えば、エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート及びＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
【０１７３】
２．５． ニッケル化合物、例えば、追加のリガンド、例えばｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン又はＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンの有無で、２，２′−チオ−ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、例えば、１：１もしくは１：２錯体；ニッケルジブチルジチオカルバメート；追加のリガンドの有無で、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエステル、例えばメチル又はエチルエステルのニッケル塩；ケトオキシム、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトオキシムのニッケル錯体，１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【０１７４】
２．６． 更に立体障害性アミン、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合体、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−ｔｅｒｔ−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの直鎖又は環状縮合体、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、１，１′−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアロイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート；Ｎ、Ｎ′−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの直鎖又は環状縮合体、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合体、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合体、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−及び４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合体、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン及び４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（CAS Reg. No.［136504-96-6］）との縮合生成物；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４，５］デカン；７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４，５］デカンとエピクロロヒドリンの反応生成物；１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ′−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシ−メチレン−マロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィン共重合体と２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジン又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物、２，４−ビス［Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ−ブチルアミノ］−６−（２−ヒドロキシエチル）アミノ−１，３，５−トリアジン。
【０１７５】
２．７． オキサミド、例えば、４，４′−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジエトキシオキサニリド、２，２′−ジオクチルオキシ−５，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド、２，２′−ジドデシルオキシ−５，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド、２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、Ｎ．Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−エトキシアニリド及びこれと２−エトキシ−２′−エチル−５，４′−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−ジ置換オキサニリドの混合物並びにｏ−及びp−エトキシ−ジ置換オキサニリドの混合物。
【０１７６】
２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス−（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ/トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプポキシ）−２−ヒドロキシ−フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−{２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル}−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−{２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニル−エトキシ］フェニル}−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン、ここでオクチル部分は異なる異性体の混合である。
【０１７７】
３． 金属脱活性化剤、例えば、Ｎ，Ｎ′−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラール−Ｎ′−サリチロールヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【０１７８】
４． ホスファイト及びホスホナイト、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、トリ（ノニルフェニル）ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジホスファイト、ジイソデシルオキシペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−トリス（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２Ｈ−ジ−ベンズ「ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスファイト、２，２′，２″−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３′，５，５′−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１′−ビフェニル−２，２′−ジイル）ホスファイト］、２−エチルヘキシル（３，３′，５，５′−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１′−ビフェニル−２，２′−ジ−イル）ホスファイト。
【０１７９】
次のホスファイトが特に好ましい。
【０１８０】
トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（lrgafos（登録商標）168，Ciba-Geigy）、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、
【０１８１】
【化３０】
【０１８２】
５． ヒドロキシルアミン、例えば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化した獣脂アミンから誘導したＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【０１８３】
６． ニトロン、例えば、Ｎ−ベンジル−α−フェニル−ニトロン、Ｎ−エチル−α−メチル−ニトロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチル−ニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシル−ニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタジエシル−ニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、水素化した獣脂アミンから誘導したＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導したニトロン。
【０１８４】
７． チオ協働剤、例えば、ジラウリルチオジプロピオネートやジステアリルチオジプロピオネート。
【０１８５】
８． 過酸化物捕捉剤、例えば、β−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、そのラウリル、ステアリル、ミリスチル、又はトリデシルエステル、メルカプトベンゾイミダゾール又は２−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミド酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリスリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【０１８６】
９． ポリアミド安定化剤、例えば、ヨウ化物及び／又はリン化合物と組み合わせた銅塩、及び二価マンガンの塩。
【０１８７】
１０． 塩基性安定化補助剤、例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えば、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウム、及びパルミチン酸カリウム、ピロカテコール酸アンチモンもしくはピロカテコール酸亜鉛。
【０１８８】
１１． 核形成剤、例えば、無機物質、例えばタルカム、金属酸化物、例えば二酸化チタン、又は酸化マグネシウム、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩又は硫酸塩；有機化合物、例えばモノ−又はポリカルボン酸及びそれらの塩、例えば４−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム、又は安息香酸ナトリウム、重合体化合物、例えばイオン性共重合体（イオノマー）。
【０１８９】
１２． 充填剤及び強化剤、例えば、炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、ガラスバルブ、アスベスト、タルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉及び他の自然物の粉もしくは繊維、合成繊維。
【０１９０】
１３． 他の添加剤、例えば、可塑剤、滑沢剤、乳化剤、顔料、粘弾性添加剤、触媒、流動制御剤、光沢剤、難燃剤、静電防止剤及び噴出剤。
【０１９１】
１４． ベンゾフラノン及びインドリノン、例えば、U.S. 4,325,863、U.S.4,338,244、U.S. 5,175,312、U.S. 5,216,052、U.S. 5,252,643、DE-A-4316611、DE-A-4316622、DE-A-4316876、EP-A-0589839又はEP-A-0591102に開示されたもの又は３−［４−（２−アセトキシエトキシ）−フェニル］−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンンゾフラン−２−オン、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラン−２−オン、３，３′−ビス［５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラン−２−オン］、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラン−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（２，３−ジ−メチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゾフラン−２−オン。
【０１９２】
従来添加剤の使用量は、安定化すべき材料を基準にして０．１〜１０重量％、例えば０．２〜５重量％が望ましい。
【０１９３】
以下の実施例は、単なる例示目的であって、本発明をいささかも限定すると解釈すべきでない。挙げるパーセンテージは、特に指示しない限り、通常は重量パーセントである。
【０１９４】
使用した略語：
Ｂｕ ブチル
ＤＥＰＴ 分極移動による歪のない増強
ＤＳＣ 示差走査熱量測定
ＨＳＱＣ 異核間一量子コヒーレンス
ＮＭＲ 核磁気共鳴
ＴＥＭＰＯ ２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシド
【０１９５】
ニトロキシドを１−オクテンでカップリングした後水素化した対ニトロキシドをオクタンでカップリング（実施例１〜７）
【０１９６】
実施例１
Ｏ−オクテニル立体障害性アミンエーテルを、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ／ＣｕＢｒ２触媒系を用いて、対応するニトロキシドと１−ｎ−オクテンとから調製。
【０１９７】
【化３１】
【０１９８】
７ｇ（４５mmol）のＴＥＭＰＯ、５２．１ｇ（４５０mmol）の１−ｎ−オクテン及び０．１ｇ（０．４５mmol）のＣｕＢｒ２の撹拌混合物に、１７．４ｇ（１３５mmol）のｔｅｒｔ−ブチル−ヒドロペルオキシド（７０％水溶液）を６０℃で６０分以内に加える。無色の反応混合物を２５℃に冷却し、過剰のｔｅｒｔ−ブチル−ヒドロペルオキシドが消失するまで、８５ｇの２０％Ｎａ２ＳＯ３水溶液と共に撹拌する。次に水性相を分離し、シクロヘキサンで洗浄する。一緒にされている有機相をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレータで溶媒を留去する。フラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル９／１）により精製すると、２，２，６，６−テトラメチル−１−ｎ−オクタ−２−エニルオキシ−ピペリジン（約４０mol％ １Ｈ−ＮＭＲによる）及び２，２，６，６−テトラメチル−１−（１−ビニル−ｎ−ヘキシルオキシ）−ピペリジン（約６０mol％ １Ｈ−ＮＭＲによる）の混合物が９．８ｇ（理論値の８１％）得られる。
【０１９９】
Ｃ１７Ｈ３３ＮＯ（２６７．４５）について要した分析：Ｃ７６．３４％， Ｈ１２．４４％， Ｎ５．２４％；実測：Ｃ７５．０１％， Ｈ１２．２７％， Ｎ４．８５％
【０２００】
【表１】
【０２０１】
実施例２
Ｏ−オクテニル立体障害性アミンエーテル（実施例１におけるのと同一物質）を、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ／Ｂｕ４ＮＩ触媒系を用いて、対応するニトロキシドと１−ｎ−オクテンとから調製。
【０２０２】
７．８ｇ（５０mmol）のＴＥＭＰＯ、５６．１ｇ（５００mmol）の１−ｎ−オクテン及び０．１８ｇ（０．５mmol）のヨウ化テトラブチルアンモニウムの撹拌混合物に、６．４ｇ（５０mmol）のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド（７０％水溶液）を５５℃で５０分以内に添加する。ＴＥＭＰＯが全て反応するまで温度を５５℃に５０分間維持する。反応混合物を２５℃に冷却し、過剰のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドが消失するまで、３１ｇの２０％ Ｎａ２ＳＯ３水溶液と共に撹拌する。次に、水性相を分離し、シクロヘキサンで洗浄する。一緒にされている有機相をシリカゲルプラグに通し、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレータで溶媒を留去すると１１ｇ（理論値の８２．３％）の生成物が得られる。これは上記と同じ１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示す。
【０２０３】
Ｃ１７Ｈ３３ＮＯ （２６７．４５）について要した分析：Ｃ７６．３４％， Ｈ１２．４４％， Ｎ５．２４％；実測：Ｃ７５．４８％， Ｈ１２．３０％， Ｎ５．２１％。
【０２０４】
実施例３
Ｏ−オクテニル立体障害性アミンエーテル（実施例１又は２の生成物）の水素化によって、Ｏ−オクチル立体障害性アミンエーテルを調製。
【０２０５】
【化３２】
【０２０６】
１０ｇ（３７．４mmol）の実施例１もしくは２の粗製物及び１．９ｇのＰｄ担持木炭（１０％）の混合物を１００mlメタノール中で２５℃、水素圧４バールにて水素化する。溶媒を濾過し蒸発すると、僅かに橙色の油として７ｇ（理論値の６９．５％）の２，２，６，６−テトラメチル−１−ｎ−オクチルオキシ−ピペリジン（約４０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）及び１−（１−エチル−ｎ−ヘキシルオキシ）−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン（約６０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）の混合物が得られる。
【０２０７】
Ｃ１７Ｈ３５ＮＯ （２６９．４８）について要した分析：Ｃ７５．７７％， Ｈ１３．０９％， Ｎ５．２０％；実測：Ｃ７４．７９％， Ｈ１２．７２％， Ｎ５．１９％
【０２０８】
【表２】
【０２０９】
１３Ｃ（ＤＥＰＴ）−ＮＭＲ（ＣＤＣl３）、δ（ｐｐｍ，Ｏ−Ｃ（ｎ）Ｈｘのみ）：７６．９４（０−Ｃ（Ｉ）Ｈ２）， ８３．１２（Ｏ−Ｃ（３）Ｈ）
【０２１０】
実施例４（比較）
Ｏ−オクチル立体障害性アミンエーテルを、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ／ＣｕＢｒ２触媒系を用いて、対応するニトロキシドとｎ−オクタンとを直接カップリングすることによって調製。
【０２１１】
【化３３】
【０２１２】
４．７ｇ（３０mmol）のＴＥＭＰＯ、３４．３ｇ（３００mmol）のｎ−オクタン、及び０．０６７ｇ（０．３０mmol）のＣｕＢｒ２の撹拌混合物に、１１．６ｇ（９０mmol）のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド（７０％水溶液）を６０℃にて６０分以内に加える。反応混合物の温度を６０℃にて２５時間維持する。溶液が未だ赤味がかっているうちに０．３０mmolのＣｕＢｒ２／９０mmolのｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドを更に加えて、反応混合物を８０℃にて１．７時間撹拌する。緑色がかった乳化液を２５℃に冷却し、過剰のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドが消失するまで、７５ｇの２０％ Ｎａ２ＳＯ３水溶液と共に撹拌する。次に、水相を分離し、オクタンで洗浄する。一緒にされている有機相をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレータで溶媒を留去する。フラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル９／１）で精製すると、２，２，６，６−テトラメチル−１−（１−メチル−ｎ−ヘプチルオキシ）−ピペリジン（約４０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）、２，２，６，６−テトラメチル−１−（１−エチル−ｎ−ヘキシルオキシ）−ピペリジン（約３０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）、及び２，２，６，６−テトラメチル−１−（プロピル−ｎ−ペンチルオキシ）−ピペリジン（約３０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）の混合物４．９ｇ（理論値の６０％）が得られる。
【０２１３】
Ｃ１７Ｈ３５ＮＯ（２６９．４７）について要した分析：Ｃ７５．７７％， Ｈ１３．０９％， Ｎ５．２０％；実測：Ｃ７５．７２％， Ｈ１３．０６％， Ｎ５．０２％．
【０２１４】
【表３】
【０２１５】
ＨＳＱＣ−分光測定により１３Ｃ／１Ｈの相関が確立される。Ｏ−Ｃ（２）Ｈ 及び Ｏ−Ｃ（４）Ｈは、１３Ｃ化学シフトの経験的な計算について記載するグラント−ポールの法則に従って暫定的に割り当てる。
【０２１６】
実施例５
Ｏ−オクテニル立体障害性アミンエーテルを、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ／ＣｕＢｒ２触媒系を用いて、対応するニトロキシドと１−ｎ−オクテンとから調製。
【０２１７】
【化３４】
【０２１８】
７．７ｇ（４５mmol）の２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリドン−Ｎ−オキシド、５２．１ｇ（４５０mmol）の１−ｎ−オクテン及び０．１ｇ（０．４５mmol）のＣｕＢｒ２の撹拌混合物に、１７．４ｇ（１３５mmol）のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド（７０％水溶液）を６０℃にて滴下する。反応混合物の温度を全２．４時間６０℃に保持する。緑色の乳化液を２５℃に冷却し、過剰のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドが消失するまで、８５ｇの２０％Ｎａ２ＳＯ３水溶液と共に撹拌する。次に、水相を分離し、シクロヘキサンで洗浄する。一緒にされている有機相をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレータで溶媒を留去する。フラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル９／１）で精製すると、２，２，６，６−テトラメチル−１−ｎ−オクタ−２−エニルオキシ−ピペリジン−４−オン（約４０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）及び２，２，６，６−テトラメチル−１−（１−ビニル−ｎ−ヘキシルオキシ）−ピペリジン−４−オン（約６０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）の混合物７ｇ（理論値の５５％）が得られる。
【０２１９】
Ｃ１７Ｈ３ｉＮＯ２（２８１．４４）についての分析：Ｃ７２．５５％， Ｈ１１．１０％， Ｎ４．９８％；実測：Ｃ７２．５０％， Ｈ１０．８４％， Ｎ４．７７％
【０２２０】
【表４】
【０２２１】
実施例６
Ｏ−オクチル立体障害性アミンエーテルをＯ−オクテニル立体障害性アミンエーテル（実施例５の生成物）の水素化によって調製。
【０２２２】
【化３５】
【０２２３】
１２．３ｇ（４３．７mmol）の実施例５の生成物及び０．８ｇのＰｔ担持木炭（１０％）の、１２０mlの酢酸エチルの混合物を２５℃、水素圧４バールにて水素化する。溶媒を濾過し留去すると、２，２，６，６−テトラメチル−１−ｎ−オクチルオキシ−ピペリジン−４−オン（約４０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）及び１−（１−エチル−ｎ−ヘキシルオキシ）−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−オン（約６０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）の混合物からなる無色油９．１５ｇ（理論値の７３．９％）が得られる。
【０２２４】
Ｃ１７Ｈ３３ＮＯ２（２８３．４５）について要する分析：Ｃ７２．０４％， Ｈ１１．７３％， Ｎ４．９４％；実測：Ｃ７１．６５％， Ｈ１１．３６％， Ｎ４．８６％
【０２２５】
【表５】
【０２２６】
実施例７（比較）
Ｏ−オクチル立体障害性アミンエーテルを、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ／ＣｕＢｒ２触媒系を用いて、対応するニトロキシドとｎ−オクタンとを直接にカップリングさせることによって調製。
【０２２７】
【化３６】
【０２２８】
１５．３ｇ（９０mmol）の２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリドン−Ｎ−オキシド、１０２．９ｇ（９００mmol）のｎ−オクタン及び０．２ｇ（０．９０mmol）のＣｕＢｒ２の撹拌混合物に、３４．８ｇ（２７０mmol）のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド（７０％水溶液）を８０℃にて６０分以内に加える。反応混合物の温度を８０℃にて１．５時間保持する。緑色乳化液を２５℃に冷却し、過剰のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドが消失するまで、１７０ｇの２０％Ｎａ２ＳＯ３水溶液と共に撹拌する。次に、水相を分離し、シクロへキサンで洗浄する。一緒にされている有機相をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレータで溶媒を留去する。フラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル８．５／１．５）で精製すると、２，２，６，６−テトラメチル−１−（１−メチル−ｎ−ヘプチルオキシ）−ピペリジン−４−オン（約４０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）、２，２，６，６−テトラメチル−１−（１−エチル−ｎ−ヘキシルオキシ）−ピペリジン−４−オン（約３０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）及び２，２，６，６−テトラメチル−１−（プロピル−ｎ−ペンチルオキシ）−ピペリジン−４−オン（約３０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）の混合物７．５ｇ（理論値の２９％）が得られる。
【０２２９】
Ｃ１７Ｈ３３ＮＯ２（２８３．４５）について要した分析：Ｃ７２．０４％， Ｈ１１．７３％， Ｎ４．９４％；実測：Ｃ７１．８０％， Ｈ１１．５７％， Ｎ４．６８％
【０２３０】
【表６】
【０２３１】
ＨＳＱＣ−分光測定により１３Ｃ／１Ｈの相関が確立される。Ｏ−Ｃ（２）Ｈ及びＯ−Ｃ（４）Ｈは、１３Ｃ化学シフトの経験的な計算について記載するグラント−ポールの法則に従って暫定的に割り当てる。
【０２３２】
実施例８
Ｏ−オクテニル立体障害性アミンエーテルを、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ／ＣｕＢｒ２触媒系を用いて、対応するニトロキシドと１−ｎ−オクテンとをカップリングさせて調製。
【０２３３】
【化３７】
【０２３４】
１０．２ｇ（２０mmol）のビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート（Prostab（登録商標）5415, Ciba Specialty Chemicals Inc）、４６．３ｇ（４００mmol）の１−ｎ−オクテン及び０．０９ｇ（０．４mmol）のＣｕＢｒ２の撹拌混合物に、７．７ｇ（６０mmol）のｔｅｒｔ−テトラヒドロペルオキシド（７０％水溶液）を６０℃で３０分以内に加える。緑色乳化液を２５℃に冷却し、過剰のｔｅｒｔ−テトラヒドロペルオキシドが消失するまで、１９ｇの２０％Ｎａ２ＳＯ３水溶液と共に撹拌する。有機相を分離し、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレータで溶媒を留去する。フラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル８．５／１．５）により精製すると、僅かに黄色の油が８．６ｇ（理論値の５９％）得られる。Ｒ，Ｒ′＝ｎ−オクタ−２−エン−１−イル対Ｒ，Ｒ′＝１−ビニル−ｎ−ヘキシルの総量の比は、約４０mol％対６０mol％である（１Ｈ−ＮＭＲによる）。
【０２３５】
Ｃ４４Ｈ８０Ｎ２Ｏ６（７３３．１３）について要する分析：Ｃ７２．０９％， Ｈ１１．００％， Ｎ３．８２％；実測：Ｃ７１．２４％， Ｈ１０．６６％， Ｎ３．６０％．
【０２３６】
【表７】
【０２３７】
実施例９
ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ／Ｂｕ４ＮＩ触媒系を用いて、対応するニトロキシドと１−ｎ−オクテンとをカップリングさせることによって、Ｏ−オクテニル立体障害性アミンエーテル（実施例８におけると同一の化合物）を調製。
【０２３８】
１２．８ｇ（２５mmol）のビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート（Prostab（登録商標）5415, Ciba Specialty Chemicals Inc．）、５６．１１ｇ（５００mmol）の１−ｎ−オクテン及び０．1８５ｇ（０．５mmol）のヨウ化テトラブチルアンモニウムの撹拌混合物に、９．６６ｇ（７５mmol）のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド（７０％水溶液）を６０℃にて３０分以内に加える。反応混合物の温度を６０℃に２時間保持する。黄色乳化液を２５℃に冷却し、過剰のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドが消失するまで、４７ｇの２０％Ｎａ２ＳＯ３水溶液と共に撹拌する。次に、水相を分離し、ペンタンで洗浄する。一緒にされている有機相をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレータで溶媒を留去すると、１４．４９ｇ（理論値の７９％）の黄味がかった油が得られる。これは、実施例８の混合物と同一の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示す。
【０２３９】
実施例１０
Ｏ−オクチル立体障害性アミンエーテルを、Ｏ−オクテニル立体障害性アミンエーテル（実施例８の生成物）の水素化によって調製。
【０２４０】
【化３８】
【０２４１】
３．９５ｇ（５．４mmol）の実施例８からの生成物及び０．３ｇのＰｄ担持木炭（１０％）の、５０mlのヘキサンの混合物を５０℃、水素圧４バールにて水素化する。溶媒を濾過し蒸発すると、３．３ｇ（理論値の８３％）の僅かに橙色の油が得られる。Ｒ，Ｒ′=１−ｎ−オクチル対Ｒ，Ｒ′＝１−エチル−ｎ−ヘキシルの総量の比は、約４０mol％対６０mol％（１Ｈ−ＮＭＲによる）である。
【０２４２】
Ｃ４４Ｈ８４Ｎ２Ｏ６（７３７．１６）についての分析：Ｃ７１．６９％， Ｈ１１．４９％， Ｎ３．８０％；実測：Ｃ７０．６８％， Ｈ１１．６４％， Ｎ３．７０％
【０２４３】
【表８】
【０２４４】
実施例１１
Ｏ−オクチル立体障害性アミンエーテルを、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ／ＣｕＣｌ２触媒系を用いて、対応するニトロキシドと１−ｎ−オクテンとをカップリングさせ、続いて水素化させることにより調製する（実施例１０におけると同一の生成物）。
【０２４５】
操作では１．６当量のｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨが使用される（ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨの量を減らすと生成物に残留するジアルキルペルオキシドの量が減少することがＤＳＣにより明らかにされている）。
【０２４６】
１７．９ｇ（３５mmol）のビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート（Prostab（登録商標）5415, Ciba Specialty Chemicals Inc）、８１ｇ（７００mmol）の１−ｎ−オクテン及び０．１ｇ（０．７mmol）のＣｕＣl２の撹拌混合物に、７．２ｇ（５６mmol）のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド（７０％水溶液）を６０℃で３０分以内に加える。反応混合物の温度を６０℃に全２．５時間保持する。緑色乳化液を２５℃に冷却し、過剰のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドが消失するまで、２２ｇの２０％Ｎａ２ＳＯ３水溶液と共に撹拌する。有機相を分離し、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレータで溶媒を留去すると黄色油が得られる。
【０２４７】
３００mlの酢酸エチル及び０．７ｇの１０％Ｐｔ担持炭素（０．３５mmol）を加えた後に、混合物を２５℃／水素圧４バールで水素化する。溶媒を濾過し蒸発すると、２３ｇ（理論値の８９％）の極めて僅かに褐色の油が得られる。これは、実施例１０におけると同一の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示す。
【０２４８】
Ｃ４４Ｈ８４Ｎ２Ｏ６（７３７．１６）について要した分析：Ｃ７１．６９％， Ｈ１１．４９％， Ｎ３．８０％；実測：Ｃ７０．９９％， Ｈ１１．２０％， Ｎ３．８０％
【０２４９】
実施例１２
Ｏ−オクチル立体障害性アミンエーテル（実施例１０及び１１と同一の生成物）を、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ／Ｂｕ４ＮＩ触媒系を用いて、対応するニトロキシドと１−ｎ−オクテンとをカップリングさせ、続いて水素化させることにより調製。
【０２５０】
操作では１．６当量のｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨが使用される。（ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨの量を減らすと生成物に残留するジアルキルペルオキシドの量が減少することがDSCにより明らかにされている）。
【０２５１】
１７．９ｇ（３５mmol）のビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート（Prostab（登録商標）5415, Ciba Specialty Chemicals Inc．）、８１ｇ（７００mmol）の１−ｎ−オクテン及び０．２６ｇ（０．７mmol）のＢｕ４ＮＩの撹拌混合物に、７．２ｇ（５６mmol）のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド（７０％水溶液）を６０℃で３０分以内に加える。反応混合物を全４．７５時間温度を６０℃に保持する。０．９ｇ（７mmol）のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドを更に加えて更に３０分間撹拌した後に、黄色乳化液を２５℃に冷却し、過剰のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドが消失するまで、２２ｇの２０％Ｎａ２ＳＯ３水溶液と共に撹拌する。有機相を分離し、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレータで溶媒を留去すると黄色油が得られる。
【０２５２】
３００mlの酢酸エチル及び０．７ｇの１０％Ｐｔ担持炭素（０．３５mmol）を加えた後に、混合物を２５℃／水素圧４バールにて水素化する。溶媒を濾過し蒸発すると、２３．９ｇ（理論値の９３％）の僅かに黄味がかった油が得られる。これは、実施例１０におけると同一の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示す。
【０２５３】
Ｃ４４Ｈ８４Ｎ２Ｏ６（７３７．１６）について要する分析：Ｃ７１．６９％， Ｈ１１．４９％， Ｎ３．８０％；実測：Ｃ７０．８５％， Ｈ１１．１１％， Ｎ３．８１％．
【０２５４】
実施例１２ａ
Ｏ−オクチル立体障害性アミンエーテル（実施例１０〜１２におけると同一の生成物）を中間体を単離せずに、すなわち、溶媒を換えずに調製。
【０２５５】
ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペラジン−４−イル）セバケート（Prostab（登録商標）5415, Ciba Specialty Chemicals Inc.；４．６ｇ，９．０mmol）、１−オクテン（９７％；２０．８ｇ、１７９．８mmol）及びＢｕ４ＮＩ（０．０６７ｇ，０．１８mmol）の撹拌混合物に、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド（水に７０％；２．１ｇ，１６．３mmol）を６０℃で１５分以内に加える。反応混合物の温度を全４．５時間６０℃に保持する。黄色乳化液を２５℃に冷却し、水相を分離する。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、Ｐｔ（炭素上１０％、０．１８ｇ、０．０９mmol）上で５０℃／８バールにて水素化する。濾過し、揮発分を蒸発すると黄味がかった油が得られる。これは、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルが実施例１０におけると同一である。
【０２５６】
Ｃ４４Ｈ８４Ｎ２Ｏ６（７３７．１６）について計算した分析：Ｃ７１．６９％， Ｈ１１．４９％， Ｎ３．８０％；実測：Ｃ７０．７８％， Ｈ１１．１０％， Ｎ３．７１％
【０２５７】
実施例１３
Ｏ−ヘキセニル立体障害性アミンエーテルを、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ／ＣｕＢｒ２触媒系を用いて、対応するニトロキシドと１−ｎ−ヘキセンとから調製。
【０２５８】
【化３９】
【０２５９】
１３．６２ｇ（８０mmol）の２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリドン−Ｎ−オキシド、６７．３ｇ（８００mmol）の１−ｎ−ヘキセン及び０．１７９ｇ（０．８mmol）のＣｕＢｒ２の撹拌混合物に、１５．４５ｇ（１２０mmol）のｔｅｒｔ−ブチルヒドロキシド（７０％水溶液）を還流（約６０℃）で１．１時間以内に加える。反応混合物の温度を全２．８時間還流に保持する。緑色乳化液を２５℃に冷却し、過剰のｔｅｒｔ−ブチルヒドロキシドが消失するまで、７５ｇの２０％Ｎａ２ＳＯ３水溶液と共に撹拌する。次に、水相を分離し、ペンタンで洗浄する。一緒にされている有機相を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレータで溶媒を留去すると１７．７５ｇ（理論値の８８％）の黄色液体が得られる。フラッシュ−クロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキセン／酢酸エチル９／１）で精製すると、２，２，６，６−テトラメチル−１−ｎ−ヘキサ−２−エニルオキシ−ピペリジン−４−オン（約４０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）及び２，２，６，６−テトラメチル−１−（１−エチル−ｎ−ブチルオキシ）−ピペリジン−４−オン（約６０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）の混合物が１２．８ｇ（理論値の６３％）得られる。
【０２６０】
Ｃ１５Ｈ２７ＮＯ２（２５３．３８）について要した分析：Ｃ７１．１０％， Ｈ１０．７４％， Ｎ５．５３％；実測：Ｃ６９．８２％， Ｈ１０．５３％， Ｎ５．２５％
【０２６１】
【表９】
【０２６２】
実施例１４
Ｏ−ヘキセニル立体障害性アミンエーテル（実施例１３の生成物）の水素化によって、Ｏ−ヘキシル立体障害性アミンエーテルを調製。
【０２６３】
【化４０】
【０２６４】
１２．８ｇ（５０．５mmol）の実施例１３の生成物及び０．９ｇのＰｔ担持木炭（１０％）の、酢酸エチル１２０mlの混合物を２５℃、水素圧４バールにて水素化する。溶媒を濾過し蒸発すると、２，２，６，６−テトラメチル−１−ｎ−ヘキシルオキシ−ピペリジン−４−オン（約４０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）及び１−（１−エチル−ｎ−ブチルオキシ）−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−オン（約６０mol％、１Ｈ−ＮＭＲによる）の混合物からなる僅かに赤味がかった油１０．４８ｇ（理論値の８１．２％）が得られる。
【０２６５】
Ｃｉ５Ｈ２９ＮＯ２（２５５．４０）について要した分析：Ｃ７０．５４％， Ｈ１１．４４％， Ｎ５．４８％；実測：Ｃ７０．３３％， Ｈ１１．１０％， Ｎ５．３７％
【０２６６】
【表１０】
【０２６７】
実施例１５
【０２６８】
【化４１】
【０２６９】
本発明アミノエーテルを、熱硬化性アクリル／メラミンクリアコート（Viacryl（登録商標）SC 303／Viacryl（登録商標）SC 370／Maprenal（登録商標）MF 650をベースとする）中に、配合物の固形物含量（５０．４％）を基準にして１％の濃度で組み込む。このクリアコートをシルバーメタリックのベースコートの上に噴霧し、硬化（１３０℃／３０分）させてクリアコートの乾燥膜の厚さを４０μｍとする。基材としては、ＡＣＴラボラトリー（ACT Laboratories, Inc, Southfield, Michigan 48 075, USA）から市販されているままの、電子コーテッドアルミニウムパネル（１０ｘ３０ｃｍ）を使用している。続いて、パネルをＸｅｎｏｎ−ＷＯＭ耐候性試験機（Atlas Corp）にSAE J 1960に従って曝露する。規定の時間間隔で２０°の光沢を記録する。試験結果を表１１にまとめてある：
【０２７０】
【表１１】
【０２７１】
実施例１６
実施例１５に記載と同様な実験を行うが、本発明のアミノエーテルを１．５％紫外線吸収剤１（TINUVIN（登録商標）384）（濃度はクリアコート配合物の固形物含量を基準にする）と組み合わせて試験する。結果を表１２にまとめてある：
【０２７２】
【化４２】
【０２７３】
【表１２】
【０２７４】
クリアコート配合
ａ）Viacryl SC 303：アクリル樹脂（Solutia、前Vianova Resins）（キシレン／ブタノール２６：９ ｗｔ／ｗｔ中に６５％溶液） ７．５１ｇ
ｂ）Viacryl SC 370：アクリル樹脂 （Solutia、前Vianova Resins）（Solvesso 100（芳香族炭化水素 ｂｐ．１６３〜１８０℃（Exxon Corp））中に７５％） ２３．３４ｇ
ｃ）Maprenal MF 650：メラミン樹脂（Solutia、前Vianova Resins）（イソブタノール中５５％） ２７．２９ｇ
ｄ）ブチルアカエテート／ブタノール（３７：８ｗｔ／ｗｔ） ４．３３ｇ
ｅ）イソブタノール ４．８７ｇ
ｆ）Solvesso 150：芳香族炭化水素 ｂｐ．１８０〜２０３℃（Exxon Corp） ２．７２ｇ
ｇ）Crystal oil 30：脂肪族炭化水素 ｂｐ．１４５〜２００℃（Shell Corp)８．７４ｇ
ｈ）Baysilone MA：レベリング剤（Bayer AG）（Solvesso 150中に１％） １．２０ｇ
全量 １００．００ｇ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
立体障害性アミンエーテルの調製方法であって、有機ヒドロペルオキシドの存在下で、対応する立体障害性アミンオキシドとＣ５〜Ｃ１８アルカ−１−エンとを反応させる工程を含む調製方法。
【請求項２】
得られた生成物が引き続き水素化される、請求項１記載の方法。
【請求項３】
立体障害性アミンオキシドが、式（II）の基を少なくとも１個含有する、請求項１記載の方法。
【化１】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は、独立に炭素原子１〜４のアルキルであり、あるいはＧ１とＧ２及び／又はＧ３とＧ４が一緒になってテトラメチレン又はペンタメチレンである］
【請求項４】
得られた立体障害性アミンエーテルが式（III）の基を少なくとも１個含有する、請求項１又は２記載の方法。
【化２】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は請求項３で定義した通りであり、ＥはＣ５〜Ｃ１８アルキル又はＣ５〜Ｃ１８アルカ−２−エニルである］
【請求項５】
Ｇ１及びＧ３がメチル、Ｇ２及びＧ４が独立にメチル又はエチルである、請求項３又は４記載の方法。
【請求項６】
立体障害性アミンエーテルが式（Ａ）〜（Ｏ）のいずれかである、請求項４記載の方法。
【化３】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は請求項４で定義した通りであり、
ＥはＣ５〜Ｃ１８アルキル又はＣ５〜Ｃ１８アルカ−２−エニルであり；
ｍは０又は１であり；
Ｒ１は水素、ヒドロキシル、又はヒドロキシメチルであり；
Ｒ２は水素、炭素原子１〜１２のアルキル、又は炭素原子２〜１２のアルケニルであり、
ｎは１〜４であり、
ｎが１である場合には、
Ｒ３は、水素、炭素原子１〜１８のアルキル、炭素原子４〜１８のアルコキシカルボニルアルキレンカルボニル、炭素原子２〜１８のアルケニル、グリシジル、２，３−ジヒドロキシプロピル、炭素原子３〜１２の２−ヒドロキシもしくは２−（ヒドロキシメチル）置換アルキルであって、アルキルが酸素によって中断されているもの、炭素原子２〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のカルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、炭素原子７〜１２を含有する脂環式カルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、あるいは炭素原子７〜１５を含有する芳香族酸のアシルラジカルであり；
ｎが２である場合には、
Ｒ３は、炭素原子２〜１８のアルキレン、炭素原子２〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のジカルボン酸又はジカルバミン酸の２価アシルラジカル、炭素原子７〜１２を含有する脂環式ジカルボン酸又はジカルバミン酸の２価アシルラジカル、あるいは炭素原子８〜１５を含有する芳香族ジカルボン酸の２価アシルラジカルであり、
ｎが３である場合には、
Ｒ３は、炭素原子６〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のトリカルボン酸の３価アシルラジカル、あるいは炭素原子９〜１５を含有する芳香族トリカルボン酸の３価アシルラジカルであり、
ｎが４である場合には、
Ｒ３は、脂肪族もしくは不飽和脂肪族のテトラカルボン酸、特に１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸、１，２，３，４−ブタ−２−エンテトラカルボン酸、１，２，３，５−ペンタンテトラカルボン酸、及び１，２，４，５−ペンタンテトラカルボン酸、の４価アシルラジカル、あるいは炭素原子１０〜１８を含有する芳香族テトラカルボン酸の４価アシルラジカルであり、
ｐは１〜３であり、
Ｒ４は、水素、炭素原子１〜１８のアルキル、又は炭素原子２〜６のアシル、又はフェニルであり、
ｐが１の場合には、
Ｒ５は、水素、フェニル、炭素原子１〜１８のアルキル、炭素原子２〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のカルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、炭素原子７〜１２を含有する脂環式カルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、又は炭素原子７〜１５を含有する芳香族カルボン酸のアシルラジカルであり、あるいはＲ４及びＲ５が一緒になって−（ＣＨ２）５ＣＯ−、フタロイル、又はマレイン酸の２価アシルラジカルであり、
ｐが２の場合には、
Ｒ５は、炭素原子２〜１２のアルキレン、炭素原子２〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のジカルボン酸又はジカルバミン酸の２価アシルラジカル、炭素原子７〜１２を含有する脂環式ジカルボン酸又はジカルバミン酸の２価アシルラジカル、あるいは炭素原子８〜１５を含有する芳香族ジカルボン酸の２価アシルラジカルであり、
ｐが３である場合には、
Ｒ５は、炭素原子６〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のトリカルボン酸の３価アシルラジカル、あるいは炭素原子９〜１５を含有する芳香族トリカルボン酸の３価アシルラジカルであり、
ｒは１〜４であり、
ｒが１の場合には、
Ｒ６は、炭素原子１〜１８のアルコキシ、炭素原子２〜１８のアルケニルオキシ、炭素原子１〜１８の−ＮＨアルキル、又は炭素原子２〜３６の−Ｎ（アルキル）２であり、
ｒが２の場合には、
Ｒ６は、炭素原子２〜１８のアルキレンジオキシ、炭素原子２〜１８のアルケニレンジオキシ、炭素原子２〜１８の−ＮＨ−アルキレン−ＮＨ−、又は炭素原子２〜１８の−Ｎ（アルキル）−アルキレン−Ｎ（アルキル）−であり、あるいはＲ６は４−メチル−１，３−フェニレンジアミノであり、
ｒが３の場合には、
Ｒ６は、炭素原子３〜１８を含有する飽和又は不飽和脂肪族トリオールの３価アルコキシラジカルであり、
ｒが４の場合には、
Ｒ６は、炭素原子４〜１８を含有する飽和又は不飽和脂肪族テトラオールの４価アルコキシラジカルであり、
Ｒ７及びＲ８は、独立に塩素、炭素原子１〜１８のアルコキシ、−Ｏ−Ｔ１；２−ヒドロキシエチルで置換されたアミノ、炭素原子１〜１８の−ＮＨ（アルキル）、炭素原子１〜１８のアルキルを有する−Ｎ（アルキル）Ｔ１、又は炭素原子２〜３６の−Ｎ（アルキル）２であり、
Ｒ９は酸素であり、あるいはＲ９は、水素、炭素原子１〜１２のアルキル又はＴ１のいずれかによって置換された窒素であり、
Ｔ１は
【化４】
であり、
Ｒ１０は、水素又はメチルであり、
ｑは２〜８であり、
Ｒ１１及びＲ１２は独立に水素又は基Ｔ２であり、
Ｔ２は
【化５】
であり、
Ｒ１３は、水素、フェニル、炭素原子１〜１２の直鎖もしくは分枝状のアルキル、炭素原子１〜１２のアルコキシ、フェニルにより置換された炭素原子１〜４の直鎖もしくは分枝状のアルキル、炭素原子５〜８のシクロアルキル、炭素原子５〜８のシクロアルケニル、炭素原子２〜１２のアルケニル、グリシジル、アリルオキシ、炭素原子１〜４の直鎖もしくは分枝状のヒドロキシアルキル、あるいは水素により、フェニルにより、炭素原子１〜４のアルキルにより、又は炭素原子１〜４のアルコキシにより独立に３回置換されたシリル又はシリルオキシであり、
Ｒ１４は、水素、あるいは水素により、フェニルにより、炭素原子１〜４のアルキルにより、又は炭素原子１〜４のアルコキシにより独立に３回置換されたシリルであり、
ｄは０又は１であり、
ｈは０〜４であり、
ｋは０〜５であり、
ｘは３〜６であり、
ｙは１〜１０であり、
ｚは化合物の分子量が１０００〜４０００ａｍｕとなるような整数、例えばｚは３〜１０の範囲であってよく、
Ｒ１５は、モルホリノ、ピペリジノ、１−ピペリジニル、炭素原子１〜８のアルキルアミノ、特に炭素原子３〜８の分枝状のアルキルアミノ、例えばｔｅｒｔ−オクチルアミノ、炭素原子１〜８のアルキルを有する−Ｎ（アルキル）Ｔ１、又は炭素原子２〜１６の−Ｎ（アルキル）２であり、
Ｒ１６は、水素、炭素原子２〜４のアシル、炭素原子１〜４のアルキルにより置換されたカルバモイル、塩素により１回及びＲ１５により１回置換されたｓ−トリアジニル、あるいはＲ１５により２回置換されたｓ−トリアジニル、ただし、２個のＲ１５置換基は異なりうるものであり、
Ｒ１７は、塩素；炭素原子１〜８のアルキルにより、もしくはＴ１により置換されたアミノ、炭素原子１〜８のアルキルを有する−Ｎ（アルキル）Ｔ１、炭素原子２〜１６の−Ｎ（アルキル）２、又は基Ｔ３であり、
Ｔ３は
【化６】
であり
Ｒ１８は、水素、炭素原子２〜４のアシル、炭素原子１〜４のアルキルにより置換されたカルバモイル、炭素原子２〜１６の−Ｎ（アルキル）２により２回置換されたｓ−トリアジニル、又は炭素原子１〜８のアルキルを有する−Ｎ（アルキル）Ｔ１により２回置換されたｓ−トリアジニルであり、
Ｒ３０は、水素、炭素原子１〜１８のアルキル、炭素原子４〜１８のアルコキシカルボニルアルキレンカルボニル、炭素原子２〜１８のアルケニル、グリシジル、２，３−ジヒドロキシプロピル、炭素原子３〜１２の２−ヒドロキシもしくは２−（ヒドロキシメチル）置換アルキルであって、アルキルが酸素によって中断されているもの、炭素原子２〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のカルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、炭素原子７〜１２を含有する脂環式カルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、あるいは炭素原子７〜１５を含有する芳香族酸のアシルラジカルである］
【請求項７】
Ｃ５〜Ｃ１８アルカ−１−エンがＣ６〜Ｃ１２アルカ−１−エンである、請求項１記載の方法。
【請求項８】
反応が更なる触媒の存在下で行われる、請求項１記載の方法。
【請求項９】
更なる触媒が、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ガリウム、ゲルマニウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、カドミウム、インジウム、錫、アンチモン、ランタン、セリウム、ハフニウム、タンタル、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金、金、水銀、タリウム、鉛、ビスマス、これらの化合物、ヨウ化アンモニウム、及びヨウ化ホスホニウムからなる群から選択される、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
更なる触媒が、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、セリウム、これらのハロゲン化物及び酸化物、ヨウ化アンモニウム、ならびにヨウ化ホスホニウムからなる群から選択される、請求項８記載の方法。
【請求項１１】
有機ヒドロペルオキシドが炭素原子３〜１８を含有する、請求項１記載の方法。
【請求項１２】
水素化が水素化触媒の存在下で行われる、請求項２記載の方法。
【請求項１３】
水素化触媒が、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、リンドラー触媒、白金化合物、パラジウム化合物、ルテニウム化合物、ロジウム化合物、イリジウム化合物、ニッケル化合物、亜鉛化合物、及びコバルト化合物からなる群から選択される、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
式（Ｚａ）の立体障害性アミンエーテルの混合物：
【化７】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は請求項３で定義した通りであり、
Ｅ１０は、非置換、あるいは−ＯＨ、＝Ｏにより、又は総炭素原子１〜５００を含有する１個又は２個の有機残基により置換された炭素原子であり、
Ｅ１は、ラジカル：
【化８】
（式中、Ｑ１はＣ２〜Ｃ１５アルキルである）の混合物であり、
ただし、立体障害性アミンエーテルの混合物は、式（１００）及び（１０１）
【化９】
の化合物の混合物ではない］
【請求項１５】
請求項６に定義される通りの（Ａ）〜（Ｏ）によって表される立体障害性アミンエーテルの混合物であって、各ＥがＥ１に置き換えられている、請求項１４記載の混合物。
【請求項１６】
式（Ｙ）の基を少なくとも１個含有する立体障害性アミンエーテルの混合物：
【化１０】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は請求項３で定義した通りであり、
Ｅ２は、ラジカル
【化１１】
（式中、Ｑ１はＣ２〜Ｃ１５アルキルである）の混合物である］。
【請求項１７】
請求項６に定義される通りの式（Ａ）〜（Ｏ）によって表される立体障害性アミンエーテルの混合物であって、各ＥがＥ２に置き換えられている、請求項１６記載の混合物。
【請求項１８】
Ｅ１ａ：Ｅ１ｂの比及びＥ２ａ：Ｅ２ｂの比がそれぞれ独立に１：９〜７：３である、請求項１４〜１７のいずれか一に記載の混合物。
【請求項１９】
光、酸素、及び／又は熱による分解に対して有機材料を難燃化し、又は有機材料を安定化する方法であって、該方法が、請求項１４〜１７のいずれか一に定義する立体障害性アミンエーテルの混合物を該材料に適用する工程又は組み込む工程を含む方法。
【請求項２０】
Ａ）酸化的、熱的及び／又は光化学的分解に感応性の有機材料、ならびに
Ｂ）請求項１４〜１７のいずれか一に定義する通りの立体障害性アミンエーテルの少なくとも１種の混合物、
を含む組成物。
【請求項２１】
更なる添加物が含まれる、請求項２０記載の組成物。
【請求項２２】
更なる添加物として、抗酸化剤、ＵＶ吸収剤、光安定化剤、金属脱活性化剤、ホスファイト、ホスホナイト、ヒドロキシルアミン、ニトロン、チオ相乗剤、過酸化物捕捉剤、塩基性補助安定剤、核形成剤、充填剤、補強剤、ベンゾフラノン、インドリノン及び／又は防炎剤が含まれる、請求項２１記載の組成物。
【請求項１】
立体障害性アミンエーテルの調製方法であって、有機ヒドロペルオキシドの存在下で、対応する立体障害性アミンオキシドとＣ５〜Ｃ１８アルカ−１−エンとを反応させる工程を含む調製方法。
【請求項２】
得られた生成物が引き続き水素化される、請求項１記載の方法。
【請求項３】
立体障害性アミンオキシドが、式（II）の基を少なくとも１個含有する、請求項１記載の方法。
【化１】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は、独立に炭素原子１〜４のアルキルであり、あるいはＧ１とＧ２及び／又はＧ３とＧ４が一緒になってテトラメチレン又はペンタメチレンである］
【請求項４】
得られた立体障害性アミンエーテルが式（III）の基を少なくとも１個含有する、請求項１又は２記載の方法。
【化２】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は請求項３で定義した通りであり、ＥはＣ５〜Ｃ１８アルキル又はＣ５〜Ｃ１８アルカ−２−エニルである］
【請求項５】
Ｇ１及びＧ３がメチル、Ｇ２及びＧ４が独立にメチル又はエチルである、請求項３又は４記載の方法。
【請求項６】
立体障害性アミンエーテルが式（Ａ）〜（Ｏ）のいずれかである、請求項４記載の方法。
【化３】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は請求項４で定義した通りであり、
ＥはＣ５〜Ｃ１８アルキル又はＣ５〜Ｃ１８アルカ−２−エニルであり；
ｍは０又は１であり；
Ｒ１は水素、ヒドロキシル、又はヒドロキシメチルであり；
Ｒ２は水素、炭素原子１〜１２のアルキル、又は炭素原子２〜１２のアルケニルであり、
ｎは１〜４であり、
ｎが１である場合には、
Ｒ３は、水素、炭素原子１〜１８のアルキル、炭素原子４〜１８のアルコキシカルボニルアルキレンカルボニル、炭素原子２〜１８のアルケニル、グリシジル、２，３−ジヒドロキシプロピル、炭素原子３〜１２の２−ヒドロキシもしくは２−（ヒドロキシメチル）置換アルキルであって、アルキルが酸素によって中断されているもの、炭素原子２〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のカルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、炭素原子７〜１２を含有する脂環式カルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、あるいは炭素原子７〜１５を含有する芳香族酸のアシルラジカルであり；
ｎが２である場合には、
Ｒ３は、炭素原子２〜１８のアルキレン、炭素原子２〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のジカルボン酸又はジカルバミン酸の２価アシルラジカル、炭素原子７〜１２を含有する脂環式ジカルボン酸又はジカルバミン酸の２価アシルラジカル、あるいは炭素原子８〜１５を含有する芳香族ジカルボン酸の２価アシルラジカルであり、
ｎが３である場合には、
Ｒ３は、炭素原子６〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のトリカルボン酸の３価アシルラジカル、あるいは炭素原子９〜１５を含有する芳香族トリカルボン酸の３価アシルラジカルであり、
ｎが４である場合には、
Ｒ３は、脂肪族もしくは不飽和脂肪族のテトラカルボン酸、特に１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸、１，２，３，４−ブタ−２−エンテトラカルボン酸、１，２，３，５−ペンタンテトラカルボン酸、及び１，２，４，５−ペンタンテトラカルボン酸、の４価アシルラジカル、あるいは炭素原子１０〜１８を含有する芳香族テトラカルボン酸の４価アシルラジカルであり、
ｐは１〜３であり、
Ｒ４は、水素、炭素原子１〜１８のアルキル、又は炭素原子２〜６のアシル、又はフェニルであり、
ｐが１の場合には、
Ｒ５は、水素、フェニル、炭素原子１〜１８のアルキル、炭素原子２〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のカルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、炭素原子７〜１２を含有する脂環式カルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、又は炭素原子７〜１５を含有する芳香族カルボン酸のアシルラジカルであり、あるいはＲ４及びＲ５が一緒になって−（ＣＨ２）５ＣＯ−、フタロイル、又はマレイン酸の２価アシルラジカルであり、
ｐが２の場合には、
Ｒ５は、炭素原子２〜１２のアルキレン、炭素原子２〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のジカルボン酸又はジカルバミン酸の２価アシルラジカル、炭素原子７〜１２を含有する脂環式ジカルボン酸又はジカルバミン酸の２価アシルラジカル、あるいは炭素原子８〜１５を含有する芳香族ジカルボン酸の２価アシルラジカルであり、
ｐが３である場合には、
Ｒ５は、炭素原子６〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のトリカルボン酸の３価アシルラジカル、あるいは炭素原子９〜１５を含有する芳香族トリカルボン酸の３価アシルラジカルであり、
ｒは１〜４であり、
ｒが１の場合には、
Ｒ６は、炭素原子１〜１８のアルコキシ、炭素原子２〜１８のアルケニルオキシ、炭素原子１〜１８の−ＮＨアルキル、又は炭素原子２〜３６の−Ｎ（アルキル）２であり、
ｒが２の場合には、
Ｒ６は、炭素原子２〜１８のアルキレンジオキシ、炭素原子２〜１８のアルケニレンジオキシ、炭素原子２〜１８の−ＮＨ−アルキレン−ＮＨ−、又は炭素原子２〜１８の−Ｎ（アルキル）−アルキレン−Ｎ（アルキル）−であり、あるいはＲ６は４−メチル−１，３−フェニレンジアミノであり、
ｒが３の場合には、
Ｒ６は、炭素原子３〜１８を含有する飽和又は不飽和脂肪族トリオールの３価アルコキシラジカルであり、
ｒが４の場合には、
Ｒ６は、炭素原子４〜１８を含有する飽和又は不飽和脂肪族テトラオールの４価アルコキシラジカルであり、
Ｒ７及びＲ８は、独立に塩素、炭素原子１〜１８のアルコキシ、−Ｏ−Ｔ１；２−ヒドロキシエチルで置換されたアミノ、炭素原子１〜１８の−ＮＨ（アルキル）、炭素原子１〜１８のアルキルを有する−Ｎ（アルキル）Ｔ１、又は炭素原子２〜３６の−Ｎ（アルキル）２であり、
Ｒ９は酸素であり、あるいはＲ９は、水素、炭素原子１〜１２のアルキル又はＴ１のいずれかによって置換された窒素であり、
Ｔ１は
【化４】
であり、
Ｒ１０は、水素又はメチルであり、
ｑは２〜８であり、
Ｒ１１及びＲ１２は独立に水素又は基Ｔ２であり、
Ｔ２は
【化５】
であり、
Ｒ１３は、水素、フェニル、炭素原子１〜１２の直鎖もしくは分枝状のアルキル、炭素原子１〜１２のアルコキシ、フェニルにより置換された炭素原子１〜４の直鎖もしくは分枝状のアルキル、炭素原子５〜８のシクロアルキル、炭素原子５〜８のシクロアルケニル、炭素原子２〜１２のアルケニル、グリシジル、アリルオキシ、炭素原子１〜４の直鎖もしくは分枝状のヒドロキシアルキル、あるいは水素により、フェニルにより、炭素原子１〜４のアルキルにより、又は炭素原子１〜４のアルコキシにより独立に３回置換されたシリル又はシリルオキシであり、
Ｒ１４は、水素、あるいは水素により、フェニルにより、炭素原子１〜４のアルキルにより、又は炭素原子１〜４のアルコキシにより独立に３回置換されたシリルであり、
ｄは０又は１であり、
ｈは０〜４であり、
ｋは０〜５であり、
ｘは３〜６であり、
ｙは１〜１０であり、
ｚは化合物の分子量が１０００〜４０００ａｍｕとなるような整数、例えばｚは３〜１０の範囲であってよく、
Ｒ１５は、モルホリノ、ピペリジノ、１−ピペリジニル、炭素原子１〜８のアルキルアミノ、特に炭素原子３〜８の分枝状のアルキルアミノ、例えばｔｅｒｔ−オクチルアミノ、炭素原子１〜８のアルキルを有する−Ｎ（アルキル）Ｔ１、又は炭素原子２〜１６の−Ｎ（アルキル）２であり、
Ｒ１６は、水素、炭素原子２〜４のアシル、炭素原子１〜４のアルキルにより置換されたカルバモイル、塩素により１回及びＲ１５により１回置換されたｓ−トリアジニル、あるいはＲ１５により２回置換されたｓ−トリアジニル、ただし、２個のＲ１５置換基は異なりうるものであり、
Ｒ１７は、塩素；炭素原子１〜８のアルキルにより、もしくはＴ１により置換されたアミノ、炭素原子１〜８のアルキルを有する−Ｎ（アルキル）Ｔ１、炭素原子２〜１６の−Ｎ（アルキル）２、又は基Ｔ３であり、
Ｔ３は
【化６】
であり
Ｒ１８は、水素、炭素原子２〜４のアシル、炭素原子１〜４のアルキルにより置換されたカルバモイル、炭素原子２〜１６の−Ｎ（アルキル）２により２回置換されたｓ−トリアジニル、又は炭素原子１〜８のアルキルを有する−Ｎ（アルキル）Ｔ１により２回置換されたｓ−トリアジニルであり、
Ｒ３０は、水素、炭素原子１〜１８のアルキル、炭素原子４〜１８のアルコキシカルボニルアルキレンカルボニル、炭素原子２〜１８のアルケニル、グリシジル、２，３−ジヒドロキシプロピル、炭素原子３〜１２の２−ヒドロキシもしくは２−（ヒドロキシメチル）置換アルキルであって、アルキルが酸素によって中断されているもの、炭素原子２〜１８を含有する脂肪族もしくは不飽和脂肪族のカルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、炭素原子７〜１２を含有する脂環式カルボン酸又はカルバミン酸のアシルラジカル、あるいは炭素原子７〜１５を含有する芳香族酸のアシルラジカルである］
【請求項７】
Ｃ５〜Ｃ１８アルカ−１−エンがＣ６〜Ｃ１２アルカ−１−エンである、請求項１記載の方法。
【請求項８】
反応が更なる触媒の存在下で行われる、請求項１記載の方法。
【請求項９】
更なる触媒が、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ガリウム、ゲルマニウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、カドミウム、インジウム、錫、アンチモン、ランタン、セリウム、ハフニウム、タンタル、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金、金、水銀、タリウム、鉛、ビスマス、これらの化合物、ヨウ化アンモニウム、及びヨウ化ホスホニウムからなる群から選択される、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
更なる触媒が、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、セリウム、これらのハロゲン化物及び酸化物、ヨウ化アンモニウム、ならびにヨウ化ホスホニウムからなる群から選択される、請求項８記載の方法。
【請求項１１】
有機ヒドロペルオキシドが炭素原子３〜１８を含有する、請求項１記載の方法。
【請求項１２】
水素化が水素化触媒の存在下で行われる、請求項２記載の方法。
【請求項１３】
水素化触媒が、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、リンドラー触媒、白金化合物、パラジウム化合物、ルテニウム化合物、ロジウム化合物、イリジウム化合物、ニッケル化合物、亜鉛化合物、及びコバルト化合物からなる群から選択される、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
式（Ｚａ）の立体障害性アミンエーテルの混合物：
【化７】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は請求項３で定義した通りであり、
Ｅ１０は、非置換、あるいは−ＯＨ、＝Ｏにより、又は総炭素原子１〜５００を含有する１個又は２個の有機残基により置換された炭素原子であり、
Ｅ１は、ラジカル：
【化８】
（式中、Ｑ１はＣ２〜Ｃ１５アルキルである）の混合物であり、
ただし、立体障害性アミンエーテルの混合物は、式（１００）及び（１０１）
【化９】
の化合物の混合物ではない］
【請求項１５】
請求項６に定義される通りの（Ａ）〜（Ｏ）によって表される立体障害性アミンエーテルの混合物であって、各ＥがＥ１に置き換えられている、請求項１４記載の混合物。
【請求項１６】
式（Ｙ）の基を少なくとも１個含有する立体障害性アミンエーテルの混合物：
【化１０】
［式中、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、及びＧ４は請求項３で定義した通りであり、
Ｅ２は、ラジカル
【化１１】
（式中、Ｑ１はＣ２〜Ｃ１５アルキルである）の混合物である］。
【請求項１７】
請求項６に定義される通りの式（Ａ）〜（Ｏ）によって表される立体障害性アミンエーテルの混合物であって、各ＥがＥ２に置き換えられている、請求項１６記載の混合物。
【請求項１８】
Ｅ１ａ：Ｅ１ｂの比及びＥ２ａ：Ｅ２ｂの比がそれぞれ独立に１：９〜７：３である、請求項１４〜１７のいずれか一に記載の混合物。
【請求項１９】
光、酸素、及び／又は熱による分解に対して有機材料を難燃化し、又は有機材料を安定化する方法であって、該方法が、請求項１４〜１７のいずれか一に定義する立体障害性アミンエーテルの混合物を該材料に適用する工程又は組み込む工程を含む方法。
【請求項２０】
Ａ）酸化的、熱的及び／又は光化学的分解に感応性の有機材料、ならびに
Ｂ）請求項１４〜１７のいずれか一に定義する通りの立体障害性アミンエーテルの少なくとも１種の混合物、
を含む組成物。
【請求項２１】
更なる添加物が含まれる、請求項２０記載の組成物。
【請求項２２】
更なる添加物として、抗酸化剤、ＵＶ吸収剤、光安定化剤、金属脱活性化剤、ホスファイト、ホスホナイト、ヒドロキシルアミン、ニトロン、チオ相乗剤、過酸化物捕捉剤、塩基性補助安定剤、核形成剤、充填剤、補強剤、ベンゾフラノン、インドリノン及び／又は防炎剤が含まれる、請求項２１記載の組成物。
【公表番号】特表２００７−５２９４６７（Ｐ２００７−５２９４６７Ａ）
【公表日】平成１９年１０月２５日（２００７．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−５０３３２７（Ｐ２００７−５０３３２７）
【出願日】平成１７年３月７日（２００５．３．７）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００５／０５０９９５
【国際公開番号】ＷＯ２００５／０９０３０７
【国際公開日】平成１７年９月２９日（２００５．９．２９）
【出願人】（３９６０２３９４８）チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド (530)
【氏名又は名称原語表記】Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｉｎｃ．
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成１９年１０月２５日（２００７．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年３月７日（２００５．３．７）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００５／０５０９９５
【国際公開番号】ＷＯ２００５／０９０３０７
【国際公開日】平成１７年９月２９日（２００５．９．２９）
【出願人】（３９６０２３９４８）チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド (530)
【氏名又は名称原語表記】Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｉｎｃ．
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]